JPH08273109A

JPH08273109A - 磁気ヘッドコアおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH08273109A
Application number: JP7210895A
Authority: JP
Inventors: Takaya Matsuda; 享也松田; Toshihiko Ota; 俊彦大田; Shintaro Nagatsuka; 伸太郎永塚
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1995-03-29
Filing date: 1995-03-29
Publication date: 1996-10-18

Abstract

(57)【要約】【目的】一定のギャップ長を有し、巻線溝のない側の
非磁性体ブロックを薄く、あるいは前記巻線溝のない側
の非磁性体ブロックの無い磁気ヘッドコア及びその製造
方法を提供すること。【構成】磁性体ブロック１２に巻線溝１１を溝入れ加
工し、前記溝入れ加工した巻線溝１１に第１の金属磁性
膜１３を付着させ、ガラス等の非磁性体１４を前記金属
磁性膜１３が付着した巻線溝１１内に熱処理等の方法で
充填する。そして、はみ出した非磁性体１４の表面をラ
ップして取り除いてギャップ対向面１５とし、その上に
ギャップ長と等しい厚さとなるように非磁性体１６を付
着させ、さらにその上に、第２の金属磁性膜１７を付着
させる。そして、最後に非磁性体１４にレーザー加工等
により巻線を通すための穴２０を開けて完成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッドに係り、特に
コア材料にフェライトを用い、ギャップ近傍に高Ｂｓ
（高飽和磁束密度）の金属薄膜材料を配した、高密度・
高帯域特性を有する複合型ヘッドである、ＭＩＧ（Meta
l-In-Gap）ヘッド及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＭＩＧ（Metal-In-Gap）ヘッドはコア材
料にフェライトを用い、ギャップ近傍に高Ｂｓ（高飽和
磁束密度）の金属薄膜（金属磁性膜ともいう）材料を配
した、複合型ヘッドである。

【０００３】図５に従来の非平行型ＭＩＧヘッドの構造
を、また、図６に平行型ＭＩＧヘッドの構造をそれぞれ
示す。

【０００４】図５に示す非平行型ＭＩＧヘッドは、コア
１２，ガラス７，コイル２６，金属磁性膜１３およびギ
ャップ２１で構成されている。また、図６に示す平行型
ＭＩＧヘッドは、巻線溝２，巻線溝を有するコア３，巻
線溝のないコア４，金属磁性膜５，６，ガラス７，ギャ
ップ８，コイル２８で構成されている。

【０００５】ところで、前述の通り、図６におけるＭＩ
Ｇヘッドは金属薄膜をギャップ面に平行に配したもので
量産性に富む特長を有する。しかし、巻線溝を有するコ
ア３（一般的にはフェライト）と金属磁性膜５との境界
面２７がヘッドギャップと平行であるためにこの部分で
疑似出力が発生し、再生出力の周波数特性に「うねり現
象」が発生するといった欠点があった。この問題を解決
法として幾つか提案がなされているが、その内の１つが
図５に示した非平行型ＭＩＧヘッドである。この構造に
よれば、ヘッドギャップとコア１２（一般的にはフェラ
イト）と金属磁性膜１３との境界面が非平行であるた
め、前記疑似出力が発生することがなく、従って再生出
力の周波数特性の「うねり現象」の発生を防止すること
が可能である。

【０００６】一般に、磁気ヘッドに対して以下のような
性能が求められている。即ち記録用ヘッドとしては、抗
磁力の高い磁気記録媒体を十分に磁化するための強力で
鋭い磁界を発生させることが可能であること。再生用ヘ
ッドとしては、短波長信号を効率よく拾い上げることが
可能であること等である。そして、上記性能を満足させ
るために、記録用ヘッドでは、コアに飽和磁束密度の大
きい材料を使いギャップ長をやや広くする。再生用ヘッ
ドでは、透磁率の大きなコアを使いギャップ長を狭く
（図５参照）している。

【０００７】また、コアの効率をあげ記録電流の低減、
再生出力の増大を図るため、 (1)巻線溝を小さくする。
(2)ギャップ部のみコアをしぼった形にする。など、磁
気抵抗の低減がなされている。さらに、 (3)インピーダ
ンスノイズを下げるためコイル線経を太くする。 (4)摺
動雑音を低減させるためフェライトコアの組成、結晶方
位、加工法を考慮する、あるいはフェライトコアを用い
ない。など、雑音低減のための工夫・措置がとられてい
る。

