JPS6151611A - 複合磁性材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば高密度記録用磁気ヘッドの構成磁性材
料として適した複合磁性材に関するものでちる。

〔従来例とその問題点〕

例えばビデオテープレコーダの高性能化、超小型化の為
に高密度記録実現への期待が大きくなっておシ、この為
には高抗磁力の磁気記録媒体を用いることが必要とされ
、従って記録時の磁界強度の大きな磁気ヘッドの開発が
望まれている。すなわち、高抗磁力の磁気テープに対応
できる磁気ヘッドは、フロントギャップ部で強い漏洩磁
界を生ずるものでなければならない。

現在、例えばビデオ用磁気ヘッドの磁性材料としては、
ヘッド特性要因のバランス及び加工性の点から主として
Ｍｎ−Ｚｎフェライト材が用いられているが、高抗磁力
の磁気記録媒体、例えばいわゆるメタルテープを磁化す
る為に記録電流を大きくするとヘッドチップが飽和し、
記録磁界の分布が拡がるのでテープを充分に磁化できず
、このような酸化物系磁性材料の磁気ヘッドはメタルテ
ープに対応できないものとなっている。つまり、一般に
磁気ヘッドの磁性材料の飽和磁束密度（Ｂｓ）は磁気テ
ープの抗磁力（Ｈｃ）の約６倍以上であることが必要と
されておシ１、例えばＢｓが約５０００ガウスのＭｎ−
Ｚｎフェライトを用いた磁気ヘッドではＨｃが約１００
０〜１２００エルステツドの高抗磁カテープには充分な
記録ができないものとなっている。

そこで、このような欠点を解決する為に、磁気ヘッドの
磁性材料として、飽和磁束密度は現在の単結晶フェライ
トに比べて約２倍程度大きく、かつ透磁率は同程度のも
のでおる、例えばアモルファス金属磁性材料あるいはセ
ンダスト合金磁性材料を用いることが考えられる。しか
し、このような磁性材料で、例えば第４図に示すような
磁気ヘッドを構成した場合には、コアの磁性材料が金属
であることよシ比抵抗が小さく、渦電流損失が問題とな
る。同、第４図中、１．２はコア半休、３，４は充填ガ
ラス、５はギャップである。

そこで、さらにこのような問題を解決する為に、コアを
例えば約１０〜３０μｍ厚の薄板状のものとし、磁気ヘ
ッドのトラック幅も約１０〜３０／、１ｍと狭くした磁
気ヘッドが考えられるが、このような薄い状態の磁気ヘ
ッドでは、磁気テープに対する耐摩耗性及び機械的強度
の点で問題がちシ、そこで耐摩耗性及び機械的強度を補
う目的で、例えば第５図のような磁気ヘッドが考えられ
る。同、第５図中、６．７はセンダスト、パーマロイ又
はアモルファス等の磁性材料よシなるコア半休、８，９
，１０．１１は耐摩耗性のあるサポート用セラミック基
板、１２はギャップである。

ところが、このコア半休６．７とサポート用セラミック
基板８，９，１０．１１との接合一体化を、高融点ガラ
スといった高温処理の必要な接着剤を用いて行なおりと
すると、磁性材の磁気特性を劣下させて、しまう欠点が
あり、そこで例えば二酸化ケイ素をスパッタリング又は
蒸着した後低融点ガラスで接着したＤ６るいは有機高分
子系接着剤で接着したりすることが考えられているが、
これでは接合一体化力が充分でないといった欠点がある
。つまり、磁気ヘッドの製造工程においては、信号の入
出力線輪を巻回する巻線溝加工、その細切断、研摩等の
加工がｓｂ、これらの加工において加えられる機械的衝
撃力は計シ知れないものがあり、単に金属系磁性材と非
磁性基板とを接着剤で接着するのみでは磁気ヘッド製造
工程では接着力が不充分で耐えられない場合もｉ、それ
だけ磁気ヘッド製造歩留りも悪い。

〔問題点を解決する為の手段〕

非磁性基板面上に磁性膜が設けられ、かつ貫通孔の形成
された第１の基板と、前記第１の基板の貫通孔に対応し
て貫通孔の形成された第２の基板とを、前記磁性膜を挾
むよう、かつ前記貫通孔同士が合致するよう前記第１の
基板と第２の基板とを突き合わせ、前記貫通孔に接着剤
を充填して第１の基板と第２の基板とを一体化する。

〔実施例〕

第１図は本発明に係る複合磁性材の説明図、第２図は上
記第１図の複合磁性材を用いて構成した磁気ヘッドの説
明図である。

同図中、２１ａ、２１ｂは、例えば２韮厚以下で、結晶
化ガラス又はセラミック材料といった耐摩耗性に富んだ
非磁性の基板であり、これらの基板２１ａ。

２１ｂには、磁気ヘッドを構成した場合に磁気抵抗が増
大するのにそれ程影響しないような適宜な位置に、例え
ば直径０．２〜０．５開栓度の大きさの貫通孔２２ａ　
、　２２ｂが形成されている。

