JPS62226410A - 磁気ヘツド - Google Patents
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- JPS62226410A JPS62226410A JP6832886A JP6832886A JPS62226410A JP S62226410 A JPS62226410 A JP S62226410A JP 6832886 A JP6832886 A JP 6832886A JP 6832886 A JP6832886 A JP 6832886A JP S62226410 A JPS62226410 A JP S62226410A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 216
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims description 58
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 18
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- BVGSSXDMHDNNIF-UHFFFAOYSA-N (4-oxo-2,3-dihydro-1h-cyclopenta[c]chromen-7-yl) 3-chloro-4-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonylamino]acetyl]oxybenzoate Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(=O)CNC(=O)OC(C)(C)C)=CC=C1C(=O)OC1=CC=C(C2=C(CCC2)C(=O)O2)C2=C1 BVGSSXDMHDNNIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 235000014347 soups Nutrition 0.000 description 1
- 238000007782 splat cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3113—Details for improving the magnetic domain structure or avoiding the formation or displacement of undesirable magnetic domains
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気ヘッドに関し、特に記録再生特性にすぐれ
た磁性膜を用いたリング型磁気ヘッドに関する。
た磁性膜を用いたリング型磁気ヘッドに関する。
[従来の技術]
磁気記録の分野において、近年、高密度化の進展には目
ざましいものがある。記録媒体においては高保磁力化、
薄膜化され、磁気ヘッドにおいては高保磁力の記録媒体
の特性を十分引出すために高飽和磁束密度で高透磁率を
有する材料が必要である。この様なヘッド材料として、
Ni−Fe系。
ざましいものがある。記録媒体においては高保磁力化、
薄膜化され、磁気ヘッドにおいては高保磁力の記録媒体
の特性を十分引出すために高飽和磁束密度で高透磁率を
有する材料が必要である。この様なヘッド材料として、
Ni−Fe系。
Fe−AM−8i系などの結晶質磁性合金な、最近にな
って、Fe、Co、Niを主成分とし、それに希土類元
素およびメタロイド元素を含み、また、特性改良のため
にその他の元素を含んだ非晶質合金等がある。これらの
磁性材料を磁気ヘッドに応用する場合には、従来、圧延
あるいは切断、研削。
って、Fe、Co、Niを主成分とし、それに希土類元
素およびメタロイド元素を含み、また、特性改良のため
にその他の元素を含んだ非晶質合金等がある。これらの
磁性材料を磁気ヘッドに応用する場合には、従来、圧延
あるいは切断、研削。
研摩などによって板状にする。非晶質合金の場合はスプ
ラットクーリング法等により薄板状にする。
ラットクーリング法等により薄板状にする。
7′
その後コア形に整形加工を行ない磁気ヘッドを製造して
きた。しかし、磁気記録の高密度化に伴ない、トラック
幅が狭小化し、また、ギャップ長が極小となり、それ等