【０００８】次に、上記のような特性・性能を満たした
従来のＭＩＧヘッドの構成とその製造方法について説明
を行う。このような従来のＭＩＧヘッドして、特願平５
−３３０２６３に開示されたものがある。

【０００９】即ち、従来のＭＩＧヘッドは、前記図６に
示したように巻線溝２を有するコア３とそれと対をなす
巻線溝のないコア４とからなり、それぞれのコア表面に
は金属薄膜５及び６が形成されていて、これら２つのコ
アの間（金属薄膜５及び６の間）に図示しない薄い非磁
性層をはさみ、ガラス７で封着（接着）して構成されて
いる。また、コア３と金属薄膜５及び６のみが磁性体
で、それ以外は非磁性体で構成されていて、ポール長Ｐ
ｏが５μｍ以上３０μｍ以下の寸法で構成されている。
これにより、コア側面間の磁気抵抗を大きくすることが
でき、磁束のもれを少なくすることができ、インダクタ
ンスの小さなＭＩＧヘッドを得ることができる。

【００１０】次に、このような従来のＭＩＧヘッドの製
造方法について説明する。図７は従来のＭＩＧヘッドの
製造方法を示す図である。

【００１１】図７（ａ）に示すように、磁性体ブロック
３と非磁性体ブロック４のうち磁性体ブロック３に巻線
溝２を加工し、図７（ｂ）に示すようにその表面に金属
磁性膜５，６を、後述するスパッタリングなどの方法を
用いて付着（形成）する。このとき、金属磁性膜５，６
のうちいずれかの膜圧が５μｍ以上３０μｍ以下となる
ようにする。また、ギャップを形成するために、図示し
ない非磁性層（ガラス等）を前記スパッタリングなどの
方法を用いて、前記金属磁性膜５，６の少なくとも一方
の表面に付着させる。そして、図７（ｃ）に示すように
２つのブロック３，４を、前記金属磁性膜５，６の左右
が一致するようにガラス７等を用い、加圧・加熱するこ
とにより接着する。さらに、この接着ブロック１０を図
に示す点線部分で切断することにより、図７（ｄ）に示
すＭＩＧヘッドを得る。

【００１２】ところで、前述のスパッタリングについて
であるが、スパッタリングとは、不活性ガス（多くはＡ
ｒ）を適当な圧力（１〜１０^-2Ｐａ）となるように真空
層に導入しながら、成膜したい物質（ターゲット）と数
ｃｍ離した金属板ホルダ上の基板との間に放電（直流ま
たは高周波）を起こし、加速された不活性ガスイオンで
前記ターゲット表面から原子・分子をたたき出し、前記
基板に膜を堆積させる方法である。この方法は、蒸着法
と比べて (1)入射原子のエネルギーが高く（〜１０ｅ
ｖ）、薄膜と基板間に界面混合層が形成されるため付着
力が強く、島状膜から連続膜になる膜圧が薄い。 (2)蒸
着よりも膜圧均一性、ステップカバレージがよい。等
の特長を有していて、前記金属磁性膜５，６や前記非磁
性層（ガラス等）を薄く均一にかつ強固に付着させるの
に非常に適している。

【００１３】一方、図７に示した方法によりポール長Ｐ
ｏが５μｍ以上３０μｍ以下の充分に小さいＭＩＧヘッ
ドの作成が可能である。ところで、ＭＩＧヘッドの作成
工程の中に、２つのブロック３，４を金属磁性膜５，６
の左右が一致するようにガラス７等を用い加圧・加熱す
ることにより接着する工程がある。この接着の工程によ
りギャップ長が決定されるわけである。即ち、この工程
以前に非磁性層（ガラス等）をスパッタリングなどの方
法を用いて金属磁性膜５，６の少なくとも一方の表面に
付着させる工程があり、理論的にはこの工程で付着され
た非磁性層の厚さが前記ギャップ長と等しくなるわけで
あるが、独立に成形されていった２つのブロック、即
ち、２つのコアをＭＩＧヘッド作成工程の最終段階にお
いて力学的（物理的）外圧を付加することにより接着す
るのであるから、スパッタリングにより、いくら精密に
均一にかつ強固に非磁性層が付着されたとしても、ギャ
ップ長の寸法精度にはおのずと限界があるといえる。

