JPS6278556A - ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法及び水洗代替安定液 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明はハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法及
び該処理方法に用いるのに適切な水洗代替安定液に関し
、更に詳しくは水洗処理工程を省略した上て、高温高湿
下での光に対する保存安定性が優れ、かつ未露光部にス
ティンの発生か少ない新規なハロゲン化銀カラー写真感
光材料の処理方法及び水洗代替安定液に関する。

［従来技術］ 一般にハロゲン化銀写真感光材料は露光後、現像−漂白
定着−水洗あるいは現像−漂白一水洗一定石一水洗一安
定という工程で処理されるが、このような処理に関して
は近年環境保全の聞届、又は水資源の問題が重要視され
てきている。このため大量に使用される水洗水を減少す
る方法か提案されており１例えば水洗槽を多段構成して
水を逆流させることにより水洗水を少量にする技術とし
て、西独特許第２．９２０，２２２号明細書及び技術文
献としてのニス ・アール・ゴールトワッサー（Ｓ、Ｒ，Ｇｏｌｄｗａｓ
ｓｃｒ）　。

「ウォーター・フロー・レイト・インマージョン・つオ
ツシング・オブ・モーションピクチャー・フィルム　”
Ｗａｔｅｒ　Ｆｌｏｗ　Ｒａｔｅ　ｉｎ　ＩＩＩＩａｅ
ｒｓｉｏｎ−Ｗａｓｈｉｎｇｏｆ　ＭｏＬｉｏｎｐｉｃ
ｔｕｒｅ　Ｆｉ１ｍ″Ｊｏｕｒ、ＳＭＰＴＥ、６４．２
４８〜２５３．Ｍａｙ（１９５５）　Ｊが知られている
。更に水洗工程を省略し実質的に水洗を行わずに安定化
処理する方法か特開昭５７−８５４３号、同５８−１４
８３４号、同５８−１３４６３６号公Ｗｉ等に記載され
ている。

しかしながら、いずれの場合も水洗水の補充量を減少さ
せ、低公害化を計る技術であるけれども、写真画像の経
時保存性は極めて不充分てあり、特に高温高湿下での光
による色素の褪色か大きいという問題を有している。ま
た、水洗代替安定液による処理条件（処理層中の攪拌条
件や温度条件等）の変動によっては、前記問題が生じや
すいことか判った。

また近年ミニラボは急増しており、日本国内に設置され
たミニラボの数は１９８５年５月現在て約：ｌ、０００
といわれており、このうち少なくとも３分の１は、ここ
−年間で設置されたものといわれている。まさに空前の
ミニラボブームである。そしてこのミニラボの大半はコ
ンパクト性と無配管という簡便性の故に水洗水を用いな
い水洗代替安定液を使用している。しかるに、ミニラボ
は処理量が極めて少ないラボか多く、このようなラボて
処理された際には、蒸発等により安定液が濃縮化され塩
濃度か上昇することによりて、イラジェーション防止色
素や増感色素の感光材料からの溶出による蓄植が極めて
増加し、スティンか発生する欠点か生じることか判った
。

一方、近時におけるミニラボブームに伴ない各社が多種
多様の自動現像機を開発収光するに至ったか、このよう
な各種型式の自動現像機は処理液の攪拌方式及び攪拌能
力か千差万別てあって、Ｖ！Ｉ。

押蓋が大き過ぎるきらいかある。このような処理液攪拌
能力差によつて前記スティンの発生についても非常に悪
いラボが生じているのか実情である。中ても、未露光部
においてスティンか目立ちカラーペーパーでは未露光部
が白地であるため僅かのスティンでも重大な欠点となる
し、カラーネガフィルムではプリンターの露光時間に影
響を与えカラーバランスがくずれてしまう欠点となる。

また、このようなスティンの発生は、色素画像を保存し
た場合に特に高温高湿時ての光の照射下での保存耐久性
を悪化させることも判明した。

［発明の目的］ 従って本発明の目的は、実質的に水沈水を使わず、エネ
ルギーコスト及び公害負荷の少ない感光材料の処理方法
及び水洗代替安定液を提供することにある。

また本発明の他の目的は、実質的に水洗水を使うことな
く水洗代替安定液を用いて、連続処理をした場合の色素
画像の保存安定性の劣化、特に高温高湿時の光による保
存安定性の劣化を防止する感光材料の処理方法及び水洗
代替安定液を提供することにある。

さらにまた本発明の別なる目的は、水洗代替安定液を用
いて低処理量で非連続的に長期にわたって処理をした場
合に発生する感光材料の未露光部のスティンを防止する
感光材料の処理方法及び水洗代替安定液を提供すること
にある。

さらに別なる目的は、感光材料を高速搬送（例えば３　
ｍ　／　ｔｓ　ｉｎ以上）処理する場合等における安定
液の泡の発生を抑え、他処理液への泡による混入を防ぎ
、安定液のむだな損失を防ぐ感光材料の処理方法及び水
洗代替安定液を提供することにある。

さらに別なる目的は、ラボにおける高速搬送（例えば３
ｍ／ｍｉｎ以上）処理においても、またどのような条件
下においても画像安定性が優れたカラー画像を安定に得
られる感光材料の処理方法及び水洗代替安定液を提供す
ることにある。

さらに別なる目的は、水洗代替安定液の性能を低下させ
ることなく安定液の泡の発生を防止しうる化合物を添加
してなる水洗代替安定液を提供することにある。

［問題を解決するための手段］ 上述の目的を達成する本発明に係るハロゲン化銀カラー
写真感光材料の処理方法は、定着能を有する処理液で処
理し、引き続き実質的に水洗工程を経ることなく水洗代
替安定液で処理するハロゲン化銀カラー写真感光材料の
処理方法において、該ハロゲン化銀カラー写真感光材料
が誘電率３．５以上を有する高沸点有機溶媒を含有し、
か？該水洗代替安定液の表面張力が２０〜６０ｄｙｎｅ
／　ｃｍであることを特徴とする。

本発明の好ましい実施態様は前記安定液がコンパウンド
タイプ及び／またはエマルジョンタイプのシリコーンを
含有することであり、これにより、本発明の目的をより
効果的に達成しうることを見い出した。

更により好ましい実施態様として特に前記ハロゲン化銀
カラー写真感光材料が下記一般式［Ｉ］又は［■］で示
される誘電率３．５以上を有する高沸点有機溶媒を含有
する際に、本発明の効果か、より発揮されるものである
。

一般式［Ｉ］ 式中、　Ｒ，及びＲ２はそれぞれアルキル基、アルケニ
ル基又はアリール基を表す。

一般式［ＩＩ］ 式中、Ｒ，、Ｒ，及びＲｓはそれぞれアルキル基、アル
ケニル基又はアリール基を表す。

上述の目的を達成する本発明に係る水洗代替安定液は、
シリコーンを含有することを特徴とする。

以下１本発明について更に詳述する。

従来、特定のシリコーン化合物が、例えば特公昭４９−
２６２６２号、リサーチディスクロージャー　（Ｒｅｓ
ｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ）　１７４３１号及
び特開昭５９−１７５５１号等に記される様にフィルム
等の水滴むらを防止する目的で水洗代替安定液でない、
定着及び水洗後の最終処理液に添加することが知られて
いるか、本発明は特定の誘電率を有する高沸点有機溶媒
を含有する感光材料を、特定の表面張力を有する水洗代
替安定液で処理するのが特徴である。とりわけ本発明に
おいて定着とか漂白定着等の定着能を有する処理液に引
き続く水洗代替安定液（実質的な水洗工程を経ない）に
シリコーンを添加することにより、より良好に本発明の
効果を奏することができるものであり、この点において
前記水滴むら防止の目的で水洗代替安定液でない水洗後
の単なる従来から知られている安定浴に用いられる最終
処理液に添加する技術とは異なるものである。

本発明に係わるシリコーンはオルガノポリシロキサン類
のことて、例えば、化学大辞典、４巻。

８７２ページ（共立出版■、昭和４７年９月１５日縮刷
版第１４刷発行）に記載されているものである。また、
好ましいシリコーンは一般的には特定の界面活性剤やア
ルコール系の溶剤とともに消泡剤として知られているも
のである。

また１本発明に係わるシリコーンとしては、オイルタイ
プ、溶液タイプ、コンパウンドタイプ、エマルジョンタ
イプが挙げられ、それらの具体的例示化合物としては例
えば以下に示すものか挙げられる。