の精度を向上させる必要があること、また、転送レート
も高くなり、すなわち高周波化され、磁気ヘッドも小型
化させる必要があり、磁気ヘッドの製造もこれらの磁性
材料とスパッタリング法、真空蒸着法、メッキ法などの
薄膜形成技術により形成し、リソグラフィ技術により、
整形した。いわゆる薄膜磁気ヘッド等が開発されている
。
きた。しかし、磁気記録の高密度化に伴ない、トラック
幅が狭小化し、また、ギャップ長が極小となり、それ等
の精度を向上させる必要があること、また、転送レート
も高くなり、すなわち高周波化され、磁気ヘッドも小型
化させる必要があり、磁気ヘッドの製造もこれらの磁性
材料とスパッタリング法、真空蒸着法、メッキ法などの
薄膜形成技術により形成し、リソグラフィ技術により、
整形した。いわゆる薄膜磁気ヘッド等が開発されている
。
これらの磁性膜の高周波の透磁率は磁化容易方向におい
て低く、磁化困難方向において高いことが知られている
。これは磁化容易方向の磁化過程が主に磁壁移動で行な
われるのに対して、磁化困難方向の磁化過程が主に磁化
回転によって行なわれるためである。
て低く、磁化困難方向において高いことが知られている
。これは磁化容易方向の磁化過程が主に磁壁移動で行な
われるのに対して、磁化困難方向の磁化過程が主に磁化
回転によって行なわれるためである。
磁性膜に磁気異方性を付与する手段としては、磁性膜を
磁界中で熱処理するか、あるいは磁性膜作成時に磁界を
印加する方法がある。上記方法により、印加磁界方向に
磁化容易方向がそろった磁性膜が得られる。しかし、薄
膜の場合には、形状異方性が大きく、磁性膜に垂直な方
向を磁化容易方向とするのは困難である。通常、磁性膜
面内が磁化容易方向となる。磁気ヘッドはこの形状によ
る異方性を考慮し、磁気ヘッドの磁路方向が透磁率の高
い磁化困難方向になるように磁気異方性を磁性膜に付与
すれば優れた特性の磁気ヘッドが得られる。
磁界中で熱処理するか、あるいは磁性膜作成時に磁界を
印加する方法がある。上記方法により、印加磁界方向に
磁化容易方向がそろった磁性膜が得られる。しかし、薄
膜の場合には、形状異方性が大きく、磁性膜に垂直な方
向を磁化容易方向とするのは困難である。通常、磁性膜
面内が磁化容易方向となる。磁気ヘッドはこの形状によ
る異方性を考慮し、磁気ヘッドの磁路方向が透磁率の高
い磁化困難方向になるように磁気異方性を磁性膜に付与
すれば優れた特性の磁気ヘッドが得られる。
このような例としては、計算機用磁気ディスク装置等に
用いられる薄膜磁気ヘッド等が挙げられる。第8図に薄
膜磁気ヘッドの例を示した。第8図(a)は断面図、(
b)は平面図である。このヘッドは基板1の上に下部磁
性膜2を形成し、その上に絶縁材を介してコイル3を形
成し、さらに上部磁性膜4を形成して作製されたもので
あり、磁路の方向6は磁性膜2,4の面内方向でかつ媒
体摺動面5に直角な方向である。従って、磁性膜2゜4
に磁路方向6の直角方向7を磁化容易方向とする磁気異
方性を付与することにより、磁性膜の磁路方向に沿った
高い透磁率が得られ、従って、ヘッド特性の優れた磁気
ヘッドが得られる。
用いられる薄膜磁気ヘッド等が挙げられる。第8図に薄
膜磁気ヘッドの例を示した。第8図(a)は断面図、(
b)は平面図である。このヘッドは基板1の上に下部磁
性膜2を形成し、その上に絶縁材を介してコイル3を形
成し、さらに上部磁性膜4を形成して作製されたもので
あり、磁路の方向6は磁性膜2,4の面内方向でかつ媒
体摺動面5に直角な方向である。従って、磁性膜2゜4
に磁路方向6の直角方向7を磁化容易方向とする磁気異
方性を付与することにより、磁性膜の磁路方向に沿った
高い透磁率が得られ、従って、ヘッド特性の優れた磁気
ヘッドが得られる。
薄膜磁気ヘッドの文献として、アイ・イー・イー・イー
・トランザクション オン マグネティックス(I E
E E Transactions on Mag
netics)MAG−7,146,1971に示され
る。しかし、一般のリング型磁気ヘッドにおいては形状
が複雑であり、形状による異方性を考慮しなければなら
ない。
・トランザクション オン マグネティックス(I E
E E Transactions on Mag
netics)MAG−7,146,1971に示され
る。しかし、一般のリング型磁気ヘッドにおいては形状
が複雑であり、形状による異方性を考慮しなければなら
ない。
VTRなどに用いられるリング型磁気ヘッドの例を第1
