JPS61155982A - X線透過膜の蒸着方法 - Google Patents
X線透過膜の蒸着方法Info
- Publication number
- JPS61155982A JPS61155982A JP27893784A JP27893784A JPS61155982A JP S61155982 A JPS61155982 A JP S61155982A JP 27893784 A JP27893784 A JP 27893784A JP 27893784 A JP27893784 A JP 27893784A JP S61155982 A JPS61155982 A JP S61155982A
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- JP
- Japan
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- membrane
- film
- vapor deposition
- thin film
- vacuum
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、真空鏡体内から発生したX線をガス雰囲気又
は大気側へ取り出すためのX線透過膜へ導電性物質を蒸
着する方法に関する。
は大気側へ取り出すためのX線透過膜へ導電性物質を蒸
着する方法に関する。
[従来の技術]
X線マイクロアナライザーにおいては、真空に保持され
た鏡筒内で試料に電子線を照射し、その結果試料より発
生した特性X線を検出して試料の分析を行なっている。
た鏡筒内で試料に電子線を照射し、その結果試料より発
生した特性X線を検出して試料の分析を行なっている。
このX線の検出のため、例えばガスフロー型の計数管を
使用する装置においては、鏡筒に窓を設け、この窓を通
過させてX線を大気側に配置されたガスフロー型計数管
に導くようにしている。第3図はこのような場合に使用
される、鏡筒側とガス雰囲気にある計数管内を遮断する
ためのXa透過膜ユニットUを示すもので、図中1はポ
リプロピレン、マイラー等の耐真空性を有しXaの吸収
減衰効果の少ない材質より成る薄膜であり、この薄膜1
は座金2に接着剤3により接着されて保持されており、
又、座金2にはX線通過用の開口2aが設けられている
。
使用する装置においては、鏡筒に窓を設け、この窓を通
過させてX線を大気側に配置されたガスフロー型計数管
に導くようにしている。第3図はこのような場合に使用
される、鏡筒側とガス雰囲気にある計数管内を遮断する
ためのXa透過膜ユニットUを示すもので、図中1はポ
リプロピレン、マイラー等の耐真空性を有しXaの吸収
減衰効果の少ない材質より成る薄膜であり、この薄膜1
は座金2に接着剤3により接着されて保持されており、
又、座金2にはX線通過用の開口2aが設けられている
。
ところで、試料への電子線の照射に伴って、試料よりX
線の他に反射電子等も発生する。上記薄膜1は導電性を
有していないため、そのままでは反射電子等の照射によ
ってチャージアップを起し、特に低濃度の超軽元素を検
出する際に測定が不安定になることが知られている。そ
のため、このようなX線透過膜ユニットを真空蒸着を行
なうためのペルジャー内に配置し、薄膜に金属等の導電
性物質を蒸着するようにしている。
線の他に反射電子等も発生する。上記薄膜1は導電性を
有していないため、そのままでは反射電子等の照射によ
ってチャージアップを起し、特に低濃度の超軽元素を検
出する際に測定が不安定になることが知られている。そ
のため、このようなX線透過膜ユニットを真空蒸着を行
なうためのペルジャー内に配置し、薄膜に金属等の導電
性物質を蒸着するようにしている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、従来においてはこのようにして蒸着を行
なった膜を耐真空X線透過膜として装置に装着すると、
薄膜を境界として一方の側は真空なのに対して、他方の
側はガス雰囲気にあるため、1i11はガス圧によって
第3図において1−で示すように弛んでしまう。その結
果、簿膜の表面に付着していた導電性蒸着膜が島状に細
かく分離してしまい、チャージアップを防げなくなり、
比較的短い期間で膜を交換しなければならない。
なった膜を耐真空X線透過膜として装置に装着すると、
薄膜を境界として一方の側は真空なのに対して、他方の
側はガス雰囲気にあるため、1i11はガス圧によって
第3図において1−で示すように弛んでしまう。その結
果、簿膜の表面に付着していた導電性蒸着膜が島状に細
かく分離してしまい、チャージアップを防げなくなり、
比較的短い期間で膜を交換しなければならない。
本発明はこのような従来の問題を解決し、導電性物質膜
の分離を抑制することのできるX線透過膜の蒸着方法を
提供することを目的としている。
の分離を抑制することのできるX線透過膜の蒸着方法を
提供することを目的としている。
E問題点を解決するための手段〕
このような目的を達成するため、本発明は耐真空性を有
しX線透過特性の良好なiisに導電性物質を蒸着させ
る方法において、該薄膜によって真空空間とガスが存在
する空間とを遮断し、該wl膜の一方の面からのみ該i
Jmに該ガスの圧力を印加して該膜を弛ました後、該′
fs膜に該導電性物質を蒸着するようにしたことを特徴
としている。
しX線透過特性の良好なiisに導電性物質を蒸着させ