【００１４】また、１つの基台に複数のヘッドを取り付
けて使用する場合にも問題がある。図８はＶＴＲ用磁気
ヘッドの一種で、１つの基台に２つのヘッドコアを使っ
たいわゆるダブルアジマスヘッドを示した図である。ま
た、図９はＭＲヘッドを示した図である。ＭＲヘッドと
は、ＭＲ素子（Magneto-Resist-Element＝磁気抵抗効果
素子）を用いて、磁気媒体上の磁界の変化に応じて抵抗
値が変わる（磁束応答形ヘッド）ことを利用したヘッド
で、図９に示すとおり薄膜ＭＲ素子３１と磁気バイアス
用磁石３３とからなるきわめて簡単な構造からなる。コ
イルを用いたヘッドではテープ速度が速いほど出力が大
きくなるのに対して、ＭＲヘッドではテープ速度に無関
係に一定の出力が得られ、通常のテープ速度ではＭＲヘ
ッドの方がはるかに高出力が得られるといった特長を有
する再生専用ヘッドである。

【００１５】このような、即ち、図８に示すようなダブ
ルアジマスヘッドの場合や、記録ヘッドにＭＩＧヘッド
を用い再生ヘッドに図９に示すようなＭＲヘッドを用い
たような複合ヘッドの場合には、前記図７（ｃ）に示す
接着ブロック１０の段階で、巻線溝２のない側の非磁性
体ブロック４を薄く、あるいは図１０に示す接着ブロッ
ク１０から非磁性体ブロック４を取り去った状態にする
必要がある（この場合ブロック４は非磁性体で有る必要
もない）。しかしながら、このような加工を施すと、強
度的に弱い金属磁性膜６などが加工負荷により破損して
しまう。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】上記の如く、従来のＭ
ＩＧヘッドの製造方法においては、２つのコアブロック
をガラス等を用い加圧・加熱することにより接着する工
程において、前記コアブロックの少なくとも一方の表面
に付着させた非磁性層の厚さ（２つのコアブロック間の
隙間）、即ち、ギャップ長を一定に保ちつつ接着するこ
とが困難であること。また同様に、ダブルアジマスヘッ
ド等の複合ヘッドの場合には、巻線溝のない側の非磁性
体ブロックを薄く、あるいは非磁性体ブロック全部を取
り去った状態にする必要があるが、このような加工を施
すと、強度的に弱い金属磁性膜などが加工負荷により破
損してしまうという問題があった。

【００１７】そこで、本発明はこのような問題を除去す
るため、一定のギャップ長を有し、巻線溝のない側の非
磁性体ブロックを薄く、あるいは前記巻線溝のない側の
非磁性体ブロックの無い磁気ヘッドコア及びその製造方
法を提供することを目的とするものである。

【００１８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明によ
る磁気ヘッドコアの製造方法は、フェライト等からなる
磁性体ブロックに巻線溝を溝入れ加工し、前記溝入れ加
工した巻線溝表面に高透磁率の第１の金属磁性膜をスパ
ッタリング等の方法により付着させ、前記第１の金属磁
性膜が付着した巻線溝内に熱処理等の方法でガラス等の
第１の非磁性体を充填し、面粗さが充分小さくなるよう
に、かつ、前記磁性体ブロックに付着した前記第１の金
属磁性膜が所定の厚さだけ残るように、前記金属磁性膜
が付着した巻線溝内に充填した前記第１の非磁性体の表
面をラップしてギャップ対向面とし、その上に所定のギ
ャップ長と等しい厚さとなるように第２の非磁性体を付
着させ、さらにその上に高透磁率の第２の金属磁性膜を
付着させ、前記ガラス等の第１の非磁性体部分にレーザ
ー加工等により巻線を通すための穴を開けることを特徴
とする。