図に示した。このヘッドは基板1の上に磁性膜2を形成
してさらにその上に保護林8を形成し、巻線窓9を形成
した後、ヘッドコア半休。
図に示した。このヘッドは基板1の上に磁性膜2を形成
してさらにその上に保護林8を形成し、巻線窓9を形成
した後、ヘッドコア半休。
10.10’ をギャップ材11を介して接合したもの
である。この様なリング型磁気ヘッドでは磁路方向6は
巻線窓9を周回する方向であり、磁路方向に直角な方向
である磁性膜面に垂直な方向7゜7′を磁化容易方向と
する磁気異方性を付与することにより、前記と同様に特
性のすぐれた磁気ヘッドを得ることが出来ると考えられ
る。しかし、第1図に示したリング型磁気ヘッドにおい
ては磁路方向と直角に磁化容易方向のそろった磁気異方
性は反磁界の影響では付与することは困難である。
である。この様なリング型磁気ヘッドでは磁路方向6は
巻線窓9を周回する方向であり、磁路方向に直角な方向
である磁性膜面に垂直な方向7゜7′を磁化容易方向と
する磁気異方性を付与することにより、前記と同様に特
性のすぐれた磁気ヘッドを得ることが出来ると考えられ
る。しかし、第1図に示したリング型磁気ヘッドにおい
ては磁路方向と直角に磁化容易方向のそろった磁気異方
性は反磁界の影響では付与することは困難である。
実際には膜面内に磁化容易方向が付いてしまう。
従って、ヘッド特性が十分でなく、かつ特性のばらつき
が大きいという問題があった。
が大きいという問題があった。
上記の如く、一般のリング型磁気ヘッドにおいては磁路
方向に沿って、直角な方向を磁化容易方向とするには困
難である。
方向に沿って、直角な方向を磁化容易方向とするには困
難である。
一方、磁気ヘッドを磁気回路的にみると、媒体摺動面側
の作動ギャップ近傍の磁気抵抗が約8割以上を占める。
の作動ギャップ近傍の磁気抵抗が約8割以上を占める。
すなわち1作動ギャップ近傍(上記の作動ギャップ近傍
とは磁気記録媒体対向面と作動ギャップ形成面との交線
と主磁路形成面と平行な側面の交点を中心としてほぼ半
径がギャップ深さくgd)〜半径50gdの領域を指す
ものとする。)の透磁率がヘッド特性に大きく影響して
いる。いいかえれば、作動ギャップ近傍の磁区構造がヘ
ッド特性に大きく影響する。
とは磁気記録媒体対向面と作動ギャップ形成面との交線
と主磁路形成面と平行な側面の交点を中心としてほぼ半
径がギャップ深さくgd)〜半径50gdの領域を指す
ものとする。)の透磁率がヘッド特性に大きく影響して
いる。いいかえれば、作動ギャップ近傍の磁区構造がヘ
ッド特性に大きく影響する。
上述のようにリング型磁気ヘッドにおいては磁路方向に
沿って、全て直角な方向に磁化容易方向とするには困難
であるため、磁気ヘッド特性に大きく影響する作動ギャ
ップ近傍の磁化容易方向を磁路に沿って直角とする。す
なわちトラック幅方向、および、ヘッド摺動方向を磁化
容易方向とするのが望ましい。
沿って、全て直角な方向に磁化容易方向とするには困難
であるため、磁気ヘッド特性に大きく影響する作動ギャ
ップ近傍の磁化容易方向を磁路に沿って直角とする。す
なわちトラック幅方向、および、ヘッド摺動方向を磁化
容易方向とするのが望ましい。
[発明が解決しようとする問題点コ
上記の如く、従来のリング型磁気ヘッドにおいて、磁路
に沿って、該磁路に直角な方向を磁化容易方向とするに
は困難であり、従って、磁気記録再生特性が十分でなく
、かつ、特性のバラつきが大きいという問題があった。
に沿って、該磁路に直角な方向を磁化容易方向とするに
は困難であり、従って、磁気記録再生特性が十分でなく
、かつ、特性のバラつきが大きいという問題があった。
本発明の目的は上記問題を解決し、リング型磁気ヘッド
において、優れたヘッド特性を示す磁気ヘッドを提供す
ることにある。
において、優れたヘッド特性を示す磁気ヘッドを提供す
ることにある。
[問題点を解決するための手段]
上記目的は作動ギャップ近傍の磁気異方性をコントロー
ルすることにより、達成される。
ルすることにより、達成される。
上述した如く、磁気ヘッドの磁気抵抗の約8割以上は作
動ギャップ近傍の磁気抵抗である。一方磁気ヘッドの磁
路、全てに亘って磁路に直角な方向を磁化容易方向とす
るには困難である。このことから、作動ギャップ近傍が
磁路に直角な方向を磁化容易方向とすれば、優れた磁気
ヘッド特性を得る。具体的には第2図に示す如く、作動
ギャップ近傍の磁化容易方向をヘッド摺動方向(7)、
およびトラック幅方向(7′)にする。