る方法において、該薄膜によって真空空間とガスが存在
する空間とを遮断し、該wl膜の一方の面からのみ該i
Jmに該ガスの圧力を印加して該膜を弛ました後、該′
fs膜に該導電性物質を蒸着するようにしたことを特徴
としている。
[実施例]
以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述する。
第1図は本発明を実施するための装置の一例を示すもの
で、図中第3図と同一の構成要素に対しては同一番号を
付している。図中4は上部4aと底i4bとより成る真
空ペルジャーであり、真空ペルジャー4内は排気管5に
より排気できるようになっている。真空ペルジャー4内
にはタングステン等より成るフィラメント6が備えられ
ており、フィラメント6には金属性の被蒸着物質より成
るワイヤー7が巻回されている。ペルジャーの底部4b
の大気側には筒状の凹部9が設けられており、この凹8
Is9は開口10を介してペルジャー内に連通できるよ
うになっている。この凹部9の側面には雌ネジ11が刻
設されており、この雌ネジ11には押え金具12が螺合
できるようになっている。
で、図中第3図と同一の構成要素に対しては同一番号を
付している。図中4は上部4aと底i4bとより成る真
空ペルジャーであり、真空ペルジャー4内は排気管5に
より排気できるようになっている。真空ペルジャー4内
にはタングステン等より成るフィラメント6が備えられ
ており、フィラメント6には金属性の被蒸着物質より成
るワイヤー7が巻回されている。ペルジャーの底部4b
の大気側には筒状の凹部9が設けられており、この凹8
Is9は開口10を介してペルジャー内に連通できるよ
うになっている。この凹部9の側面には雌ネジ11が刻
設されており、この雌ネジ11には押え金具12が螺合
できるようになっている。
13は膜1を熱的に保護するためのシャッター板であり
、シャッター板13は移動軸14を介して嫡子15に接
続されており、嫡子15を移動させることにより矢印に
の方向に移動できるようになっている。シャッター板1
3には前記座金2に設けられた開口2aと略同−大きさ
の通過孔13aが設けられている。8.16.17は真
空シール用のOリングである。
、シャッター板13は移動軸14を介して嫡子15に接
続されており、嫡子15を移動させることにより矢印に
の方向に移動できるようになっている。シャッター板1
3には前記座金2に設けられた開口2aと略同−大きさ
の通過孔13aが設けられている。8.16.17は真
空シール用のOリングである。
このような構成の装置を用いて、まず、押え金具12を
外し、1111を°張ったX線通過膜ユニットUをその
薄膜1がOリング17と接触するようにして凹部9内に
配置した後、押え金具12をネジ込み、X線通過膜ユニ
ットUと0リング17の接触によって開口10が大気側
と完全に遮断されるようにする。その結果、膜1を境界
として一方の側は真空雰囲気にあり他方の側は大気圧に
あるため、Illは大気圧によりペルジャー4側へ押さ
れて弛む。そこで嫡子15を操作して、シャッター板1
3を図示のように開口13aが開口10の位置に一致す
るまで移動させる。その結果、フィラメント6への通電
によってワイヤー7から蒸発した粒子がシャッター板1
3の開口13a及び開口10を通過して膜1まで飛来し
て被着し、膜1にはIyJ記金親金属着膜が形成される
。このようにして蒸着を終えた後、押え金具12を凹部
9より外してXla透過脱ユニットUを装置に装着すれ
ば、膜1は既にガス圧によって伸び切っているため、g
llにガス圧あるいは大気圧が印加されても、膜の伸び
は緩慢となるため、蒸着膜が島状に細かく分離すること
を抑制できる。
外し、1111を°張ったX線通過膜ユニットUをその
薄膜1がOリング17と接触するようにして凹部9内に
配置した後、押え金具12をネジ込み、X線通過膜ユニ
ットUと0リング17の接触によって開口10が大気側
と完全に遮断されるようにする。その結果、膜1を境界
として一方の側は真空雰囲気にあり他方の側は大気圧に
あるため、Illは大気圧によりペルジャー4側へ押さ
れて弛む。そこで嫡子15を操作して、シャッター板1
3を図示のように開口13aが開口10の位置に一致す
るまで移動させる。その結果、フィラメント6への通電
によってワイヤー7から蒸発した粒子がシャッター板1
3の開口13a及び開口10を通過して膜1まで飛来し
て被着し、膜1にはIyJ記金親金属着膜が形成される
。このようにして蒸着を終えた後、押え金具12を凹部
9より外してXla透過脱ユニットUを装置に装着すれ
ば、膜1は既にガス圧によって伸び切っているため、g
llにガス圧あるいは大気圧が印加されても、膜の伸び
は緩慢となるため、蒸着膜が島状に細かく分離すること
を抑制できる。
尚、上述した実施例は本発明の一実施例に過ぎず幾多の
他の態様を取り得る。
他の態様を取り得る。
例えば、第2図に示すように筒状容器18内にX線透過
膜ユニットを配置した後、容器18の側面に設けられた
雌ネジ部に蓋体部材19を螺合して、容器18と111
との接触部をOリング2oによって真空シールすると共
に、容器18と部材19との接触部をOリング21によ
って真空シールすれば、膜1と部材19で囲まれた開口
2aの部分は気密な空間となる。そこで、この状態でユ
ニットを蒸着用ペルジャー内に配置すれば気密な空間に
Plじ込められた空気の圧力によりll11が弛むため
、この段階で蒸着を行なうようにしても良い。