（ｉ）オイルタイプ ・ＦＳアンチフオーム２００（ダウコーニング■製） ・Ｌ−４５（日本ユニカー鞠製） （ｉｆ）溶液タイプ ・ＦＳ　ＸＤ−２８８９（ダウコーニング■製）・ＦＳ
　ＸＤ−２８９８（ｎ　　　　　　）（ｉｉｉ）コンパ
ウンドタイプ ーＦＳアンチフオームＤＢ−１００（ダウコーニング■
製） ・ＦＳアンチフオーム５４４　　　（ＩＩ　　　　）・
ＦＳアンチフオーム００１　　　（Ｉ）　　　）・ＦＳ
アンチフオーム０２６Ａ　　　（ｎ　　　　）・５ＡＧ
−４７（日本ユニカー−製） ・５ＡＧ−１００（７１） ・５ＡＧ−４７１（）Ｉ） ・５ＡＧ−３：１００（）Ｉ） −ＦＺ−３２８（ＩＩ　　　　　　　　　　　）−ＦＺ
−３３４（ＩＩ） ・ＦＺ−５６０４（ｒｔ　　　　　　　）・ＦＺ−５６
０：１（ｒｔ） （ｉｖ）エマルジョンタイプ ・ＦＳアンチフオーム　５４５　（ダウコーニンク■製
） ・ＦＳアンチフオーム０１：ｌＢ　　（）Ｉ　　　）・
ＦＳアンチフオームＡＦＥ　　（ｎ　　　　）・ＦＳア
ンチフオーム　ＤＢ−３１Ｃｔ＋　　　　）・ＦＳアン
チフオームＤＢ−ＬＩＯＮ　　　　ｎ　　　　）・ＦＳ
アンチフオーム０２５（）ｌ　　　）・ＦＳアンチフオ
ーム００９　　（Ｉ）　　　）・ＦＳアンチフオーム　
ＣＥ　　　（ツノ　　　　）・ＦＳアンチフオーム　Ｂ
Ｅ　　　、（ツノ　　　　）・ＦＺ−３３６（日本ユニ
カー麹製） ・ＦＺ−５２０５（１１） ・５ＡＧ−３０（Ｈ） ・５ＡＧ−１０（ｊ）） ・５ＡＧ−：ｌ：１１０（ｒ）） ・５ＡＧ−：１３９０−（ｔ）） ・５ＡＧ−３３９：１（ｔ）） ・５ＡＧ−３：１９５　　　　　　　　　（ｎ　　　　
　　　）・ユニサット　　　　（ｌ）　　　　）−ＦＺ
−３４０（Ｊｊ　　　　　） ・アンチホームＥ−２０（花王石蝕■製）・ＦＳアンチ
フオーム９０（ダウコーニング■’ｍ＞これらシリコー
ンの中でも“、とりわけコンパウンドタイプ及びエマル
ジョンタイプのものか、本発明の効果の点て好ましく用
いられる。また特に、本発明においては安定性の点から
エマルジョンタイプのものか、とりわけ特に好ましく用
いられる。

本発明のシリコーンはシリコーン純分として水洗代替安
定液１１あたり　１ｍｇ〜Ｉｇの範囲て用いられること
が好ましく、より好ましくは３ｎ＋ｇ〜２００Ｂの範囲
で用いられる。　　Ｉｇをこえると感光材料の表面に汚
れか生じる傾向かみられｌｌ１ｇを下まわると本発明の
効果か小さくなる。

本発明のシリコーンの安定液への添加方法としては、シ
リコーンの原液又は稀釈したものを連続的又は必要に応
して点滴する方法、スプレー等により吹きつける方法、
補充液又は感光材料に添加しておき添加する方法、定着
能を有する浴（前浴）に添加し感光材料に付着させて持
ち込ませる方法、水洗代替安定槽壁面に塗布し、微量づ
つ溶出させて添加する方法等が挙げられる。

本発明の処理に用いられる水洗代替安定液の表面張力は
、２０〜６０ｄｙｎｅ／　ｃｍとするが、該水洗代替安
定液の表面張力は、「界面活性剤の分析と試験法」（北
原文雄、早野茂夫、原一部共著、１９８２年３月１日発
行、鞠講談社発行）等に記載されである一般的な測定方
法で測定され、本発明ては２０°Ｃにおける通常の測定
方法による表面張力の値である。

本発明の水洗代替安定液の表面張力を２０〜６０ｄｙｎ
ｅ／　ｃｍ　（２０°Ｃ）にする方法は任意であり２い
かなるものを用いてもよいが、界面活性剤が好ましく用
いられる。これらの水洗代替安定液の表面張力を２０〜
５０ｄｙｎｅ／　ｃｍにする界面活性剤は、補充液より
タンク液に添加されてもよいし、あるいは前浴より感光
材料に付着させて添加させてもよい。

さらに、該界面活性剤を感光材料中に含有させて本発明
の水洗代替安定液に溶出添加させてもよい。

本発明の界面活性剤の中でも、とりわけ本発明の目的の
効果に対する点から下記一般式［ＩＩＩ］〜［ＶＴ］で
示される化合物が好ましく用いられる。

一般式［ｍｌ Ｒ＋ｉ　　（：ｌｌ　　ＣＯＡ＋Ｒａ ＲアーＣＨ−ＣＯＯＲ９ 式中Ｒａ及びＲ７のうち一方は水素原子、他方は式−３
Ｏ，Ｍ　（Ｍは水素原子又は−価の陽イオンを表わす。

）で表わされる基を表わす、Ａ、は酸素原子又は式−Ｎ
Ｒ＋ｏ　　（Ｒｈｏは水素原子又は炭素原子数１〜８の
アルキル基を表わす、）で表わされる基を表わす。Ｒ８
及びＲ９は、それぞれ炭素原子数４〜１６のアルキル基
を表わす、但し、　Ｒａ、　Ｒ９又はＲＩＧで表わされ
るアルキル基はフッ素原子によって置換されていてもよ
い。

一般式［ｆｆ］ 八ｚ　　−０−（Ｂ）＠−Ｌ 式中、Ａ２は一価の有機基、例えば炭素原子数が６〜２
０．好ましくは６〜１２のアルキル基（例えば、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
又はドデシル等の各基）１．又は炭素原子数が３〜２０
のアルキル基で置換されたアリール基であり、置換基と
して好ましくは炭素原子数が３〜１２のアルキル基（例
えば、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル又はドデシ
ル等の各基）が挙げられ、アリール基としてはフェニル
、トリル、キシニル、ビフェニル又はナフチル等の各基
が挙げられ、好ましくはフェニル基又はトリル基である
。アリール基にアルキル基が結合する位置としては、オ
ルト、メタ、バラ位のいずれでもよい、Ｂはエチレンオ
キシド又はプロピレンオキサイドを表わし、　ｌは４〜
５０の整数な表わす。ｘｌは水素原子、　５ｏ３ｙ又は
ＰＯ，Ｙ、を示し、　Ｙは水素原子、アルカリ金属原子
（Ｎａ、Ｋ又はＬｉ等）又はアンモニウムイオンを表わ
す。

一般式［Ｖ］ 式中　、　　Ｒ１１１Ｒ１２，８ｒｓ及びＲＩ４はそれ
ぞれ水素原子、アルキル基、フェニル基を示すが。

１１１１、　　ｌ（＋４、　ＲＩ３及びＲ１４の炭素原
子数の合計が３〜５０である。Ｘ、Ｑはハロゲン原子、
水酸基、硫酸基、炭酸基、硝酸基、酢酸基、ｐ−トルエ
ンスルホン酸基等のアニオンを示す。

一般式［ＶＩ］ 式中、　Ｒ１５＋　”ｌｌｉ　、Ｒ１？　を及びＲ１６
はそれぞれ水素原子又はアルキル基を表わし、Ｍは一般
式［ＩＩＩ］と同義である。ｎ及びｐはそれぞれ０又は
１〜４の整数を示し、　ｌ≦ｎａｐ≦８を満足する値で
ある。

以下に、一般式［ｍｌ−［ＶＩ］で表わされる化合物の
代表的具体例を挙げる。

以下余白 （一般式〔■〕で表わされる化合物） ＳＯ３Ｎａ （閃　　　　　　　　　０２Ｈｓ （沁　０Ｈ２００００Ｈ２＋ＯＦ　２０Ｆ　ｚ　）　ｓ
ＨｃＨＯｏｏＯＨ２＋０Ｆ２０Ｆ２）　３ＨＳｏ、Ｎａ （ｘｉ　　ａＨ２ｃｏｏｏａｐ１゜ 菰 ０ＨＣＯＯＯ８Ｆ。

Ｓｏ、ＮＩＬ （一般式〔■ワつで表わされる化合物）（＋１　０．Ｈ
，、Ｏ（Ｏ□Ｈ４０）１ｏＨ（ＩＩ）　　Ｏ，Ｈ１□０
（ＯｓＨａＯ）　ＨｓＨ（ｌｕｌ　　ＯｇＨＨＯ（０２
Ｈ４０）　４ＳＯ３Ｎｍ（ＩＶ）　　０１６Ｈ２１０（
０２Ｈ４０）　１６Ｐ０３Ｎａ２３Ｈ７ ９Ｈ１９ （一般式（Ｖ）で表わされる化合物） ＯＨ３ ０Ｈ。

２Ｈ５ ２Ｈ５ ＯＨ３ ＯＨ８ ＯＨ。

０Ｈ１ ＯＨ８ （ＯＨ，ＯＨ，０）２Ｈ （一般式〔■〕で表わされる化合物） ０３Ｎａ Ｓｏ　、Ｈ ８ｏ、Ｋ （×） Ｏ３Ｎａ 本発明の目的の効果は前記界面活性剤等を用いて安定液
の表面張力を２０〜６０ｄｙｎｅ／ａＩＩにコントロー
ルする際に得られるが、特に表面張力か２５〜５０ｄｙ
ｎｅ／ｃｍの際にとりわけ本発明の目的の効果に対し良
好な結果を与える。

また、本発明においては、前記本発明の水洗代替安定液
で処理した後、通常は乾燥を行うか、リンスや、ホルマ
リンや界面活性剤等を含む清沙液で処理するのは任意で
ある。

次に本発明の処理方法が適用される処理工程の例を示す
、なお、安定液をＳ、定着能を有する液を（Ｆ）と、記
号表示する。

（イ）発色現像→漂白→定石（Ｆ）→Ｓ→乾燥（ロ）発
色現像→漂白→リンス→定着（Ｆ）→Ｓ→清浄→乾燥 （ハ）発色現像→漂白→定着（Ｆ）→Ｓ→清浄→乾燥 （ニ）発色現像→漂白定着（Ｆ）→Ｓ→乾燥（ホ）発色
現像→漂白定着（Ｆ）→Ｓ→清浄→乾燥 （へ）−浴発色現像漂白定Ｍ　（Ｆ）→Ｓ→乾燥（ト）
現像→リンス→反転→発色現像→調整→漂白→定着ＣＦ
）→Ｓ→清浄→乾燥 本発明の処理方法が上記例に限られないことは持ち論で
あるが、とりわけ前記（ロ）、（ハ）、（ホ）及び（ト
）が本発明では特に好ましく用いられる。