動ギャップ近傍の磁気抵抗である。一方磁気ヘッドの磁
路、全てに亘って磁路に直角な方向を磁化容易方向とす
るには困難である。このことから、作動ギャップ近傍が
磁路に直角な方向を磁化容易方向とすれば、優れた磁気
ヘッド特性を得る。具体的には第2図に示す如く、作動
ギャップ近傍の磁化容易方向をヘッド摺動方向(7)、
およびトラック幅方向(7′)にする。
すなわち、基板上に薄膜形成法により形成した磁性膜を
少なくとも磁気ヘッドの作動ギャップ近傍に用いたリン
グ型磁気ヘッドにおいて、上記。
少なくとも磁気ヘッドの作動ギャップ近傍に用いたリン
グ型磁気ヘッドにおいて、上記。
作動ギャップ近傍の磁性膜の磁化容易方向が磁性面内で
、かつ、ヘッド摺動面に平行とする。
、かつ、ヘッド摺動面に平行とする。
さらに、磁性膜が作動ギャップ面と所要の角度で傾斜さ
せ、作動ギャップと非平行にして疑似ギャップ作用を回
避することによって記録再生特性の向上効果が得られる
。また、磁束の収束作用も働き、特性が向上する。
せ、作動ギャップと非平行にして疑似ギャップ作用を回
避することによって記録再生特性の向上効果が得られる
。また、磁束の収束作用も働き、特性が向上する。
さらに、磁性膜としては、非晶質磁性膜とすれば磁気異
方性のコントロールが容易となる。
方性のコントロールが容易となる。
[作用]
ヘッド近傍の磁気異方性をヘッド摺動方向およびトラッ
ク幅方向にする手段としては本発明では主に磁界中熱処
理を用いる。すなわち、磁気ヘッドのヘッド摺動方向に
あるいはトラック幅方向に磁界を印加し熱処理すること
により、磁界印加方向に磁気異方性を付与する。また、
磁気異方性(HK)の大きさを制御するために、さらに
磁界中熱処理、或いは無磁界熱処理する場合もある。
ク幅方向にする手段としては本発明では主に磁界中熱処
理を用いる。すなわち、磁気ヘッドのヘッド摺動方向に
あるいはトラック幅方向に磁界を印加し熱処理すること
により、磁界印加方向に磁気異方性を付与する。また、
磁気異方性(HK)の大きさを制御するために、さらに
磁界中熱処理、或いは無磁界熱処理する場合もある。
また5回転磁界中熱処理することにより、磁気異方性の
大きさを制御することも出来る。
大きさを制御することも出来る。
本発明に用いる磁性膜としてはNi−Fe系の結晶質合
金でも良いが、非晶質合金を用いた場合に、磁界中熱処
理の効果が大きいのでより好ましい。
金でも良いが、非晶質合金を用いた場合に、磁界中熱処
理の効果が大きいのでより好ましい。
[実施例]
以下、本発明を実施例を用いて説明する。
実施例1
第1図に示す磁気ヘッドを作成した。2は磁性膜であり
、非磁性基板1上に(Co(14Nbl 3Zr3at
%)の組成を膜厚20μm、高周波を極スパッタを用い
て作成した。
、非磁性基板1上に(Co(14Nbl 3Zr3at
%)の組成を膜厚20μm、高周波を極スパッタを用い
て作成した。
上記ヘッドを用いて、本発明の磁気異方性の方向とヘッ
ド特性について説明する。磁気異方性の方向の確認はヘ
ッド側面で研摩し、非磁性基板を取除いて、直接磁性膜
を調べた。その方法はカー効果、あるいはビッタ−法に
より光学的にm察した。
ド特性について説明する。磁気異方性の方向の確認はヘ
ッド側面で研摩し、非磁性基板を取除いて、直接磁性膜
を調べた。その方法はカー効果、あるいはビッタ−法に
より光学的にm察した。
第3図は磁気ヘッド特性と磁化容易方向との関係を示し
たものである。測定に用いたテープはメタルパウダース
ープであり、その特性は表1に示する。なお、テープ、
ヘッド相対速度を3.75表 1 m/sとした。Aヘッドは製作そのままのヘッド、Bヘ
ッドはヘッド摺動方向が磁化容易方向となるように磁界
中熱処理したものである。磁界中熱処理の条件は磁界1
1kOaをヘッド摺動方向に印加し、熱処理温度400
’C,30分とした。ヘッド特性を比較してみるとこの
BヘッドはAヘッドに比べ、3〜6dB向上し、そのバ
ラツキも少なくなった。Cヘッドは磁化容易方向をヘッ
ドデプス方向になる様に、磁界中熱処理したものである
。
たものである。測定に用いたテープはメタルパウダース
ープであり、その特性は表1に示する。なお、テープ、
ヘッド相対速度を3.75表 1 m/sとした。Aヘッドは製作そのままのヘッド、Bヘ
ッドはヘッド摺動方向が磁化容易方向となるように磁界
中熱処理したものである。磁界中熱処理の条件は磁界1
1kOaをヘッド摺動方向に印加し、熱処理温度400