【００１９】請求項２記載の発明による磁気ヘッドコア
の製造方法は、フェライト等からなる磁性体ブロックに
巻線溝を溝入れ加工し、前記溝入れ加工した巻線溝表面
に高透磁率の第１の金属磁性膜をスパッタリング等の方
法により付着させ、前記第１の金属磁性膜が付着した巻
線溝内に熱処理等の方法でガラス等の第１の非磁性体を
充填し、面粗さが充分小さくなるように、かつ、前記磁
性体ブロックに付着した前記第１の金属磁性膜が所定の
厚さだけ残るように、前記金属磁性膜が付着した巻線溝
内に充填した前記第１の非磁性体の表面をラップしてギ
ャップ対向面とし、その上に所定のギャップ長と等しい
厚さとなるように第２の非磁性体を付着させ、さらにそ
の上に高透磁率の第２の金属磁性膜を付着させ、前記ガ
ラス等の第１の非磁性体部分を中心として前記第１の金
属磁性膜および前記磁性体ブロックにおよぶ部分にレー
ザー加工等により巻線を通すための穴を開けることを特
徴とする。

【００２０】請求項３記載の発明による磁気ヘッドコア
の製造方法は、フェライト等からなる磁性体ブロックに
巻線溝を溝入れ加工し、前記溝入れ加工した巻線溝表面
に高透磁率の第１の金属磁性膜をスパッタリング等の方
法により付着させ、補助板の上に前記磁性体ブロックを
かぶせ、前記巻線溝内に前記補助板全体を覆いある程度
の空間が残る程度にガラス等の第１の非磁性体を封入す
る。そして、前記補助板を外した前記磁性体ブロック側
の面の面粗さが充分小さくなるように、かつ、前記磁性
体ブロックに付着した前記第１の金属磁性膜が所定の厚
さだけ残るようにラップしてギャップ対向面とし、その
上に所定のギャップ長と等しい厚さとなるように第２の
非磁性体を付着させ、さらにその上に高透磁率の第２の
金属磁性膜を付着させ、前記ガラス等の第１の非磁性体
部分または前記ガラス等の第１の非磁性体部分を中心と
して前記第１の金属磁性膜および前記磁性体ブロックに
およぶ部分に、レーザー加工等により巻線を通すための
穴を開けることを特徴とする。

【００２１】請求項４記載の発明による磁気ヘッドコア
は、巻線溝を有するフェライト等からなる磁性体ブロッ
クと、前記磁性体ブロックの巻線溝を有する面に均一に
付着した、高透磁率の第１の金属磁性膜と、前記巻線溝
に充填され、巻線を通すための穴の空いたガラス等から
なる第１の非磁性体と、所定の厚さを有する前記第１の
金属磁性膜と前記ガラス等からなる第１の非磁性体とで
構成される面に均一に付着した所定のギャップ長と等し
い厚さを有する第２の非磁性体と、前記第２の非磁性体
に均一に付着した第２の金属磁性膜と、から成ることを
特徴とする。

【００２２】請求項５記載の発明による磁気ヘッドコア
は、請求項４記載の磁気ヘッドコアにおいて、所定の厚
さを有する前記第１の金属磁性膜と前記ガラス等からな
る第１の非磁性体とで構成される面は、面粗さの小さい
平面からなることを特徴とする。

【００２３】請求項６記載の発明による磁気ヘッドコア
は、請求項４または５記載の磁気ヘッドコアにおいて、
前記巻線を通すための穴は、前記ガラス等からなる第１
の非磁性体部分を中心として前記第１の金属磁性膜およ
び前記磁性体ブロックにおよんでいることを特徴とす
る。

【００２４】

【作用】請求項１から６記載の発明によれば、第１の金
属磁性膜の上に第２の非磁性体（ギャップ膜）と第２の
金属磁性膜を、連続的に、スパッタリング等の方法で付
着させるようにしたので、ギャップの長さ（ギャップ
長）が、前記第２の非磁性体（ギャップ膜）の厚さとほ
ぼ同一になり、安定したギャップ長を有する磁気ヘッド
コアが得られる。

【００２５】また、巻線溝のない側のコアを第２の金属
磁性膜のみとし、強度的にも安定したものとしたので、
ダブルアジマスヘッド等の複合ヘッドとして容易に利用
することができる。