膜ユニットを配置した後、容器18の側面に設けられた
雌ネジ部に蓋体部材19を螺合して、容器18と111
との接触部をOリング2oによって真空シールすると共
に、容器18と部材19との接触部をOリング21によ
って真空シールすれば、膜1と部材19で囲まれた開口
2aの部分は気密な空間となる。そこで、この状態でユ
ニットを蒸着用ペルジャー内に配置すれば気密な空間に
Plじ込められた空気の圧力によりll11が弛むため
、この段階で蒸着を行なうようにしても良い。
更に又、上述した一実施例においては、膜の一方の面か
らのみ大気圧を印加して膜を弛ますための作業を蒸着用
真空ペルジャーを利用して行なうようにしたが、別個の
装置により膜の一方の面からのみ大気圧を印加して膜を
予め弛ました後、真空蒸着装置内に配置して蒸着を行な
うようにしても良い。
らのみ大気圧を印加して膜を弛ますための作業を蒸着用
真空ペルジャーを利用して行なうようにしたが、別個の
装置により膜の一方の面からのみ大気圧を印加して膜を
予め弛ました後、真空蒸着装置内に配置して蒸着を行な
うようにしても良い。
又、上述した実施例においては、座金に取り付けられた
薄膜から成るユニットUを真空ベルジャ−の凹部に配置
し、薄膜の一方の側からのみ大気圧が印加されるように
したが、ガスフロー型計数管にユニットUが取り付けら
れた状態のまま凹部に配置して蒸着を行なうようにして
も良い。
薄膜から成るユニットUを真空ベルジャ−の凹部に配置
し、薄膜の一方の側からのみ大気圧が印加されるように
したが、ガスフロー型計数管にユニットUが取り付けら
れた状態のまま凹部に配置して蒸着を行なうようにして
も良い。
更に又、上述した実施例においては、鏡筒内とガスフロ
ー型X線計数管との境界となるX線透過膜に蒸着を施す
場合について説明したが、m筒内からX線を大気側に取
り出すためのX線透過膜に蒸着を施す場合にも本発明は
同様に適用できる。
ー型X線計数管との境界となるX線透過膜に蒸着を施す
場合について説明したが、m筒内からX線を大気側に取
り出すためのX線透過膜に蒸着を施す場合にも本発明は
同様に適用できる。
[発明の効果]
上述した説明から明らかなように、本発明においては膜
の一方の側からのみガスあるいは大気圧を印加して膜を
予め弛ました後、蒸着を行なうようにしているため、X
線透過膜を装置に装着しても膜の伸びは緩慢になり蒸着
膜が島状に細かく分離することを抑制でき、X線透過膜
ユニットの交換間隔を延ばすことができる。
の一方の側からのみガスあるいは大気圧を印加して膜を
予め弛ました後、蒸着を行なうようにしているため、X
線透過膜を装置に装着しても膜の伸びは緩慢になり蒸着
膜が島状に細かく分離することを抑制でき、X線透過膜
ユニットの交換間隔を延ばすことができる。
第1図は本発明を実施するための装置の一例を示すため
の図、第2図は本発明を実施するだめの他の装置を説明
するための図、第3図は従来の欠点を説明するための図
である。 1 :簿膜 2:座金
の図、第2図は本発明を実施するだめの他の装置を説明
するための図、第3図は従来の欠点を説明するための図
である。 1 :簿膜 2:座金
Claims (1)
- 耐真空性を有しX線透過特性の良好な薄膜に導電性物質
を蒸着させる方法において、該薄膜によって真空空間と
ガスが存在する空間とを遮断し、該薄膜の一方の面から
のみ該薄膜に該ガスの圧力を印加して該薄膜を弛ました
後、該薄膜に該導電性物質を蒸着するようにしたことを
特徴とするX線透過膜の蒸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27893784A JPS61155982A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | X線透過膜の蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27893784A JPS61155982A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | X線透過膜の蒸着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61155982A true JPS61155982A (ja) | 1986-07-15 |
JPH0478154B2 JPH0478154B2 (ja) | 1992-12-10 |
Family
ID=17604145
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27893784A Granted JPS61155982A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | X線透過膜の蒸着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61155982A (ja) |
-
1984
- 1984-12-28 JP JP27893784A patent/JPS61155982A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0478154B2 (ja) | 1992-12-10 |
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