’C,30分とした。ヘッド特性を比較してみるとこの
BヘッドはAヘッドに比べ、3〜6dB向上し、そのバ
ラツキも少なくなった。Cヘッドは磁化容易方向をヘッ
ドデプス方向になる様に、磁界中熱処理したものである
。
その磁界中熱処理方法はBヘッドと同様であるが、磁界
印加方向をヘッドデプス方向にしたものである。ヘッド
特性は前記AおよびBヘッドに比べ。
印加方向をヘッドデプス方向にしたものである。ヘッド
特性は前記AおよびBヘッドに比べ。
出力が低い。Cヘッドは磁化容易方向をトラック幅方向
になる様に、磁界中熱処理したものである。
になる様に、磁界中熱処理したものである。
その磁界中熱処理方法はB、Cヘッドと同様であるが、
磁界印加方法をトラック幅方向にしたものである。この
Cヘッドの磁化容易方向が完全にトラック幅方向である
とすれば、磁気ヘッドの特性は向上するはずであるが、
実際には第4図の如く、Bヘッドより特性が劣り、バラ
ツキも多い。これはヘッドの形状異方性により、磁性膜
厚方向を磁化容易方向にするにはむずかしいためである
。しかしながら、Cヘッドにおいて、Bヘッドと同等レ
ベルのものがあり、これらの違いを次に述べる。
磁界印加方法をトラック幅方向にしたものである。この
Cヘッドの磁化容易方向が完全にトラック幅方向である
とすれば、磁気ヘッドの特性は向上するはずであるが、
実際には第4図の如く、Bヘッドより特性が劣り、バラ
ツキも多い。これはヘッドの形状異方性により、磁性膜
厚方向を磁化容易方向にするにはむずかしいためである
。しかしながら、Cヘッドにおいて、Bヘッドと同等レ
ベルのものがあり、これらの違いを次に述べる。
第4図は磁気ヘッドの側面を研摩により非磁性基板を取
除き、磁性膜をカー効果で測定し、磁化容易方向を観測
した結果である。
除き、磁性膜をカー効果で測定し、磁化容易方向を観測
した結果である。
Bヘッドは(a)に示すように1巻線窓部を除いて、磁
化容易方向は磁界中熱処理してコントロールしたヘッド
摺動方向になっている。Cヘッドも(b)に示すように
同様に磁化容易方向は磁界中熱処理してコントロールし
たヘッドデプス方向になっている。しかし、Cヘッドは
(c)、(d)に示すように磁界中熱処理してコントロ
ールしたトラック幅方向にはならず、ヘッド摺動方向、
ヘッドデプス方向が混在した形となっている。前述した
特性の良いCヘッドはBヘッド同様の磁化容易方向を示
す。また特性の悪いCヘッドは磁化容易方向がヘッドデ
プス方向になるCヘッドに近い構造を示す。このように
、形状の複雑な磁気ヘッドにおいては、ヘッドの磁路に
沿って全て磁化容易方向とすることがむずかしいため、
ヘッド特性の良否、バラつきを生じる。しかしながら、
前述したようにヘッド特性は作動ギャップ近傍の磁区構
造により大きく影響する。Bヘッドにおいて特性が秀れ
るのは作動ギャップ近傍の磁路に垂直な摺動方向が磁化
容易方向になっているためであり、他ヘッドは作動ギャ
ップ近傍の磁路に垂直でない磁化容易方向が存在するた
めであり、この方向成分の比率によりヘッド特性が定ま
ってくるためである。
化容易方向は磁界中熱処理してコントロールしたヘッド
摺動方向になっている。Cヘッドも(b)に示すように
同様に磁化容易方向は磁界中熱処理してコントロールし
たヘッドデプス方向になっている。しかし、Cヘッドは
(c)、(d)に示すように磁界中熱処理してコントロ
ールしたトラック幅方向にはならず、ヘッド摺動方向、
ヘッドデプス方向が混在した形となっている。前述した
特性の良いCヘッドはBヘッド同様の磁化容易方向を示
す。また特性の悪いCヘッドは磁化容易方向がヘッドデ
プス方向になるCヘッドに近い構造を示す。このように
、形状の複雑な磁気ヘッドにおいては、ヘッドの磁路に
沿って全て磁化容易方向とすることがむずかしいため、
ヘッド特性の良否、バラつきを生じる。しかしながら、
前述したようにヘッド特性は作動ギャップ近傍の磁区構
造により大きく影響する。Bヘッドにおいて特性が秀れ
るのは作動ギャップ近傍の磁路に垂直な摺動方向が磁化
容易方向になっているためであり、他ヘッドは作動ギャ
ップ近傍の磁路に垂直でない磁化容易方向が存在するた
めであり、この方向成分の比率によりヘッド特性が定ま
ってくるためである。
すなわち、磁化容易方向が磁性膜の膜面内でかつヘッド
摺動面に平行であれば、磁気ヘッド特性の優れたものが
得られる。
摺動面に平行であれば、磁気ヘッド特性の優れたものが
得られる。
実施例2