尚、貫通孔２２ａ　、２２ｂは、例えば超音波加工手段
を用いて簡単に形成できる。

２３ａ、２３ｂは、基板２１ａ、２１１）の−面上に、
例えば蒸着又はスパッタリング等のＰＶＤ手段で形成さ
れたセンダスト、パーマロイ、アモルファス磁性合金材
料といった軟磁性膜である。

２４ａ　、　２４ｂは、上記軟磁性膜２３ａ　、　２３
ｂ面上にＰＶＤ手段で形成された、例えば二酸化ケイ素
の薄膜、２５は上記二酸化ケイ素の薄膜２４２面上と薄
膜２４ｂ面上にＰＶＤ手段で形成された低融点ガラスの
薄膜である。

そして、低融点ガラスの薄膜等が形成された２枚の基板
２１ａと２１ｂとを、貫通孔２２ａと２２ｂとが正確に
合致するよう、かつ軟磁性膜が基板２１ａと２１ｂとで
挾まれるよう突き合わせ、これら貫通孔２２ａ　、　２
２ｂによって構成される一つの孔に低融点ガラスからな
るファイバーを挿入し、加熱加圧することによって、低
融点ガラスの薄膜２５の結合力のみでなくファイバーの
低融点ガラス２６による結合力もあいまって軟磁性膜と
非磁性基板とが強固に一体化結合した第１図に示すよう
な複合磁性材が得られる。

上記のように構成された複合磁性材は、低融点ガラスに
よる一体化が二次元的な接着ではなく三次元的な接着に
よるものであるから、極めて機械的強度に富んだもので
あり、磁気ヘッド製造工程の加工時に機砿的衝撃力が大
きく加わっても充分に耐えられ、又、一体化に際して高
温処理を要さないので磁気特性が劣下することもない。

そして、上記のように構成された複合磁性材を用いて従
来と同様な製造工程を径ることによって、第２図に示す
ような高性能な磁気ヘッドが製造歩留りよく得られる。

尚、第２図中、２７は巻線、２８はフロントギャップ、
２９は、基板２１ａ、２１１）に超音波加工手段で形成
された貫通孔のうち低融点ガラスファイバーが挿入され
ないで残されたものであって、巻線２７を施すのに用い
られる巻線窓である。

尚、上記実施例では本発明の基本的形態を説明したもの
であシ、例えば第３図に示す如く、基板２１ａ　（２１
ｂ　）に形成する接合用の貫通孔２２ａ（２２ｂ）側面
をテーパー状にしておくことによって、軟磁性１８２３
ａ　（２３ｂ）　、二酸化ケイ素の薄膜２４ａ　（２４
ｂ）及び低融点ガラスの薄膜２５をＰＶＤ手段で形成す
るに際して、これらの材料が回シ込んで貫通孔面に入り
込むことがないようになる。すなわち、貫通孔側面をテ
ーパー状にしておくことによって、軟磁性膜２３ａ　（
２３ｂ）を形成する際特別なマスク手段は要らず、極め
て好都合なものとなる。

又、貫通孔２２ａ、２２ｂの形成は、軟磁性膜等を形成
後に行なってもよいのであるが、軟磁性膜形成後に貫通
孔形成加工を行なうとそれだけ磁気特性が低下するので
、あらかじめ貫通孔は形成しておくことが望ましい。

又、軟磁性膜は基板２１ａと２１ｂとに設けた場合で述
べているが、基板２１ａにしか設けない場合でもよい。

〔効果〕

一体化力の極めて大きな複合磁性材であり、かつ磁気特
性の低下が少ない。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第３図は本発明に係る複合磁性材の説明図、
第２図は本発明に係る複合磁性材を用いて構成した磁気
ヘッドの説明図、第４図及び第５図は従来の磁気ヘッド
の説明図である。 ２１ａ、２１ｂ　・・基板、２２ａ、２２ｂ−貫通孔、
２３ａ、２３ｂ・・・軟磁性膜、２６・・・低融点ガラ
ス（接着剤）。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基板面上に磁性膜が設けられ、かつ貫通孔の形成
   された第１の基板と、前記第１の基板の貫通孔に対応し
   て貫通孔の形成された第２の基板とを、前記磁性膜を挾
   むよう、かつ前記貫通孔同士が合致するよう前記第１の
   基板と第２の基板とを突き合わせ、前記貫通孔に接着剤
   を充填して第１の基板と第２の基板とを一体化したこと
   を特徴とする複合磁性材。