【００２６】

【実施例】実施例について図面を参照して説明する。図
１は本発明におけるＭＩＧヘッドの製造方法の一実施例
を説明するための図である。

【００２７】図１（ａ）から（ｈ）に示す図にしたがっ
て、ＭＩＧヘッドの製造方法の一実施例を説明する。先
ず、図１（ａ）に示すように、磁性体（通常はフェライ
ト）ブロック１２に巻線溝１１を溝入れ加工する。次
に、同図（ｂ）に示すように、前記溝入れ加工した巻線
溝１１に第１の金属磁性膜１３を、スパッタリング等の
方法により付着させる。その後、同図（ｃ）に示すよう
に、ガラス等の非磁性体１４を、前記金属磁性膜１３が
付着した巻線溝１１内に熱処理等の方法で封入・充填す
る。そして、同図（ｄ）に示すように、はみ出した非磁
性体１４の表面をラップして取り除いてギャップ対向面
１５とする。その上に、同図（ｅ）に示すように、スパ
ッタリング等の方法によりギャップ長と等しい厚さとな
るように非磁性体１６を付着させ、さらにその上に、同
図（ｆ）に示すように、第２の金属磁性膜１７を付着さ
せる。このようにして作成されたブロック１８を図に示
す点線の位置で切断すると、同図（ｇ）に示すようなチ
ップ１９ができる。そして、最後に非磁性体１４にレー
ザー加工等により、同図（ｆ）に示すような巻線を通す
ための穴２０を開けて完成する。

【００２８】以上のようにして作成されたＭＩＧヘッド
のギャップ２１は、第１の金属磁性膜１３の上に、ギャ
ップ長と等しい厚さとなるような非磁性体（ギャップ
膜）１６を付着させ、さらにその上に第２の金属磁性膜
１７を、既述した薄膜を均一かつ強固に付着させるのに
非常に適したスパッタリングなどの方法により連続的に
付着させるため、前記ギャップ２１の長さ（ギャップ
長）と前記非磁性体（ギャップ膜）１６の厚さとをほぼ
等しくすることが可能となり、ばらつきのない安定した
ギャップ長を有したＭＩＧヘッドを製造することが可能
となる。

【００２９】また、巻線溝のない方のコアが、前記第２
の金属磁性膜１７のみとなるため、前述のＶＴＲ用のダ
ブルアジマスヘッドであれば、機械的な加工を加えるこ
となくそのまま使用することが可能であり、前述のＭＲ
ヘッドとの複合ヘッドの場合には、前記図１（ｆ）のブ
ロック１８の段階で、第２の金属磁性膜１７の上にさら
にＭＲ素子等を付加するような工程を付加することで、
容易に複合ヘッドを製造することが可能である。

【００３０】次に、本発明の他の実施例について以下に
いくつか記す。図２は巻線を通すための穴２０を開ける
ための他の方法を示した図である。

【００３１】図２は、前記図１に示したＭＩＧヘッドの
製造方法の最後の工程、即ち、図１（ｈ）において、巻
線を通すための穴２０を開ける際に、図１では非磁性体
１４のみに穴を開けていたのに対し、本実施例では、そ
の穴が前記非磁性体１４を含め第１の金属磁性膜１３や
磁性体ブロック１２にまでおよんでいる。しかしなが
ら、このような穴の開け方をしても磁束の流れを分断す
ることは無いので問題は無い。即ち、必要に応じて前記
ＭＩＧヘッドの製造方法の最後の工程を、図２に示した
方法に置き換えることも可能である。

【００３２】図３は機械的な加工を加えることなく、巻
線を通すための穴２０を形成するための方法を示した図
である。

【００３３】即ち、図１（ｂ）の工程まで行った後、図
３（ａ）に示すように、補助板２３の上にブロック１２
をかぶせ、巻線溝１１内に非磁性体のガラス１４を空間
２２ができるように封入する。そして、図３（ｂ）に示
すように、はみ出した非磁性体１４の表面をラップして
取り除いてギャップ対向面とする。以降、図１と同様の
方法で、前記ギャップ対向面１５の上に、図１（ｅ）に
示すように、スパッタリング等の方法によりギャップ長
と等しい厚さとなるように非磁性体１６を付着させ、さ
らにその上に、図１（ｆ）に示すように、第２の金属磁
性膜１７を付着させる。このようにして作成されたブロ
ック１８を図に示す点線の位置で切断すると、図３
（ｃ）に示すような巻線用の穴２２を有したＭＩＧヘッ
ドチップ３６ができる。