本発明の処理方法は連続処理（処理による液疲労を補充
液を加えることにより処理性能を一定に維持させなから
Ｊ！ｌ統的に処理する方法）に適用するのが効果が大き
い、連続処理には通常自動現像機が使用され、自動現像
機としてはハンガータイプ、ロールタイプ、シートタイ
プ、シネタイプ等が含まれ、本発明は特に自動現現像を
用いる連続処理に好ましく適用することかできる。また
、自動現像機の場合、定着部を有する液及び安定化処理
の各検量に感光材料に付着して持ち出される液の量を絞
るためスクイズや、ブレート等を設けるのが望ましい。

本発明は更に前記水洗代替安定液がｐＨ３〜９．５であ
り、かつ防パイ性を付与された処理液であることによっ
て１本発明の目的の効果をより良好に奏し、かつ感光材
料表面の乾燥後の汚れもよくなるという別なる効果もあ
るためより好ましい実施形態となる。

本発明の定着能を有する写真処理液（定着能を有する液
）とは、感光材料の処理において脱銀を目的とした処理
液のことであり、例えば定着液、漂白定着液、一浴現像
定着液、硬膜定着液、−浴現像漂白定着液等が含まれる
。

本発明において「定着能を有する処理液て処理し、引続
き実質的に水洗工程を経ることなく水洗代替安定液て処
理」とは、定着能を有する処理液による処理後直ちに安
定化処理してしまい実質的に水洗処理を行わない安定化
処理のための処理を指し、該安定化処理に用いる処理液
を水洗代替安定液といい、処理槽を水洗代替安定浴（＃
ｅ）又は安定浴（槽）という。

但し、水洗代替安定浴（槽）［該安定浴が２以上の複数
浴（槽）からなる場合は安定化処理最前槽］に持ち込ま
れる定着液又は漂白定着液の該槽における濃度か１／２
０００以下にならない程度であれば、単槽または複数槽
向流方式による極〈短時間のリンス処理、補助水洗およ
び水洗促進浴等の処理を行ってもよい。

上記の如く本発明の水洗代替安定液による処理は定着処
理後、行われるものである。

本発明において水洗代替安定液に好ましく用いられる化
合物としては鉄イオンに対するキレート安定度定数か６
以上であるキレート剤か挙げられ、これらは本発明の目
的を達成する上て好ましく用いられる。

ここにキレート安定度定数とは、Ｌ、Ｇ、５ｉｌｌｅｎ
・Ａ、Ｅ、Ｍａｒｔｅｌ＋著、”　５ｔａｂｉｌｉｔｙ
　Ｃｏｎ５ｔａｎｔｓｏｆ　Ｍｅｔａｌ−ｉｏｎ　Ｃｏ
ｌｌ１ｐｌｅｘｅｓ”　、　Ｔｈｅ　［：ｈｅｍｉｃａ
ｌ　５ｏｃｉｅｔｙ、Ｌｏｎｄｏｎ（１９６４）。Ｓ、
Ｃｈａｂｅｒｅｋ−Ａ、Ｅ、Ｍａｒｔｅｌ！著、”　Ｏ
ｒｇａｎｉｃＳｅｑｕｅｓｔｅｒｉｎｇ　Ａｇｅｎｔｓ
”、　Ｗｉｌｅｙ（１９５９）等により一般に知られた
定数を意味する。

本発明の水洗代替安定液に好ましく用いられる鉄イオン
に対するキレート安定度定数が６以上であるキレート剤
としては、有機カルボン酸キレート剤、有機リン酸キレ
ート剤、無機リン酸キレート剤、ポリヒドロキシ化合物
等が挙げられる。なお上記鉄イオンとは、第２鉄イオン
（Ｆｅ　２　＊　）を意味する。

第２鉄イオンとのキレート安定度定数か６以上であるキ
レート剤の具体的化合物例としては、下記化合物が挙げ
られるが、これらに限定されるものてはない。即ち、エ
チレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、ジア
ミノプロパン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチ
レンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルクリシン、エ
チレンジアミンニ酢酸、エチレンジアミンニプロピオン
酸、イミノニ酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ヒト
ロキシエチルイミノニ酢酸、ジアミノプ゛ロバノール四
酢酸、トランスシクロヘキサンジアミン四酢酸、クリコ
ールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミンテトラ
キスメチレンホスホン酸、ニトリロトリメチレンホスホ
ン酸、ｌ−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン
酸、　　１．１−ジホスホンエタン−２−カルボン酸、
２−ホスホノブタン−１，２，４−）−リカルボン酸、
１−ヒドロキシ−１−ホ龜 スホノプロパン−１，２，３−）リカルボン酸、カテコ
ール−３，５−ジホスホン酸、ビロリン酸ナトリウム、
テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリ
ウムが挙げられ、特に好ましくはジエチレントリアミン
五酢酸、ニトリロ三酢酸、１−ヒドロキシエチリデン−
１，１−ジホスホン酸等であり、中でもｌ−ヒドロキシ
エチリデン−１，１−ジホスホン酸が最も好ましく用い
られる。

上記キレート剤の使用量は水洗代替安定液１ｆＬ当り０
．０１〜５０ｇが好ましく、より好ましくは０．０５〜
２０ｇの範囲である。

本発明の水洗代替安定液の補充量が、単位面積当り前浴
からの持ち込み量の０．５倍より少ない場合は１本発明
の水洗代替安定液中に蓄積する前浴成分が多くなり、写
真色素画像の保存安定性が悪化し、一方、５０倍より多
い場合は本発明の目的の効果が小さくなる。このために
、本発明においては、０．５〜５０倍の範囲で用いるこ
とが好ましい。

特に２〜３０倍の範囲て用いる際には、前記本発明の目
的の効果をとりわけ、良好に奏し得る。特に感光材料１
ｍｌ当り　２０００ｔｍｌ以下を添加するのが好ましい
。

本発明の水洗代替安定液の槽は、ｌ槽でもよいが、２〜
ＩＯ槽程度まては槽の数を増やすことかでき、かつ槽増
加によって本発明の目的の効果も大゛きくなるため、こ
の範囲内で槽数を増やしてもよい。また、前記水洗代替
安定液に補充する補充液は何ケ所かに分けて補充しても
よいが、好ましくは、なるべく感光材料の処理の流れか
ら見て後の槽へ補充して、そのオーバーフロー（検量を
液面下に位置する管で連通させた場合、鎖管を浴液が通
る場合を含む、）を該槽の前の槽に流入させる型式にす
るのが好ましい。更に好ましくは、２槽以上の水洗代替
安定液て、最後の該安定槽へ水洗代替安定補充液を補充
して、オーバーフローを順次前の槽へ移入し、定着能を
有する液の次の水洗代替安定液からのオーバーフロー液
の一部又は全部は全て廃棄してもよいし、あるいは、該
定着能を有する液を流し込んでもよい。

本発明に用いられる水洗代替安定液に防パイ性を付与す
る手段としては、防パイ性を付与する化学的手段及び物
理的手段が挙げられる。

防パイ性を付与する化学的手段の具体例としては１本発
明の水洗代替安定液に防パイ剤を含有させることが挙げ
られる。好ましく用いられる防パイ剤は、ソルビン酸、
安息香酸系化合物、フェノール系化合物、チアゾール系
化合物、とリジン系化合物、グアニジン系化合物、カー
バメイト系化合物、モルホリン系化合物、四級ホスホニ
ウム系化合物、アンモニウム系化合物、尿素系化合物、
イソキサゾール系化合物、プロパツールアミノ系化合物
、スルファミド系化合物、ピロノン系化合物及びアミノ
酸系化合物である。

前記安息香酸系化合物は、サリチル酸、ヒドロキシ安息
香酸及びヒドロキシ安息香酸のエステル化合物としてメ
チルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブ
チルエステル等があるが、好ましくは、ヒドロキシ安息
香酸のｎ−ブチルエスチル、イソブチルエステル、プロ
ピルエステル及びサリチル酸であり、より好ましくは前
記ヒドロキシ安息香酸エステル３種の混合物である。

フェノール系化合物は、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸
基、カルボン酸基、アミノ基、アルキル基（特に、アル
キル基が０１〜６のアルキル基）又はフェニル基等を置
換基として持ってもよい化合物であり、好ましくはオル
トフェニルフェノール及びオルトシクロヘキシルフェノ
ール、ニトロフェノール、クロロフェノール、クレゾー
ル、グアヤコール、アミノフェノール、フェノール等で
ある。

チアゾール系化合物は、五員環に窒素原子及びイオウ原
子を持つ化合物であり、好ましくは１，２−ベンツイソ
チアゾリン３−オン、　２−メチル−４−イソチアゾリ
ン３−オン、２−オクチル−４−イソチアゾリン３−オ
ン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアシリ３−ノ
ン、２−クロロ−チアゾリル−ベンツイミダゾールであ
る。

ピリジン系化合物は具体的には、２．６−ツメチルピリ
ジン、２，４．６−）ツメチルピリジン、ソシウムー２
−ピリジンチオール−１−オキサイド等があるが、好ま
しくはラジウム−２−ピリジンチオール−１−オキサイ
ドである。

グアニジン系化合物は具体的には、シクロヘキシジン、
ポリへキサメチレンビグアニジン塩酸塩、ドデシルグア
ニジン塩酸塩等があり、好ましくはドデシルグアニジン
及びその塩である。