実施例1と同様にして第5図に示すように磁気ヘッド形
状を少し複雑にしたヘッドを作製した。
状を少し複雑にしたヘッドを作製した。
山形に加工した非磁性基板1に非晶質磁性合金Cog
4No3 Zr□3at%2を高周波2極スパツタ法で
20μm作成して、ヘッドを作製した。なお、非磁性基
板の山形の角度17を60″および120°2種類のヘ
ッドを作製した。
4No3 Zr□3at%2を高周波2極スパツタ法で
20μm作成して、ヘッドを作製した。なお、非磁性基
板の山形の角度17を60″および120°2種類のヘ
ッドを作製した。
上記ヘッドを用いて、本発明の磁気異方性の方向とヘッ
ド特性について説明する。磁気異方性の方向の確認は第
5図、充填ガラス12をエツチングにより取除いて、直
接磁性膜を実施例1と同様の光学的観察法によった。
ド特性について説明する。磁気異方性の方向の確認は第
5図、充填ガラス12をエツチングにより取除いて、直
接磁性膜を実施例1と同様の光学的観察法によった。
第6図は磁気ヘッド特性を示したものであり、測定条件
は実施例1と同様である。また、磁気へラドA、B、C
,Dは実施例1と同じ処理したものである。Aヘッドは
製作そのまま、Bヘッドはヘッド摺動力向が磁化容易方
向となるように磁界中熱処理したもの、Cヘッドはへッ
ドデブス方向が磁化容易方向となるように磁界中熱処理
したもの、Cヘッドはトラック幅方向が磁化容易方向と
なるように磁界中熱処理したものである。ヘッド特性を
比較してみると、山形の角度17を60″にしたヘッド
18は若干の違いはあるが、傾向は同じで、Bヘッドは
特性が秀れバラつきも少なく。
は実施例1と同様である。また、磁気へラドA、B、C
,Dは実施例1と同じ処理したものである。Aヘッドは
製作そのまま、Bヘッドはヘッド摺動力向が磁化容易方
向となるように磁界中熱処理したもの、Cヘッドはへッ
ドデブス方向が磁化容易方向となるように磁界中熱処理
したもの、Cヘッドはトラック幅方向が磁化容易方向と
なるように磁界中熱処理したものである。ヘッド特性を
比較してみると、山形の角度17を60″にしたヘッド
18は若干の違いはあるが、傾向は同じで、Bヘッドは
特性が秀れバラつきも少なく。
Cヘッド、Aヘッド、Cヘッドの順に特性が劣下してい
る。山形の角度17を120’にしたヘッド19の特性
はBヘッド、Cヘッドの特性が18に比較し、逆になっ
ている。これらの現象はヘッドの形状異方性に基づくも
のであり、磁気ヘッドの磁気異方性の方向を実施例1と
同様に181察した。
る。山形の角度17を120’にしたヘッド19の特性
はBヘッド、Cヘッドの特性が18に比較し、逆になっ
ている。これらの現象はヘッドの形状異方性に基づくも
のであり、磁気ヘッドの磁気異方性の方向を実施例1と
同様に181察した。
第7図はその1例であり、磁気ヘッドのガラス充填動1
2を取除いて、磁性膜をカー効果で測定した結果である
。(a)に示すBヘッドは磁界中熱処理の磁界方向をヘ
ッド摺動方向にしたものであるが、その磁化容易方向は
磁性膜面に沿って、摺動方向になっており、ヘッド特性
を決める作動ギャップ近傍の磁化容易方向が理想的に磁
路に垂直な方向7になっている。反対に(b)に示した
Cヘッドは作動ギャップ近傍の磁化容易方向がヘッドデ
プス方向であり、磁路と同じ方向になるため、ヘッド特
性が悪い、また、Dヘッドは実施例1と全く同様に、磁
化容易方向が摺動方向より傾いたもの、および、摺動方
向とへラドデプス方向が混在したものになり、磁気ヘッ
ドの透磁率が低くなり、特性が劣化している。しかしな
がら、山形の角度を12o°にしたものは(19)ヘッ
ド特性と同様にその磁区構造も全く逆になり、磁界中熱
処理の磁界方向をトラック幅にした時に磁性膜面に沿っ
て、真っすぐに磁化容易方向が向いたためである。
2を取除いて、磁性膜をカー効果で測定した結果である
。(a)に示すBヘッドは磁界中熱処理の磁界方向をヘ
ッド摺動方向にしたものであるが、その磁化容易方向は
磁性膜面に沿って、摺動方向になっており、ヘッド特性
を決める作動ギャップ近傍の磁化容易方向が理想的に磁
路に垂直な方向7になっている。反対に(b)に示した
Cヘッドは作動ギャップ近傍の磁化容易方向がヘッドデ
プス方向であり、磁路と同じ方向になるため、ヘッド特
性が悪い、また、Dヘッドは実施例1と全く同様に、磁
化容易方向が摺動方向より傾いたもの、および、摺動方
向とへラドデプス方向が混在したものになり、磁気ヘッ