【００３４】以上の方法によれば、図１に示したＭＩＧ
ヘッドの製造方法の最後の工程において、機械的な加工
を加えることにより巻線を通すための穴２０を形成する
必要が無くなる。即ち、最初から巻線用の穴２２を有し
たＭＩＧヘッドチップ３６を得るＭＩＧヘッドの製造方
法を提供することができる。

【００３５】一方、図４に示すように、巻線溝１１を加
工した後、ギャップ２１の下端となるべきエッジを除去
することが考えられる。

【００３６】図４（ａ）は、前記図１のに示したＭＩＧ
ヘッドの製造方法の工程（ａ）で、磁性体ブロック１２
に巻線溝１１を加工した後、ギャップ２１の下端となる
べきエッジをイオンシーリング等の方法を用いて除去し
たものを示す図である。これにより、記録用ＭＩＧヘッ
ドに再生用ＭＲヘッドを付加して複合ヘッドを作る際
に、前記再生用ＭＲヘッドの位置基準となるエッジ２４
のチッピングをなくし、直線性を増すことが可能とな
る。さらに、図４（ｂ）に示すように複数列のエッジの
加工をする場合に、この列のピッチＰの寸法精度を上げ
ることができる。

【００３７】尚、上記実施例では、ＭＩＧヘッドを中心
にして説明したが、本発明はこれに限定されず、コイル
を用いて磁気記録媒体に対し読み書きを行うあらゆる種
類の磁気ヘッドに対して応用することが可能である。

【００３８】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、ＭＩ
Ｇヘッドにおいて、巻線溝の無い側のコアを、巻線溝を
有する側のコアの上に、非磁性体（ギャップ膜）をはさ
み、薄膜の形で形成するようにしたので、巻線溝の無い
側のコアを元から薄く形成することができ、かつ、薄膜
形成のための手段として、スパッタリング等を用いるこ
とにより、ばらつきのない、ほとんど同一のギャップ長
を有するＭＩＧヘッドを製造することができる。

【００３９】また、本発明によるＭＩＧヘッドの製造方
法によれば、磁気ヘッドの製造の効率を上げるために、
素材（ブロック）のサイズを大きくしても、ギャップ長
がばらつくことがないので歩留が悪化することがないの
で、効率よく磁気ヘッドの製造能力を高めることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＭＩＧヘッドの製造方法の一実施例を
説明するための図である。