カーバメイト系化合物は具体的には、メチル−１−（プ
チルカーバモイル）−２−ベンツイミダゾールカーバメ
イト、メチルイミダゾールカーバメイト等がある。

モルホリン系化合物は具体的には、４−（３−ニトロブ
チル）モルホリン、　４−（３−ニトロブチル）モルホ
リン等がある。

四級ホスホニウム系化合物は、テトラアルキルホスホニ
ウム塩、テトラアルコキシホスホニウム塩等があるが、
好ましくは、テトラアルキルホスホニウム塩であり、更
に具体的な好ましい化合物はトリーｎブチル−テトラデ
シルホスホニウムクロライト及びトリーフェニル・ニト
ロフェニルホスホニウムクロライドである。

四級アンモニウム系化合物は具体的には、ベンザルコニ
ウム塩、ベンゼトニウム塩、テトラアルキルアンモニウ
ム塩、アルキルピリジウム塩等があり、更に具体的には
ドデシルジメチルベンジルアンモニウムクロライト、ド
デシルジメチルアンモニウムクロライト、ラウリルピリ
ジニウムクロライド等がある。

尿素系化合物は具体的には、Ｎ−（３，４−ジクロロフ
ェニル）−Ｎ”−（４−クロロフェニル）尿素、Ｎ−（
３−トリフルオロメチル）　−Ｎ　”−（４−クロロフ
ェニル）尿素等がある。

イソキサゾール系化合物は具体的には、３−ヒドロキシ
−５−メチル−イソキサゾール等がある。

プロパツールアミノ系化合物は、ｎ−プロパツール類と
イソプロパツール類があり、具体的にはＤＬ−２−ベン
ジルアミノ−１−プロパツール、トラエチルアミノ−１
−プロパツール、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１
−プロパツール、３−アミノ−１−プロパツール、イド
プロパツールアミン、ジイソプロパツールアミン、Ｎ、
Ｎ−ジメチル−イソプロパツールアミン等がある。

スルファミド系化合物は具体的には、０−ニトロベンゼ
ンスルファミド、ｐ−アミノベンゼンスルファミド、フ
ッ素化スルファミド、４−クロロ−３，５−ジニトロベ
ンゼンスルファミド、α−アミノ−ｐ−トルエンスルフ
ァミド、スルファニルアミド、アセトスルファグアニジ
ン、スルファチアゾール、スルファジアジン、スルファ
メラジン、スルファメタシン、スルファインオキサゾー
ル、ホモスルファミン、スルファミジン、スルファグア
ニジン、スルファメチゾール、スルファピラジン２フタ
ルイソスルフアチアゾール、スクシニルスルファチアゾ
ール等がある。

ピロノン系化合物としては具体的には、デヒドロ醇酸等
がある。

アミノ酸系化合物は具体的には、Ｎ−ラウリル−β・−
アラニンがある。

なお上記防パイ剤のなかで本発明において好ましく用い
られる化合物はチアゾール系化合物、スルファミド系化
合物、ピロノン系化合物等である。

水洗代替安定液への防パイ剤の添加量は、水洗代替安定
液ＩＪＬ当りｏ、ｏｏｉ〜３０ｇの範囲て用いられるこ
とが好ましく、より好ましくは０．００３ｇ〜５ｇの範
囲て使用される。

一方、物理的手段としては水洗代替安定液に紫外線照射
したり、磁場を通すことによる防ハイ性付与か挙げられ
る。

本発明において水洗代替安定液に磁場を通すとは磁場の
正極と負極の間に発生する磁場に水洗代替安定液を通過
させることであり、感光材料は磁場を通過しても、しな
くてもよい。

本発明に用いる磁場は、強磁性体の鉄、コバルト、ニッ
ケルからなる永久磁石等を使用することにより得られ、
又はコイル等に直流を流すことによっても得ることがで
きるが、特に限定されず、磁場を形成しつる全ての手段
を用いることができる。なお、磁場は１個の磁石を用い
て磁力線を形成するようにしてもよいし、２個（正極と
負極）の磁石を対向させて対向磁石間に磁力線を形成す
るようにしてもよい。

本発明に用いる水洗代替安定液を磁場に通す方法として
は、磁場を形成する永久磁石等を使用して安定液中及び
／又は液外に設けた永久磁石を移動（回転を含む）させ
るか、又は水洗代替安定液を攪拌又は循環により水洗代
替安定液を移動する等の方法がある。特に望ましい方法
としては、循環系パイプの内部又は外部の一部又は全部
に永久磁石を固定し安定液を循環させる方法である。

個々にパイプ全部に永久磁石を固定するとはパイプ自体
が永久磁石であってもよいし、該永久磁石を該パイプ全
部に取付けてもよい。

自動現像機の場合には水洗代替安定浴に永久磁石等を設
置することで目的は達成せられるが、前述のように安定
浴の循環系（循環パイプに限らず、途中のタンクその他
の部材を含む。）に設置することが好ましい、また水洗
代替安定化処理工程が多段安定浴の場合、全水洗代替安
定浴の安定液をｒ磁場に通すことが最も好ましいが、定
Ｍ能を有する処理液に最も近い水洗代替安定浴以外の安
定浴の安定液を磁場に通すことも好ましいことである。

なお、水洗代替安定浴自体、好ましくは水洗代替安定浴
内面に、磁力線を発生可能な素材を含有せしめた樹脂ラ
イニングを施してもよく、このライニングは循環系に施
すこともてきる。このようにして安定液を磁場に通すこ
とかてきる。

本発明において水洗代替安定液に紫外線を照射する方法
は、一般に市販されている紫外線ランプ又は紫外線照射
装置等によって行なわれ、好ましくは紫外線ランプの出
力は５〜ａｏｏｗ　（管出力）のものか好ましいが、こ
れに限定されるものではない。

また、本発明の好ましい実施態様によれば紫外線の波長
が２２０ｒ＋ａ＋〜３ＳＯｎｍの範囲のものである。

更に、照射方法としては、水洗代替安定液中又は水洗代
替安定液外に設置し直接照射する方法がある。

本発明によって処理される感光材料に用いられる有機溶
媒は誘電率３．５以上の化合物であり１例えば誘電＄　
３．５以上のフタル酸エステル、燐酸エステル等のエス
テル類、有機酸アミド類、ケトン類、炭化水素化合物等
である。好ましくは誘電率４．０〜８．５の高沸点有機
溶媒である。より好ましくは、該高沸点有機溶媒中の７
タル酸エステル類或いは燐酸エステル類である。なお、
本発明に用いられる有機溶媒は、２種以上の混合物であ
ってもよく、この場合は混合物が誘電率３．５以上であ
ればよい、なお、本発明ての誘電率とは、３０℃におけ
る誘電率を示している。

本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式［Ｉ］で示されるものが挙げられる。

一般式［Ｉ］ 式中、　Ｒ１及びＲ２はそれぞれアルキル基、アルケニ
ル基又はアリール基を表す、但し、　Ｒ，及びＲ２で表
される基の炭素数の総和は２〜３５であることか好まし
く、より好ましくは炭素数の総和が６〜２４である。

本発明において、前記一般式［ＮのＲｏ及びＲ１で表さ
れるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のものてあり、例
えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基。

デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、アリル基等である。Ｒ
１及びＲ２で表されるアリール基はフェニル基、ナフチ
ル基等であり、アルケニル基はへキセニル基、ヘプテニ
ル基、オクタデセニル基等である。これらのアルキル基
、アルケニル基及びアリール基は単一もしくは複数の置
換基を有していてもよい、アルキル基及びアルケニル基
の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基
、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、アル
コキシカルボニル基等が挙げられる。アリール基の置換
基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基
、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。これらの置
換基の２つ以上がアルキル基、アルケニル基又はアリー
ル基に導入されていてもよい。

本発明において有利に用いられる燐酸エステルとしては
、下記一般式［■］で示されるものか挙げられる。

一般式［１１］ 式中、　Ｒ３、Ｒ４及びＲ，はそれぞれアルキル基、ア
ルケニル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ３，Ｒ４及
びＲ５で表される基の炭素数の総和は３〜５４であるこ
とが好ましい。

本発明において、前記一般式［■］のＲ３、Ｒ４及びＲ
，で表されるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のもので
あり１例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トソデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基等である。

これらのアルキル基、アルケニル基及びアリール基は単
一もしくは複数の置換基を有していてもよい、好ましく
はＲユ、　Ｒ４及びＲ，はアルキル基であり、例えばｎ
−ブチル基、２−エチルヘキシル３、ｎ−オクチル基、
３，５．５−トリメチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ
−デシル基、５ｅｃ−デシル基、５ｅｃ−ドデシル基、
ｔ−オクチル基等が挙げられる。

アルケニル基としては、エチレン基、アリル基、ブテン
基等が挙げられ、またアリール基としては、フェニル基
、トリル基、キシリル基等が挙げられる。

以下に本発明に係る銹電率３．５以上の高沸点有機溶媒
の具体例を示すが本発明はこれらに限定されるものては
ない。

〔例示化合物〕

−ＩＡ−２ Ａ　−３Ａ　−４ −５Ａ−６ Ａ　−７Ａ　−８ Ａ−９Ａ−１゜ Ａ−１１Ａ−１２ Ａ−１３Ａ−１４ Ａ−１５Ａ−１６ Ａ−１７Ａ−１８ ■ ２Ｈ５ ＯＨ３ＣＨ３ Ａ−２１Ａ−２２ Ａ−２３Ａ−２４ Ａ−＝２５　　　　　　　　　　　Ａ−２６Ａ−２７Ａ
−２８ 八−２９Ａ−３０ Ａ−３１Ａ−３２ Ａ−３３Ａ−３４ ０−０ｇ８１ｇ（ｉ）　　　　　　　　　Ｃ’２Ｈ５０
＝Ｐ　０−Ｃ０Ｈ１，（ｉ）　　　　ＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ
Ｈ２）　３０Ｈ３０−０９８，、（ｉ）　　　　　　　
０＝Ｐ−００Ｈ２０Ｈ（ＣＨ２）３０Ｈ３Ｃ２Ｆｌ５ ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ２）　３　Ｃ）Ｉ　３２Ｈ５ Ａ−３５Ａ−３６ Ａ−３７Ａ−３８ ０−Ｃ１ｏＨｚ＋（”） ｏ＝ｐ−ｏ−ｃ１ｏＨ２，（ｎ） ＯＣ１ｏＨｚ＋（ｎ） 本発明に係る誘電率３．５以上である高沸点有機溶媒と
しては、上記の溶媒の他に、例えばマロン酸ジエチル、
マレイン酸ジエチル、γ−フチロラクトン、安息香酸メ
チル、ペンシルアルコール。