ドの透磁率が低くなり、特性が劣化している。しかしな
がら、山形の角度を12o°にしたものは(19)ヘッ
ド特性と同様にその磁区構造も全く逆になり、磁界中熱
処理の磁界方向をトラック幅にした時に磁性膜面に沿っ
て、真っすぐに磁化容易方向が向いたためである。
これはヘッド形状によるためであり、山形の角度60°
にした場合は磁性膜面に沿って真っすぐにするには磁界
中熱処理の磁界の方向を摺動力向にした方が容易であり
、逆に山形の角度を120”にした場合は、磁性膜面に
沿って真っすぐにするにはその磁界方向をトラック幅に
かけた方が容易であることを示す。すなわち、磁気ヘッ
ドの特性は作動ギャップ近傍の磁区構造に大きく影響し
、ヘッド磁路に垂直に磁化容易方向が向いていれば良い
。磁化容易方向がすなわち、膜面内にあり、作動ギャッ
プ近傍はへラドデプス方向がないようにする。しかしな
がら、磁化容易方向とコントロールする磁界中熱処理の
条件はヘッドの形状により異なり、すなわち、磁性面に
沿った方向が磁化しやすい。このため、山形の角度が小
さい場合には、ヘッド摺動方向に磁界を印加するBヘッ
ド、山形の角度が大きい場合には、トラック幅方向に磁
界を印加するDヘッドが、磁性面に沿って直っすぐな磁
化容易方向になり、その方向は作動ギャップ近傍におい
て磁路に垂直な方向となる。そのため、ヘッド特性は秀
れる。すなわち、実施例1と同様、作動ギャップ近傍の
磁化容易方向が磁性膜の膜面内で、かつ、ヘッド摺動面
に平行であれば、ヘッド特性に優れる。
にした場合は磁性膜面に沿って真っすぐにするには磁界
中熱処理の磁界の方向を摺動力向にした方が容易であり
、逆に山形の角度を120”にした場合は、磁性膜面に
沿って真っすぐにするにはその磁界方向をトラック幅に
かけた方が容易であることを示す。すなわち、磁気ヘッ
ドの特性は作動ギャップ近傍の磁区構造に大きく影響し
、ヘッド磁路に垂直に磁化容易方向が向いていれば良い
。磁化容易方向がすなわち、膜面内にあり、作動ギャッ
プ近傍はへラドデプス方向がないようにする。しかしな
がら、磁化容易方向とコントロールする磁界中熱処理の
条件はヘッドの形状により異なり、すなわち、磁性面に
沿った方向が磁化しやすい。このため、山形の角度が小
さい場合には、ヘッド摺動方向に磁界を印加するBヘッ
ド、山形の角度が大きい場合には、トラック幅方向に磁
界を印加するDヘッドが、磁性面に沿って直っすぐな磁
化容易方向になり、その方向は作動ギャップ近傍におい
て磁路に垂直な方向となる。そのため、ヘッド特性は秀
れる。すなわち、実施例1と同様、作動ギャップ近傍の
磁化容易方向が磁性膜の膜面内で、かつ、ヘッド摺動面
に平行であれば、ヘッド特性に優れる。
なお、本実施例のヘッドは非磁性基板を用いたが、磁性
基板(フェライト基板)を用いても、同様の結果が得ら
れた。
基板(フェライト基板)を用いても、同様の結果が得ら
れた。
実施例3
実施例1.2のヘッドの磁性膜を作製する際にSiO2
などのAQ203などの磁気的に遮断する層を設けて多
層化した場合には、実施例1,2よりも更に磁性面に沿
互て磁化しやすくなり、磁界中熱処理の条件が容易にな
る。例えば、磁界中熱処理の温度が低く、その時間も短
かくすることが出来、印加磁界の大きさも少なく出来、
作動ギャップ近傍の磁化容易方向も一様に磁性面に沿い
。
などのAQ203などの磁気的に遮断する層を設けて多
層化した場合には、実施例1,2よりも更に磁性面に沿
互て磁化しやすくなり、磁界中熱処理の条件が容易にな
る。例えば、磁界中熱処理の温度が低く、その時間も短
かくすることが出来、印加磁界の大きさも少なく出来、
作動ギャップ近傍の磁化容易方向も一様に磁性面に沿い
。
磁路に垂直な方向となるため、ヘッド特性は向上し、バ
ラつきも少なくなる。
ラつきも少なくなる。
[発明の効果]
以上、述べたように1本発明によれば磁気ヘッドの作動
ギャップ近傍の磁化容易方向が磁性膜面内にあって、し
かもトラック幅方向あるいは摺動力向に向けた時、すな
わち、磁化容易方向がヘッドデプス方向成分を持たない
ようにしたものであるから、極めて秀れたヘッド特性を
示すことが明らかである。
ギャップ近傍の磁化容易方向が磁性膜面内にあって、し
かもトラック幅方向あるいは摺動力向に向けた時、すな
わち、磁化容易方向がヘッドデプス方向成分を持たない
ようにしたものであるから、極めて秀れたヘッド特性を
示すことが明らかである。
第1図は本発明の一実施例を示すリング型磁気ヘッドを