【図２】巻線を通すための穴を開けるための他の方法を
示した図である。

【図３】機械的な加工を加えることなく、巻線を通すた
めの穴を形成するための方法を示した図である。

【図４】巻線溝を加工した後、ギャップの下端となるべ
きエッジを除去したところを示す図である。

【図５】従来の非平行型ＭＩＧヘッドの構造を示す図で
ある。

【図６】従来の平行型ＭＩＧヘッドの構造を示す図であ
る。

【図７】従来のＭＩＧヘッドの製造方法を示す図であ
る。

【図８】ＶＴＲ用磁気ヘッドの一種で、１つの基台に２
つのヘッドコアを使ったいわゆるダブルアジマスヘッド
を示した図である。

【図９】ＭＲヘッドを示した図である。

【図１０】接着ブロックから非磁性体ブロックを取り去
った状態を示す図である。

【符号の説明】

１１…巻線溝１２…巻線溝のある側のコア（磁性体）１３…第１の金属磁性膜１４…非磁性体（ガラス等）１５…ギャップ対向面１６…非磁性体（ギャップ膜）１７…第２の金属磁性膜１８…ブロック１９…ＭＩＧヘッドチップ２０…巻線穴２１…ギャップ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】フェライト等からなる磁性体ブロックに巻
線溝を溝入れ加工し、前記溝入れ加工した巻線溝表面に
高透磁率の第１の金属磁性膜をスパッタリング等の方法
により付着させ、前記第１の金属磁性膜が付着した巻線
溝内に熱処理等の方法でガラス等の第１の非磁性体を充
填し、面粗さが充分小さくなるように、かつ、前記磁性
体ブロックに付着した前記第１の金属磁性膜が所定の厚
さだけ残るように、前記金属磁性膜が付着した巻線溝内
に充填した前記第１の非磁性体の表面をラップしてギャ
ップ対向面とし、その上に所定のギャップ長と等しい厚
さとなるように第２の非磁性体を付着させ、さらにその
上に高透磁率の第２の金属磁性膜を付着させ、前記ガラ
ス等の第１の非磁性体部分にレーザー加工等により巻線
を通すための穴を開けることを特徴とする磁気ヘッドコ
アの製造方法。
【請求項２】フェライト等からなる磁性体ブロックに巻
線溝を溝入れ加工し、前記溝入れ加工した巻線溝表面に
高透磁率の第１の金属磁性膜をスパッタリング等の方法
により付着させ、前記第１の金属磁性膜が付着した巻線
溝内に熱処理等の方法でガラス等の第１の非磁性体を充
填し、面粗さが充分小さくなるように、かつ、前記磁性
体ブロックに付着した前記第１の金属磁性膜が所定の厚
さだけ残るように、前記金属磁性膜が付着した巻線溝内
に充填した前記第１の非磁性体の表面をラップしてギャ
ップ対向面とし、その上に所定のギャップ長と等しい厚
さとなるように第２の非磁性体を付着させ、さらにその
上に高透磁率の第２の金属磁性膜を付着させ、前記ガラ
ス等の第１の非磁性体部分を中心として前記第１の金属
磁性膜および前記磁性体ブロックにおよぶ部分にレーザ
ー加工等により巻線を通すための穴を開けることを特徴
とする磁気ヘッドコアの製造方法。
【請求項３】フェライト等からなる磁性体ブロックに巻
線溝を溝入れ加工し、前記溝入れ加工した巻線溝表面に
高透磁率の第１の金属磁性膜をスパッタリング等の方法
により付着させ、補助板の上に前記磁性体ブロックをか
ぶせ、前記巻線溝内に前記補助板全体を覆いある程度の
空間が残る程度にガラス等の第１の非磁性体を封入す
る。そして、前記補助板を外した前記磁性体ブロック側
の面の面粗さが充分小さくなるように、かつ、前記磁性
体ブロックに付着した前記第１の金属磁性膜が所定の厚
さだけ残るようにラップしてギャップ対向面とし、その
上に所定のギャップ長と等しい厚さとなるように第２の
非磁性体を付着させ、さらにその上に高透磁率の第２の
金属磁性膜を付着させ、前記ガラス等の第１の非磁性体
部分または前記ガラス等の第１の非磁性体部分を中心と
して前記第１の金属磁性膜および前記磁性体ブロックに
およぶ部分にレーザー加工等により巻線を通すための穴
を開けることを特徴とする磁気ヘッドコアの製造方法。
【請求項４】巻線溝を有するフェライト等からなる磁性
体ブロックと、前記磁性体ブロックの巻線溝を有する面に均一に付着し
た、高透磁率の第１の金属磁性膜と、前記巻線溝に充填され、巻線を通すための穴の空いたガ
ラス等からなる第１の非磁性体と、所定の厚さを有する前記第１の金属磁性膜と前記ガラス
等からなる第１の非磁性体とで構成される面に均一に付
着した所定のギャップ長と等しい厚さを有する第２の非
磁性体と、前記第２の非磁性体に均一に付着した第２の金属磁性膜
と、から成ることを特徴とする磁気ヘッドコア。
【請求項５】所定の厚さを有する前記第１の金属磁性膜
と前記ガラス等からなる第１の非磁性体とで構成される
面は、面粗さの小さい平面からなることを特徴とする請
求項４記載の磁気ヘッドコア。
【請求項６】前記巻線を通すための穴は、前記ガラス等
からなる第１の非磁性体部分を中心として前記第１の金
属磁性膜および前記磁性体ブロックにおよんでいること
を特徴とする請求項４または５記載の磁気ヘッドコア。