１−オクタノール等を挙げることかてきる。

本発明に係るこれらの高沸点有機溶媒は、例えば酢酸エ
チル等の如き公知の低沸点有機溶媒と併用することもて
きる。

本発明において水洗代替安定液のｐＨは３．０〜９．５
の範囲か好ましく、更にｐＨ１５〜９．（ｌに調整する
ことか本発明の目的の−っである沈澱防止のために好ま
しい。

更に本発明において水洗代替安定液に添加できるその他
の化合物としては、有Ｉａ、酸塩（クエン酸、酢酸、コ
ハク酸、シュウ酸、安息香酸等）、ｐ１１緩衝剤（リン
酸、ホウ酸塩、塩酸、硫酸等）あるいは界面活性剤、防
腐剤、Ｂｊ、　Ｍｇ、Ｚｎ、　Ｎｉ。

Ａ文、Ｓｎ、　Ｔｉ、　Ｚｒ等の金属塩等があるが、こ
れらの化合物の添加量は本発明による水洗代替安定液の
ｐｔ＋を維持するに必要てかつカラー写真画像の保存時
の安定性と沈澱の発生に対し悪影響を及ぼさない範囲で
、どのような化合物を、どのような組合せて使用しても
さしつかえない。

安定化処理に際しての処理温度は５０°Ｃ以下、特に１
５℃〜５０°Ｃか好ましく、より好ましくは２０℃〜４
５°ＣＯ′）範囲かよい。また処理時間も迅速処理の観
点から短時間であるほど好ましいが、通常２０秒〜１０
分間、最も好ましくは１分〜５分間てあり、複数槽安定
化処理の場合は前段槽はど短時間で処理し、後段槽はど
処理時間か長いことが好ましい。

特に前槽の２０％〜５０％増しの処理時間で順次処理す
ることが望ましい。

本発明に係るハロゲン化銀カラー写真感光材料中に、シ
アンカプラーとして下記一般式［■］〜［ＩＸ］で示さ
れるシアンカプラーの少なくとも１つを含有する際には
本発明の効果をより良好に奏するために本発明ては、よ
り好ましく用いられる。

一般式［■］ 式中、Ｒ２０及びＲ２１は一方か水素原子であり、他方
が少なくとも炭素数２〜１２の直鎖又は分岐のアルキル
基てあり、Ｘは水素原子又は発色現像主薬の酸化体との
カブリンク反応により離脱しうる基を表し、　Ｒ２１は
バラスト基を表す。

一般式［■］ 一般式［ｔＸ］ を 式中、Ｙは−ｃｏｎ２．、 （但しＲ２４はアルキル基、アルケニル基、シクロアル
キル基、アリール基またはへテロ環基な表し、　Ｒ２５
は水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基またはへテロ環基を表し、　Ｒ２４と
　１（ａｓとが互いに結合して５〜６員のへテロ環を形
成してもよい。）を表し、Ｒ２ｆｆはバラスト基を表し
、２は水素原子又は発色現像主薬の酸化体とのカプリン
グ反応により離脱しつる基を表す。

本発明に係るシアンカプラーは前記一般式［■］〜［Ｉ
Ｋ］て表すことができるが、該一般式［■］について更
に説明する。

本発明において、前記一般式［■］のＲ２Ｏ、Ｒ２１て
表される炭素数２〜１２の直鎖又は分岐のアルキル基は
１例えばエチル基、プロピル基、フチル基である。

一般式［Ｖ［］において、Ｒ２２て表されるバラスト基
は、カプラーか適用される層からカプラーを実質的に他
層に分散てきないようにするのに十分ながさばりをカプ
ラーに与えるところの大きさと形状を有する有機基であ
る。代表的なバラスト基としては、全炭素数８へ３２の
アルキル基又はアリール基か挙げられるが、好ましくは
全炭素数１３〜２８である。これらのアルキル基とアリ
ール基は置換基を有してもよく、このアリール基の置換
基としては、例えばアルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、アリルオキシ基、カルボキシ基、アシル基、エス
テル基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルバモ
イル基、カルボンアミド基。

アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スル
ホンアミド基、スルファモイル基、ハロゲンか挙げられ
、またアルキル基の置換基としては、アルキル基を除く
前記アリール基に挙げた置換基か挙げられる。

該バラスト基として好ましいものは下記一般式％式％ Ｒ２６は炭素数ｌ〜１２のアルキル基を表し、Ａ「はフ
ェニル基等のアリール基を表し、このアリール基はＷｌ
置換基有していてもよい。置換基としては、アルキル基
、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキルスルホンアミ
ド基等が挙げられるが、最も好ましものはＬ−ブチル基
等の分岐のアルキル基が挙げられる。

前記一般式［ＶＩ［］てＸにより定義される発色現像主
薬の酸化体とのカプリングて離脱しつる基は、当業者に
よく知られているように、カプラーの当量数を決定する
と共に、カプリングの反応性を左右する０代表例として
は、塩素、フッ素に代表されるハロゲン、アソールオキ
シ基、置換又は未置換のアルコキシ基、アシルオキシ基
、スルホンアミド基、アリールチオ基、ヘテロイルチオ
基、ヘテロイルオキシ基、スルホニルオキシ基、カルバ
モイルオキシ基等が挙げられる。さらに具体的な例とし
ては、特開昭５０−１０１３５号、同５０−１２０３３
４号、同５０−１３０４１４号、同５４−４８２３７号
、同５１−１４６８２８号、同５４−１４７３６号、同
４７−３７４２５号、同５０−１２３３４１号、同５Ｂ
−９５３４５号、特公昭４Ｂ−３６８９４号、米国特許
３．４７６．５６：１号、同３，７３７，３１６号、同
３，２２７．５５１号等に記載されている基が挙げられ
る。

次に一般式［■コ表されるシアンカプラーの例示化合物
を挙げるが、これらに限定されない、該例示化合物とし
ては、一般式［ＶＩＩ］において、下記のようにＲ２ｄ
、　Ｘ　、　　Ｒ２！、Ｒ２ｏを特定したものか挙げら
れる。

以下余白 以下に本発明例示化合物の合成法を示すが、他の例示化
合物も同様の方法により合成することかできる。

例示化合物Ｃ−Ｓの合成例 ［（１）−ａ　３　２−ニトロ−４，６−ジクロロ−５
−エチルフェノールの合成 ２−ニトロ−５−エチルフェノール３３ｇ、沃素０．６
ｇ及び塩化第２鉄１．５ｇを氷酢酸１５ｈ見に溶解する
。これに４０℃てスルフリルクロライド７５ｍ１を３時
間で滴下する０滴下途中で生成した沈澱はスルフリルク
ロライド滴下終了後、加熱還流することにより、反応溶
解する。加熱還流は約２時間を要する０反応液を水中に
注ぎ生成した結晶はメタノールにより再結晶精製する。

　（１）−ａの確認は核磁気共鳴スペクトル及び元素分
析により行った。

［（１）−ｂ　］　　］ｚ−ニトロー４．６−ジクロロ
ー５エチルフェノールの合成 ［（１）−ａ　］の化合物２１．２ｇを３００ｍＭのア
ルコールに溶解し、これに触媒量のラネーニッケルを加
え、常圧にて水素吸収がなくなるまで水素を通じた０反
応後ラネーニッケルを除去し、アルコール減圧にて留去
した。残渣の［（１）−ｂ　］は精製することなく次の
アシル化を行った。

［（１）−ｃ　］　　ｚｒ（２，４−ジーｔｅｒｔ−ア
シルフェノキシ）アセトアミド］−４，６−ジクロロ−
５−エチルフェノールの合成 ［（１）−ｂ　］て得たクルードなアミド体１８．５ｇ
をＳＯＯ＋ｓＪｌの氷酢酸と１６．７ｇの酢酸ソーダよ
りなる混液に溶解し、これに２．４−ジーｔｅｒｔ−ア
シルフェノキシ酢酸クロリド２８．０ｇを酢酸５０ｍＭ
に溶解した酢酸溶液を室温にて滴下する。３０分間て滴
下し、更に３０分間攪拌後、反応液を氷水中に注入する
。生成した沈澱を濾取し、乾燥後、アセトニトリルにて
２回再結晶すると目的物が得られる。目的物の確認は元
素分析及び核磁気共鳴スペクトルにて行った。

