JPS6277456A - レ−ザ蒸着装置 - Google Patents

レ−ザ蒸着装置

Info

Publication number
JPS6277456A
JPS6277456A JP21846485A JP21846485A JPS6277456A JP S6277456 A JPS6277456 A JP S6277456A JP 21846485 A JP21846485 A JP 21846485A JP 21846485 A JP21846485 A JP 21846485A JP S6277456 A JPS6277456 A JP S6277456A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
window
box
vacuum vessel
substrate
microhole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21846485A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigenobu Okada
繁信 岡田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP21846485A priority Critical patent/JPS6277456A/ja
Publication of JPS6277456A publication Critical patent/JPS6277456A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、真空槽内で基板に対向させて蒸発源を設け、
その蒸発源に真空槽の外部から窓を通してレーザ光を導
入し、その蒸発源を蒸発させて基板上に蒸着膜を形成す
るレーザ蒸着装置に関するものである。
(従来の技術) レーザ蒸着装置では、第2図に示されるように、レーザ
光2を大気側から窓4を通して、真空槽である真空ベル
ジャ6内にある蒸発源8に入射させ、蒸発源8を加熱し
蒸発させてその蒸発粒子10を基板12に入射させ、基
板12に付着させる。
(発明が解決しようとする問題点) このような従来のレーザ蒸着装置には次のような問題点
がある。
(1)窓4が蒸発粒子10の付着により汚れ、レーザ光
2が蒸発源8に入射しなくなる。
(2)蒸発源8から蒸発した蒸発粒子10は直進し、回
り込んで基板12に付着する蒸発粒子は殆んどない。つ
まり基板12の側面には蒸発粒子10を付着させること
はできない。
本発明は蒸発粒子10による窓4の汚れを防止するとと
もに、基板12の側面方向にも蒸発粒子10を付着させ
ることのできるレーザ蒸着装置を提供することを目的と
するものである。
(問題点を解決するための手段) 実施例を示す第1図を参照して説明すると、本発明のレ
ーザ蒸着装置では、真空4! (6)内でレーザ光導入
用の窓(4)を被う如く差動排気用ボックス(14)を
設け、この差動排気用ボックス(14)にはレーザ光(
2)が通過する微小孔(16)を設け、また、この差動
排気用ボックス(14)には不活性ガスを導入するとと
もに、排気手段(18)により排気を行ない、真空槽(
6)との間に差動排気を行なってこの差動排気用ボック
ス(14)内の圧力を真空4! (6)よりも高圧にす
る。
(作用) 真空槽(6)を真空系を用いて真空にひく。同時に差動
排気用ボッゲス(14)も排気手段(18)を用いて真
空にひく。次に、差動排気用ボックス(14)に不活性
ガスを導入し、レーザ光(2)を窓(4)及び差動排気
用ボックス(14)の微小孔(16)を通して真空槽(
6)に入射させ、蒸発源(8)を加熱する。
加熱された蒸発源(8)から蒸発した蒸発粒子(10)
は基板(12)に入射し、膜付けする。
この時、蒸発粒子(1o)は当然に窓(2)の方向にも
飛来するが、微小孔(16)からの不活性ガスにより吹
き飛ばされ、窓(4)には付着しない。
また、差動排気用ボックス(14)の微小孔(16)か
ら不活性ガスが真空槽(6)内に導入され、この不活性
ガスと蒸発粒子(10)との散乱により基板(12)の
側面にも蒸発粒子(1o)が付着する。
(実施例) 第1図は本発明の一実施例を表わす。ただし、第2図と
同一の部分には同一の記号を付して説明を省略する。
14は差動排気用ボックスであり、レーザ光2の入射用
窓4を被うように設けられている。
レーザとしては例えばCopガスレーザを使用すること
ができる。
差動排気用ボックス14にはレーザ光2が窓4から入射
して蒸発源8に至るように、微小孔16が設けられてい
る。この微小孔16は真空ベルジャ6と差動排気用ボッ
クス14の間の差動排気の役目も果しているので、微小
孔16の直径はレーザ光の通過を妨げない範囲でできる
だけ小さい方が望ましく、例えば0.5mm程度である
差動排気用ボックス14には不活性ガスとしてのアルゴ
ン(Ar)ガスがガス導入バルブ24を経て調圧されて
導入されるようになっている。また、差動排気用ボック
ス14は油回転ポンプ18により真空排気される。
真空ベルジャ6の排気系として、メインバルブ26を経
て主ポンプ20が接続されている。主ポンプ20として
はターボ分子ポンプや油拡散ポンプを用いることができ
る。主ポンプ20にはフォアバルブ28を経て補助ポン
プとしての油回転ポンプ22が接続されている。油回転
ポンプ22と真空ベルジャ6の間にはまた、バイパスバ
ルブ30が設けられている。
真空ベルジャ6内を主ポンプ20と補助ポンプ22で真
空排気し、差動排気用ボックス14内を′自回転ポンプ
18で真空排気してアルゴンガスを導入する。 蒸着を
行なわせる状態では、差動排気により真空ベルジャ6内
は10−5〜1O−6Torr、差動排気用ボックス1
4内は10″1〜10−” Torr程度になるように
する。
(発明の効果) レーザ蒸着の場合、レーザ光導入用の窓の汚れにより蒸
発物の加熱状態が大幅に変化する。本発明のレーザ蒸着
装置では真空槽内でレーザ光導入用の窓を被う如く差動
排気用ボックスを設けたので、このレーザ光導入用の窓
の汚れを除去することができ、連続した成膜が可能とな
る。
また、差動排気用ボックス内の圧力を真空槽よりも高圧
にして不活性ガスが真空槽に拡散するようにしたので、
この不活性ガスと蒸発粒子との散乱により基板の側面へ
の蒸着が可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は一実施例を示す概略断面図、第2図は2・・・
・・・レーザ光、 4・・・・・・窓、 6・・・・・・真空ベルジャ、 8・・・・・・蒸発源、 14・・・・・・差動排気用ボックス、16・・・・・
・微小孔、 18・・・・・・油回転ポンプ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)真空槽内で基板に対向させて蒸発源を設け、その
    蒸発源に真空槽外部から窓を通してレーザ光を導入し、
    その蒸発源を蒸発させて前記基板上に蒸着膜を形成する
    レーザ蒸着装置において、真空槽内で前記窓を被う如く
    差動排気用ボックスを設け、 この差動排気用ボックスにはレーザ光が通過する微小孔
    を設け、また、この差動排気用ボックスには不活性ガス
    を導入するとともに、排気手段により排気を行ない真空
    槽との間に差動排気を行なってこの差動排気用ボックス
    内の圧力を真空槽よりも高圧にしたことを特徴とするレ
    ーザ蒸着装置。
JP21846485A 1985-09-30 1985-09-30 レ−ザ蒸着装置 Pending JPS6277456A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21846485A JPS6277456A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 レ−ザ蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21846485A JPS6277456A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 レ−ザ蒸着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6277456A true JPS6277456A (ja) 1987-04-09