示す斜視図、第2図は本発明リング型磁気ヘッドの作動
ギャップ近傍の模式図、第3図は本発明の実施例の磁気
ヘッドの記録再生特性を示す特性図、第4図は本発明の
実施例の磁気ヘッドの磁区構造を示す図、第5図は本発
明の他の実施例を示すリング型磁気ヘッドを示す斜視図
、第6図は本発明の他の実施例の磁気記録特性を示す特
性図、第7図は本発明の他の実施例の磁区構造を示す図
、第8図は従来の薄膜ヘッドを示す図である。 1・・・基板、24・・・磁性膜、3・・・コイル、5
・・・媒体摺動面、6・・・磁路方向、7,7′・・・
磁化容易方向、8・・・保護材、9・・・巻線窓、10
.10’・・・ヘッドコア半休、11・・・作動ギャッ
プ、12・・・ガラス、13・・・ギャップデプス、1
7・・・山形の角度、18・・・山形の角度60°の磁
気ヘッド、19・・・山形の角度12o°の磁気ヘッド
。 第1日 第2日 ツノ 第〕凶 第4の 第2図 ; υυ Bヘッド (b)Cへ一/)
−(久) (2り 4.5′″
示す斜視図、第2図は本発明リング型磁気ヘッドの作動
ギャップ近傍の模式図、第3図は本発明の実施例の磁気
ヘッドの記録再生特性を示す特性図、第4図は本発明の
実施例の磁気ヘッドの磁区構造を示す図、第5図は本発
明の他の実施例を示すリング型磁気ヘッドを示す斜視図
、第6図は本発明の他の実施例の磁気記録特性を示す特
性図、第7図は本発明の他の実施例の磁区構造を示す図
、第8図は従来の薄膜ヘッドを示す図である。 1・・・基板、24・・・磁性膜、3・・・コイル、5
・・・媒体摺動面、6・・・磁路方向、7,7′・・・
磁化容易方向、8・・・保護材、9・・・巻線窓、10
.10’・・・ヘッドコア半休、11・・・作動ギャッ
プ、12・・・ガラス、13・・・ギャップデプス、1
7・・・山形の角度、18・・・山形の角度60°の磁
気ヘッド、19・・・山形の角度12o°の磁気ヘッド
。 第1日 第2日 ツノ 第〕凶 第4の 第2図 ; υυ Bヘッド (b)Cへ一/)
−(久) (2り 4.5′″
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板上に薄膜形成法により形成した磁性膜を少なく
とも磁気ヘッドの作動ギャップ近傍に用いた磁気ヘッド
において、上記作動ギャップ近傍の磁性膜の磁化容易方
向が磁性面内で、かつ、ヘッド摺動面に平行であること
を特徴とする磁気ヘッド。 2、特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘッドにおいて、
磁性膜が作動ギャップ面と所要の角度で傾斜しているこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 3、特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘッドにおいて、
上記磁性膜が非晶質磁性膜からなることを特徴とする磁
気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6832886A JPH0816973B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6832886A JPH0816973B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62226410A true JPS62226410A (ja) | 1987-10-05 |
JPH0816973B2 JPH0816973B2 (ja) | 1996-02-21 |
Family
ID=13370652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6832886A Expired - Lifetime JPH0816973B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0816973B2 (ja) |
-
1986
- 1986-03-28 JP JP6832886A patent/JPH0816973B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0816973B2 (ja) | 1996-02-21 |
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