以下余白 Ｃ２１Ｈ２ＳＮＯ＋ｌ　　Ｃ交 次に、本発明に用いられる一般式［ＶＩＩ［］または［
ＩＸ］て示されるシアンカプラーについて説明する。前
記一般式［■］及び［ＩＸ］において、Ｙは、−ＣＯＲ
２，、 て表される基である。但しＲ２４はアルキル基、好まし
くは炭素数１〜２０のアルキル基（例えばメチル、エチ
ル、し−ツチル、ｌ〜デシルの各基等）、アルケニル基
好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基（アリル基、
ヘプタデセニル基等）、シクロアルキル基、好ましくは
５〜７員環のもの（例えばシクロヘキシル等）、アリー
ル基（例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基Ａ９）
、ヘテロ環基、好ましくは窒素原子、酸素原子もしくは
イ才つ原子を１〜４個含む５員〜６ｎ環のへテロ環基（
例えばフリル基、チェニル基、ベンゾチアゾリル基等）
を表す。Ｒ２Ｓは水素原子もしくはＲ２４て表される基
を表す、Ｒ２４と　ＲＩＳと互いに結合して５〜６員の
へテロ環を形成してもよい。なお、　Ｒ２２及びＦｉｌ
：ｌには任意の置換基を導入することかてき、例えば炭
素数１〜１０のアルキル基（例えばメチル、ｊ−プロピ
ル、ｉ−メチル、Ｌ−ブチル、し−オクチル等）、アリ
ール基（例えばフェニル、ナフチル等）、ハロゲン原子
（フッ素、塩素、臭素等）、シアン、ニトロ、スルホン
アミド基（例えばメタンスルホンアミド、ブタンスルホ
ンアミド、ｐ−）−ルエンスルホンアミト等）、スルフ
ァモイル基（例えばメチルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル等）、スルホニル基（例えばメタンスルホ
ニル、ｐ−トルエンスルホニル等〉、フルオロスルホニ
ル基、カルバモイル基（例えばジメチルカルバモイル、
フェニルカルバモイル等）、オキシカルボニル基（例え
ばエトキシカルボニル、フェノキシカルボニル等）、ア
シル基（例えばアセチル、ベンソイル等）、ヘテロ環基
（例えばピッシル基、ピラゾリル２！′等）、アルコキ
シ基、ア。

リールオキシ基、アシルオキシ基等を挙げることかでき
る。

一般式［■］及び一般式［ＩＸ］において。

Ｒ２つは一般式［’７１１［］及び一般式［ＩＸ］て表
されるシアンカプラー及び該シアンカプラーから形成さ
れるシアン色素に耐拡散性を付与するのに必要なバラス
ト基を表す。好ましくは炭素数４〜３０のアルキル基、
アリール基またはへテロ環基である。

例えば直鎖又は分岐のアルキル基（例えばし−メチル、
ｎ−オクチル、ｔ−オクチル、ｎ−ドデシル等）。

アルケニル基、シクロアルキル基、５負もしくは６員環
ヘテロ環基等が挙げられる。

一般式［■コ及び一般式［ＩＸ］において、２は水素原
子又はＮ−ヒドロキシアルキル置換−ｐ−フェニレンジ
アミン誘導体現像主薬の酸化体とのカブリンク反応時に
離脱可能な基を表す。例えば、ハロゲン原子（例えば塩
素、臭素、フッ素等）、置換又は未置換のアルコキシ基
、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、・スルホニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スル
ホンアミド基等が挙げられ、更に具体的な例としては米
国特許：ｌ、７４１，５６：１号、特開昭４７−３７４
２５号、特公昭４８−３６８９４号、特開昭５０−１０
１３５号、同５０−１１７４２２号。

同５０−１３０４４１号、同５１−１０８８４１号、同
５０−１２０３４３号、回５２−１８３１５号、同５３
−１０５２２６号、同５４−１４７３６号、同５４−４
８２３７号、同５５−３２０７１号、同５５−６５９５
７号、同５６−１９３８号、同５６−１２６４３号、同
５６−２７１４７号２同５９−１４６０５０号、同５９
−１６６９５６号、同６０−２４５４７号、同６０−３
５７３１号、同６０−３７５５７号等に記載されている
ものを挙げることがてきる。

本発明においては前記一般式［■］または［［Ｘ］て表
されるシアンカプラーのうち、下記一般式［Ｘ］、［Ｘ
［］または［Ｘ［［］て表されるシアンカプラーか更に
好ましい。

一般式［Ｘ］ 一般式［）ａ］ ロー（ 一般式［Ｘ１１］ 一般式［Ｘ］において、Ｒ２７は置換、未置換のアリー
ル基（特に好ましくはフェニル基）である。該アリール
基か置換基を有する場合のご換基としては、５ＯｚＲｉ
ｏ、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）　、　　Ｃ
Ｆ：＋　、ＮＯ２、ＣＮ、　　Ｃ０Ｒｉｏ、−Ｃ００１
１＊ｏ、　５Ｏ２０Ｒｉｏ、から選ばれる少なくとも１
つの置換基か包含される。

ここて、　ＲｆｆＯはアルキル基、好ましくは炭素数１
〜２０のアルキル基（例えばメチル、エチル、Ｌｅｒｔ
−ブチル、ドデシルの各基等）、アルケニル基、好まし
くは炭素数２〜２０のアルケニル２ｉｉ（アリル基、ヘ
プタデセニル基等）、シクロアルキル基、好ましくは５
〜７員環２！ｉ（例えばシクロヘキシル等）、アリール
基（例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基等）を表
し、Ｒ１１は水素原子もしくはＲ３゜で表される基であ
る。

−ＩＱ式［Ｘ］て表される本発明のシアンカプラーの好
適な化合物は、Ｒ２７か２１換ないし未置換のフェニル
基であり、フェニル基への置換基としてシアノ、ニトロ
、　ＳＯＪユ２（Ｒｏはアルキル基）、ハロゲン原子、
トリフルオロメチルであるような化合物である。

一般式［Ｘ［］及び［Ｘ［［］において、　　Ｒ２（１
、Ｒ２９はアルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のア
ルキル基（例えばメチル、エチル、Ｌｅｒｔ−ブチル、
ドデシルの各基等）、アルケニル基、好ましくは炭素数
２〜２０のアルケニル基（アリル基、オレイル基等）、
シクロアルキル基、好ましくは５〜７員環基（例えばシ
クロヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル基、ト
リル基、ナフチル基ｈ？）、ヘテロ環基（例えば窒素原
子、酸素原子、もしくはイオウ原子を１〜４個含む５員
〜６員環のへテロ環か好ましく、例えばフリル基、チェ
ニル基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。）を表す
。

前記ＲｆｆＯ１Ｌ＋及び一般式［ＸＩ］及び［■コのＲ
１１ａ、　　Ｒ２９には、さらに任意の置換基を導入す
ることかでき、具体的には、一般式［■コ及び［ＩＸ］
においてＲ２４またはＲ２Ｓに導入することのてきるが
如き置換基である。そして置換基としては特にハロゲン
原子（塩素原子、フッ素原子等）か好ましい。

一般式［Ｘ］、　　［Ｘ［］または［Ｘ［［］おいてＺ
及びＲ２，は各々一般式［■コ及び［ＩＸ］と同様の意
味を有している。　１ｔ２ｆｆて表されるバラスト基の
好ましい例は、下記一般式［Ｘｆｌｌ］て表される基で
ある。

一般式［Ｘ１１ （ｎｆｆ４）Ｋ 式中、Ｊは酸素原子、硫黄原子又はスルホニル基を表し
、Ｋは０〜４の整数を表し、文は０又は１を示し、にが
２以上の場合２つ以上存在するＲ１４は同一でも異なっ
ていてもよい。Ｒｏは炭素数１〜２０の直鎖又は分岐、
及びアリール基等の置換したアルキレン基を表し、　Ｒ
ユ、は−価の基を表し、好ましくは水素原子、ハロゲン
原子（例えばクロム、ブロム）、アルキル基、好ましく
は直鎖又は分岐の炭素数１〜２０のアルキル基（例えば
メチル、し−ブチル、し−ペンチル、し−オクチル、ド
デシル、ペンタデシル、ペンシル、フェネチル等の各基
）、アリール基（例えばフェニル基）、複素環基（例え
ば含有チッ素複素環基）アルコキシ基、好ましくは直鎖
又は分岐の炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えばメト
キシ、エトキシ、し−メチルオキシ、オクチルオキシ、
デシルオキシ、ドデシルオキシ等の各基）、アリールオ
キシ基（例えばフェノキシ基）、ヒドロキシ基、アシル
オキシ基、好ましくはアルキルカルボニルオキシ基、ア
リールカルボニルオキシ基（例えばアセトオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基）、カルボキシ、アルキルオキシカル
ボニル基、好ましくは炭素数１〜２０の直鎖又は分岐の
アルキルカルボニル基、好ましくはフェノキシカルボニ
ル基、アルキルチオ基、好ましくは炭素数ｌ〜２０のア
シル基、好ましくは’ｔＲ票数１〜２０の直鎖又は分岐
のアルキルカルボニル基、アシルアミノ基、好ましくは
炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキルカルボニル基
、ベンゼンカルボアミド基、スルホンアミｌ−基、好ま
しくは炭素ｆｉ１〜２０の直鎖又は分岐のアルキルスル
ホンアミド基又はベンゼンスルホンアミド基、カルバモ
イル基、好ましくは炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のア
ルキルア・ミノカルボニル基又はフェニルアミノカルボ
ニル基、スルファモイル基、好ましくは′ｊ′ｊ、素数
１〜２０の直鎖又は分岐のアルキルアミノスルホニル基
又はフェニルアミノスルホニル基等を表す。