Family

ID=16720316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21846485A Pending JPS6277456A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 レ−ザ蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6277456A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012069298A (ja) * 2010-09-21 2012-04-05 Toshiba Corp 密閉型二次電池の製造装置及び製造方法並びに密閉型二次電池

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012069298A (ja) * 2010-09-21 2012-04-05 Toshiba Corp 密閉型二次電池の製造装置及び製造方法並びに密閉型二次電池
US9379409B2 (en) 2010-09-21 2016-06-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Sealed secondary battery and manufacturing apparatus and manufacturing method therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2110250C (en) Depositing different materials on a substrate
GB1117772A (en) Vapour deposition method and apparatus for the manufacture of optical filters
KR920004848B1 (ko) 레이저 스퍼터링장치
KR890002286A (ko) 플라즈마 향상된 산화규소 부착방법 및 진공시스템
US5286531A (en) Method for treating an oxide coating
JPS6277456A (ja) レ−ザ蒸着装置
JPH02247371A (ja) イオンビーム照射前処理を施すことを特徴とする金属帯への連続真空蒸着またはイオンプレーテイング方法
JPH04210466A (ja) 真空成膜装置
JPH0830272B2 (ja) 薄膜形成方法
JP3847863B2 (ja) 真空装置及びその製造方法
JPH01152265A (ja) 高指向性蒸着装置
JPS5782471A (en) Formation of thin film
JPS63203760A (ja) ガラス基板面への無機質膜の形成方法及びその装置
JPS6318053A (ja) 有色薄膜の生成方法
JPS6411347B2 (ja)
JPS6152359A (ja) サ−マルシ−ルドの金属蒸着膜形成方法
JPS61155982A (ja) X線透過膜の蒸着方法
JP2519799Y2 (ja) 超微粒子製造装置
JPS63210267A (ja) 炭素薄膜の形成方法
JPH03232530A (ja) 内部拡散薄膜型ゲッター材料
CN113136546A (zh) 一种簇状束双面成膜方法与装置
JPH0532467B2 (ja)
JPH04370480A (ja) 開閉弁
JPS61220415A (ja) 薄膜製造方法
JPS57156031A (en) Formation of thin film and vacuum deposition device