次に一般式［■］又は［ＩＸ］で表されるシアンカプラ
ーの具体的な化合物例を示すか、これらに限定されない
。

以下余白 〔例示化合物〕 Ｃ−ｊり （ｔ　−Ｊ。

１Ｊ Ｏ−３！ ｐ （ｔｉｃ、Ｈ，□ ０−ｊ弘 Ｃ−３５ ０−ｉｔ ２Ｈ５ １−Ｉ ＣＨ。

Ｃ−ゾ ０−Ｊり Ｃ−知 ＣＨ３ Ｃ−件／ Ｃ−幻 Ｃ−坪 Ｃ−り〆 −ｐ７ ０Ｈ Ｃ−り？ Ｃ−ゲタ Ｈ （ｔ）Ｃ５Ｈｔ□ Ｃ−タ１ Ｈ ｎ目 ＣＨ。

０−４り ｔ 　−ｓｌ Ｈ −ｓｒ ０４Ｈ５ Ｃ−Ｓ、？ ＣＩ ｃ　−１；Ｏ Ｃ’６Ｈ１コ Ｃ−〆１ ４Ｈ９ Ｃ−／２ ｎ／ Ｃ−〆ｊ Ｌ Ｏ−（弘 Ｈ Ｃ６）（１３ ｍ１ｓ ＯＦ？ Ｃ−！り Ｈ 　−ＩＪ ２Ｈｓ Ｃ−？１ Ｒ Ｃ−２２ ０−クダ ０−７．５″ Ｃ−りｌ し２Ｆ１５ −ＴＴ Ｃ−ゴ９ ｃ　−１゜ ０ａＨ０ＳＯ７ＮＨ ○−と２ Ｃ−８３ ｆ−Ｔ ｃ−’ａｔＡ Ｈ ＯＣＨ２ＣＨ２ＱＣ！Ｈ。

−ｇｂ −ｇ７ ０−６’ｉ’ 　−ｑＱ ０−’ｌ’１ Ｈ ０４Ｈ。

０−９ｒ ｃ−ｑｂ Ｈ ２Ｈ５ Ｈ ２Ｈ５ Ｃ−’？θ ０口 ２Ｈ５ Ｃ−？９ Ｈ （ｔ）Ｏ，Ｈ，。

Ｈ （！　−ＩＯ＋ ａ　−（ＯＺ ＮＨ８Ｏ□ＣＨ。

０−１０牛 Ｈ （３−ｒｏｂ ０Ｈ２Ｃ！ＯＯＨ −ＩＤＴ １−Ｔ ０４Ｈ９Ｓｏ２ＮＨ Ｈ ８Ｏ□ＮＨ （ＣＨ２）２０Ｃ２Ｈ５ Ｃ−／／フ Ｃ−／／θ ｔ Ｃ−／ノ２ Ｈ ０−／／、３ Ｈ Ｃ１出、□（ｎ） ０−　／／、ｆ ｔ Ｑ　−／２゜ Ｈ ０−／２Ｊ Ｃ−／２り ｎμ ０−／２り ０Ｎ Ｃｊ　−／ｘｌ Ｈ Ｎ 　−１ｚ７ ｐ これら本発明に好ましく用いられるシアンカプラーは公
知の方法によって合成することかてき、一般式［■］で
表される化合物の場合、例えば米国特許３，２２２，１
７６号、同：ｌ、４４６，５２２号、同３．９！］６．
２５３号、英国特許１，０１１，９４０号等に記載の合
成法によって合成することかてきる。また一般式［ＩＸ
］て表される化合物の場合、例えば米国特許２．７７２
，１６２号、同　：ｌ、７５８．：１０８号、同　３，
８８０，６６１号、同４，１２４．］９６号、英国特許
９７５．７７：１号、−同８．０１１，６９３号、同８
，０１１，６９４号、特開昭４７−２１１３９号、同５
０−１１２０３８号、同５５−１６３５３７号、同５６
−２９２３５号、同５５−９９３４１号、同５６−１１
６０３０号、同５２−６９３２９号、同５６−５５９４
５号、同５６−５５９４５号、同５０−１３４６４４号
並びに英国特許１，０１１，９４０号、米国特許１，４
４６，６２２号、同’１，９９６，２５３号、特開昭５
６−６５１３４号、同５７−２０４５４３号、同５７−
２０４５４４号、同５７−２０４５４５号、特願昭５６
−１３１３０９号、同５６−１３１３１１号、同５６−
１３１３１２号、同５６−１３１３１３号、同５６−１
３１３１４号、同５６−１３０４５９号、同５７−１４
９７９１号、特開昭５９−１４６０５０号、同５９−１
６６９５６号、同６０−３７５５７号、同６０−３５７
３１号、同６０−３７５５７号等に記載の合成法によっ
て合成することかてきる。

一般式［Ｖ１１］、［■］又は［ＩＸ］で表されるシア
ンカプラーは、本発明の目的に反しない範囲において本
発明外のシアンカプラーと組合せて用いることかてきる
。また、一般式［■］、〔■］及び［■］のシアンカプ
ラーを１又は２以上併用することもてきる。

一般式［■］〜［ＩＸ］て表される本発明に係るシアン
カプラーをハロゲン化銀乳剤層中に含有させるときは、
通常ハロゲン化銀１モル当り約０．００５〜２モル、好
ましくは０．０１〜１モルの範囲て用いられる。

本発明において使用し得るハロゲン化銀乳剤としては、
１！１化銀、臭化銀、沃化銀、１ｎ臭化銀、塩沃化銀、
沃臭化銀、塩沃臭化銀のごときいずれのハロゲン化銀を
用いたものてあってもよい。

本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料には他に各種
の写真用添加剤を含有せしめることかてきる１例えばリ
サーチ・ディスクロージャー誌１７６４３号に記載され
ているかぶり防止剤、安定剤、紫外線吸収剤、色汚染防
止剤、蛍光増白剤。

色画像褪色防止剤、帯電防止剤、硬膜剤、界面活性剤、
可塑剤、湿潤剤等を用いることかてきる。

本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料において、乳
剤を調製するために用いられる親水性コロイドには、ゼ
ラチン、誘導体ゼラチン、ゼラチンと他の高分子とのグ
ラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質、ヒ
ドロキシエチルセルロース誘導体、カルボキシメチルセ
ルロース等のセルロース誘導体、澱粉誘導体、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル
アミド等の単一あるいは共重合体の合成親木性高分子等
の任意のものか包含される。

本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料の支持体とし
ては、例えばバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプ
ロピレン合成紙１及射層を併設した、又は反射体を併用
する透明支持体、例えばガラス板、セルロースアセテー
ト、セルロースナイトレート又はポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム
、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等
が挙げられ、その他通常の透明支持体であってもよい。

これらの支持体は感光材料の使用目的に応じて適宜選択
される。

本発明において用いられるハロゲン化銀乳剤層及びその
他の写真構成層の塗設には、ディッピング塗布、エアー
ドクター塗布、カーテン塗布。

ホッパー塗布等種々の塗布方法を用いることができる。

また米国特許２，７６１，７９１号、同２，９４１，８
９８号に記載の方法による２層以上の同時塗布法を用い
ることもできる。

本発明においては各乳剤λ２の塗設位置を任意に定める
ことができる０例えばフルカラーの印画紙用感光材料の
場合には、支持体側から順次青感性ハロゲン化銀乳剤層
、緑感性ハロゲン化銀乳剤層、赤感性ハロゲン化銀乳剤
層の配列とすることか好ましい。これらの感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層は各々２以上の層から成っていてもよい。

本発明の感光材料において、目的に応じて適当な厚さの
中間層を設けることは任意であり、更にフィルタ一層、
カール防止層、保護層、アンチハレーション層等の種々
の層を構成層として適宜組合せて用いることかてきる。

これらの構成層には結合剤として前記のような乳剤層に
用いることのてきる親木性コロイドを同様に用いること
かでき、またその層中には前記の如き乳剤層中に含有せ
しめることができる種々の写真用添加剤を含有せしめる
ことかてきる。

本発明を適用できる感光材料としては、カラーベーパー
、反転ベーパー、カラーネガフィルム、カラーポジフィ
ルム、カラー反転フィルム、直接ポジベーパー、拡散写
真用感光材料等のいずれの感光材料てあってもよい。

［実施例］ 以下、実施例によって本発明の詳細な説明するか、これ
により本発明の実施態様が限定されるものてはない。

実施例　ｌ トリアセテートフィルムベース上にハレーション防止層
及びゼラチン層を設けこの上に赤感性ハロゲン化銀乳剤
層、緑感性ハロゲン化銀乳剤層。

黄色コロイド銀を含有するフィルタ一層及び青感性ハロ
ゲン化銀乳剤層を総体の銀量か１００ｃｒｎ’当り６２
ｍｇになるよう塗布した。上記の乳剤層は沃化銀のモル
％か約４．８％の沃臭化銀であり、この際、青感性ハロ
ゲン化銀乳剤層には黄色カプラーとしてα−（４−ニト
ロフェノキシ）−α−ピハリルー５−［γ−（２，４−
シーし一アミノフェノキシ）ブチルアミド］＝２−クロ
ロアセトアニリドを用い、緑感性ハロゲン化銀乳剤層に
は、マゼンタカプラーとして１−（２，４，６−トリク
ロロフエニル）−３１［α−（２，４−シし一アミルフ
ェノキシ）−アセトアミトコベンズアミド）−３−ピラ
ゾロン及び１−（２，４，６−トリクロロフエニル）−
３−（［α−（２，４−シーし−アミルフェノキシ）−
アセトアミトコベンズアミドｌ−４−（４−メトキシフ
ェニルアゾ）−５−ピラゾロンを用い、赤感性ハロゲン
化銀乳剤層にはシアンカプラーとして下記（Ｃ−ｉ）を
用い、各乳剤層にはそれぞれ増感色素、硬膜剤等の通常
の添加剤を加えた。但し、高沸点溶媒として例示化合物
（Ａ　−２５）　　（誘電率７．５）を用いた。このよ
うにして得られたハロゲン化銀カラーネガ感光材料をフ
ィルム試料（１）とし、さらに、この高梯点溶媒（Ａ　
−２５）の代わりに、流動パラフィン（誘電率２．２）
を用いて同様なフィルム試料（２）を作成した。

シアンカプラー（Ｃ−ｉ） Ｈ この試料なＫＳ−７型感光計（小西六写真工業社製）を
用いて白色段階露光を与えた前記フィルム試料を次の工
程に従って処理を行った。

処理工程（３８°Ｃ）　槽数　　　　処理時間発色現像
　　　　ｌ槽　　　　３分１５秒漂　　白　　　　　ｌ
槽　　　　　４分２０秒定　　　着　　　　　　ｌ槽　
　　　　　３分１０秒水洗代替安定　　２槽　　　　１
分２０秒（カスケード） 清　　　浄　　　　　　　ｌ槽　　　　　　　　　３０
秒使用した発色現像液の組成は２次の通りである。

炭酸カリウム　　　　　　　　　　　　　２８ｇ炭酸水
素ナトリウム　　　　　　　　　　２．５ｇ亜硫酸カリ
ウム　　　　　　　　　　　　３．０ｇ臭化ナトリウム
　　　　　　　　　　　　１・２ｇ沃化カリウム　　　
　　　　　　　　　　１．２ｍｇヒドロキシルアミン硫
ｍｋｍ　　　　　　　２．５ｇジエチレントリアミン五
酢酸 ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　２．０ｇ４−
アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキ
シエチル）アニリン硫酸１１　　４　、８　ｇ水酸化カ
リウム　　　　　　　　　　　　１．２ｇ水を加えてＭ
Ｌとし、水酸化カリウムまたは２０％硫酸を用いてｐＨ
１０，０６に；Ｊ！ｌ整する。

使用した発色現像補充液の組成は、次の通りである。

炭酸カリウム　　　　　　　　　　　　３０ｇ炭酸水素
ナトリウム　　　　　　　　　　１．０ｇ亜硫酸カリウ
ム　　　　　　　　　　　　４．３ｇ臭化ナトリウム　
　　　　　　　　　　　０・９ｇヒドロキシルアミン硫
酸塩３．０ｇ ジエチレントリアミン五酸酢 酸トリウム　　　　　　　　　　　　　　２，５ｇ４−
アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキ
シエチル）アニリン＆！２〜ｋ１４　　５．５ｇ水酸化
カリウム　　　　　　　　　　　　１．４ｇ水を加えて
１文とし、水酸化カリウムまたは２０％硫酸を用いてｐ
Ｈ１０，１２に調整する。

使用した漂白液及び漂白補充液の組成は、次の通りであ
る。

エチレンシアミン四酢酸鉄（ＩＩＩ） アンモニウム　　　　　　　　　　　　１００ｇ臭化ア
ンモニウム　　　　　　　　　　１４０ｇ水を加えて１
文とし、氷酢酸及びアンモニア水を用いてｐｉｌ　５．
８にｙＪ堕する。

使用した水洗代替安定液及び該定石補充液の組成は、次
の通りである。

チオ硫酸アンモニウム　　　　　　　　１８０ｇ無水亜
硫酸ナトリウム　　　　　　　　　１２ｇ水酸化カリウ
ム　　　　　　　　　　　　　ｔｇ炭酸ナトリウム　　
　　　　　　　　　　　８ｇ水を加えて１文とし、濃ア
ンモニア水または酢酸を用いて、ｐＨ７，０に：Ａ？！
！する。

使用した安定液及び安定補充液は、次の通りである。

２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン　ｏ、　ｔ
ｇエチレングリコール　　　　　　　　　　１ｇ水を加
えて　！又とする。

使用した清浄液及び清浄補充液は、次の通りである。

ホルマリン（３５％水溶液）　　　　　　　７．０Ｉ＋
＋文前記安定液中に下記表１に示す界面活性剤を適宜添
加し、表面張力を表１に示す様にｍ整しながら、ランニ
ングテストを行った。各補充液の補充量は、発色現像及
び安定かフィルム試料１ｍ’あたり６０ｈｉ、漂白かフ
ィルム試料１ｍ’あたり３０１１ｎ文、定着及び清浄か
フィルム試料１ｒｒｒ’あたり７００ｍ１てランニング
テストを行った。このランニングテストは水洗代替安定
液の総補充量か水洗代替安定処理槽のタンクボリューム
の３倍量になるまて非連続的に処理を行った。ランニン
クテスト終了、後の処理済の各フィルム試料の未露光部
透過レット濃度をサクラ光電濃度計ＰＤへ−６５（小西
六写真工業社製）を用いて３１１足した。

さらに処理後のフィルム試料を７０°Ｃ１湿度７０％旧
１（相対湿度）の状態て、キセノンランプて１．５Ｘ　
１０’ルツクス・時間になるように１５日間保存し、最
高濃度部の透過レット濃度を前記濃度計てＪｌｌｌ定し
、保存前後の退色率（％）を求めた。以上の結果を表１
にまとめて示す。

表　　１ 上記表より、フィルム試料中に本発明の高沸点溶媒を用
い、安定液の表面張力か本発明の範囲内である際には、
未露光部のスティンか良好で、さらに驚くべきことに高
温、高湿下ての光に対する退色率も良好であることが判
る。しかるに、それぞれ単独て用いる際には、本発明の
効果を奏さない。

実施例　２ 実施例１のカラーネガ感光材料中に例示化合物ｍ　−（
ｘｉｉ）を用いてその他は実施例１のフィルム試料（１
）と同じにして、フィルム試料（３）を作成した。

実施例１の実験１と同様の方法てランニングテストを行
ったところ、安定液の表面張力はランニング終了時に：
１７ｄｙｎｅ／　ｃ＋＊となワた。

この収斂液てフィルム試料（３）を処理して、実施例１
と同じ実験を行ったところ、未露光部シアンスティン濃
度は０．Ｏｌで、退色率は８．４％てあり、極めて良好
な結果を得た。

これより、感光材料中に本発明に係わる界面活性剤を添
加し、安定液中に溶出せしめて、該安定液の表面張力を
本発明の範囲にコントロールしても、本発明の目的の効
果か得られることか判る。

実施例　３ ・　　実施例１の実験１て作成したランニングテスト終
了後の安定液に、例示化合物ｍ−（ｘｉｉ）を適宜添加
して、表２に示す様な表面張力にコントロールし、実施
例１と同様な実験を行った。その結果・をまとめて表２
に示す。

たたし、表面張力を３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下にするには
、ｍ　−（ｘｉｉ）単独ではこの表面張力か得られない
のて一部シリコーンを併用した。

表　　２ なお表２において１表面Ｇ力が２０ｄｙｎｅ／　ｃ！ｌ
未ｎては、乾燥後のフィルム試料表面に汚れを生した。

上記表より、安定液の表面張力か２０〜６０ｄｙｎｅ／
ｃｌｎである際に本発明の目的の効果を良好に奏し、さ
らに２５〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍである際に、とりわけ良
好な効果を奏することか判る。

実施例　４ 実施例２の安定液中に木発明のシリコーン（ＦＳアンチ
フオーム　ロ２５（ダウコーニンク株製）〕をシリコー
ン純分として安定液１文あたり２０　＋ｎ　ｇを添加し
て、同様の実験を行ったところ、退色率か、　７．３％
となり、良好な結果を得た。また、「Ｓアンチフオーム
　ＢＥ　　（ダウコーニンク掴製）に替えて同様な実験
を行ったところ、これも、退色率か、　７．５％とよい
結果を得た。

さらに、これら木発明に係るシリコーンを併用した場合
にはランニングテスト時の発泡作用も改善された。

実施例　５ 実施例１の試料（１）に用いたシアンカプラー（Ｃ−ｉ
）を例示化合物（Ｃ−２９）及び（Ｃ−５１）にそれぞ
れ替えて同様の実験を行ったところ、本発明例の場合の
みシアン色素の高温、高温下ての光に対する退色率か、
さらに２〜３％改善された。

２炙９１也畳り６ 実施例１の安定液に用いられた防ハイ剤（２−メチル−
４−イソチアゾリン−３−オン）を、除去して実施例１
と同様の実験を行ったところ１本発明の目的の効果は得
られたものの、乾燥後のフィルム試料の表面に汚れか若
干生じ、さらにスティンの発生も０．０１程度、悪化し
た。

特許出願人　　　小西六写真工業株式会社代　理　人　
　　弁理士　坂　口　信　昭（ほか１名）

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）ハロゲン化銀カラー写真感光材料を定着能を有す
   る処理液で処理し、引き続き実質的に水洗工程を経るこ
   となく水洗代替安定液で処理するハロゲン化銀カラー写
   真感光材料の処理方法において、該ハロゲン化銀カラー
   写真感光材料が誘電率３．５以上を有する高沸点有機溶
   媒を含有し、かつ該水洗代替安定液の表面張力が２０〜
   ６０ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とするハロゲン化
   銀カラー写真感光材料の処理方法。
2. （２）水洗代替安定液がシリコーンを含有することを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載のハロゲン化銀カラ
   ー写真感光材料の処理方法。
3. （３）誘電率３．５以上を有する高沸点有機溶媒が下記
   一般式［ I ］又は［II］で示される化合物であること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項記載のハ
   ロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法。 一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿１及びＲ＿２はそれぞれアルキル基、アルケ
   ニル基又はアリール基を表す。 一般式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿３、Ｒ＿４及びＲ＿５はそれぞれアルキル基
   、アルケニル基又はアリール基を表す。
4. （４）シリコーンがコンパウンドタイプ及び／又はエマ
   ルジョンタイプであることを特徴とする特許請求の範囲
   第２項又は第３項記載のハロゲン化銀カラー写真感光材
   料の処理方法。
5. （５）シリコーンを含有することを特徴とする水洗代替
   安定液。
6. （６）シリコーンがコンパウンドタイプ及び／またはエ
   マルジョンタイプであることを特徴とする特許請求の範
   囲第５項記載の水洗代替安定液。