JPS6236546A - 分析装置 - Google Patents
分析装置Info
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- JPS6236546A JPS6236546A JP60176760A JP17676085A JPS6236546A JP S6236546 A JPS6236546 A JP S6236546A JP 60176760 A JP60176760 A JP 60176760A JP 17676085 A JP17676085 A JP 17676085A JP S6236546 A JPS6236546 A JP S6236546A
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- ray
- analyzer
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
高真空の分析室内に配設されるX線源のX線射出窓の周
辺部に該窓部の加熱手段を設け、該窓部の加熱により、
装置内の真空を破らずにX線射出窓の表面に蒸着された
汚染物質を蒸発除去することを可能にしたX線分析装置
。
辺部に該窓部の加熱手段を設け、該窓部の加熱により、
装置内の真空を破らずにX線射出窓の表面に蒸着された
汚染物質を蒸発除去することを可能にしたX線分析装置
。
本発明はX線を材料に照射し、材料から放出される光電
子若しくは螢光X線によって材料の分析を行うX線分析
装置に係り、特にX線源のX線射出窓の汚染除去手段を
具備したX線分析装置に関する。
子若しくは螢光X線によって材料の分析を行うX線分析
装置に係り、特にX線源のX線射出窓の汚染除去手段を
具備したX線分析装置に関する。
X線を励起源とし、該X′faの照射によって発生する
光電子のエネルギー分光によって材料の検出を行う光電
子分光型X線分析装置や、該X線の照射によって発生す
る螢光X線のエネルギー分光によって材料の検出を行う
螢光X線分析装置等においては、材料表面の分析を目的
とすることからその測定は高真空中で行われる。
光電子のエネルギー分光によって材料の検出を行う光電
子分光型X線分析装置や、該X線の照射によって発生す
る螢光X線のエネルギー分光によって材料の検出を行う
螢光X線分析装置等においては、材料表面の分析を目的
とすることからその測定は高真空中で行われる。
第2図は光電子分光型X線分析装置の構成配置を示す模
式図である。
式図である。
図において、51は真空チャンバ、52はマニピレータ
、53は分析試料、54はイオン・ガン、55はX線源
、56は例えば静電半球型等のエネルギー・アナライザ
、57は高真空排気管、WはX線射出窓、XRはX%%
、eは光電子、IBはイオン・ビームを示す。
、53は分析試料、54はイオン・ガン、55はX線源
、56は例えば静電半球型等のエネルギー・アナライザ
、57は高真空排気管、WはX線射出窓、XRはX%%
、eは光電子、IBはイオン・ビームを示す。
分析に際しては、分析される試料53の表面の汚染を取
り除いて分析精度を高めるため、及び試料の内部を分析
する等の目的のために、試料の表面をイオン・ビーム1
Bや電子ビーム或いはレーザ・ビーム等により削りなが
ら測定が行われる。
り除いて分析精度を高めるため、及び試料の内部を分析
する等の目的のために、試料の表面をイオン・ビーム1
Bや電子ビーム或いはレーザ・ビーム等により削りなが
ら測定が行われる。
即ち、例えばイオン・ビームIBを照射して分析試料5
3の表面を削った後、イオン・ビームIBを中断し、X
線源55よりXvA射出窓Wを介して分析試料53面に
所望の波長を有するX綿XRを照射し、該X線照射面か
ら高真空レベル中へ励起されて飛び出してくる光電子e
をエネルギー・アナライザに捕獲し、該光電子eの持つ
エネルギーを測定することによって分析がなされる。
3の表面を削った後、イオン・ビームIBを中断し、X
線源55よりXvA射出窓Wを介して分析試料53面に
所望の波長を有するX綿XRを照射し、該X線照射面か
ら高真空レベル中へ励起されて飛び出してくる光電子e
をエネルギー・アナライザに捕獲し、該光電子eの持つ
エネルギーを測定することによって分析がなされる。
第3図は上記エネルギー・アナライザによる分析結果を
模式的に示す図で、エネルギー量Eに対応するエネルギ
ー強度■のカーブCI/EにピークI、を生じた光電子
のエネルギー量の値EMによって物質が検出される。
模式的に示す図で、エネルギー量Eに対応するエネルギ
ー強度■のカーブCI/EにピークI、を生じた光電子
のエネルギー量の値EMによって物質が検出される。
その時分析される試料が、半導体を例にとるとガリウム
・砒素(GaAs)結晶のA S %インジウム・燐(
Inp)結晶のP、水銀・カドミウム・テルル(HgC
dTe)結晶のHg等のように、蒸気圧の高い元素を含
む場合、試料の表面をイオン・ビームIB等で削った際
、これらの元素が蒸発して比較的温度が低く且つ分析試
料53に約10龍程度に接近して配置されるX線源55
のX線対出窓Wの表面に被着し、該X線対出窓WOX線
XRの透過度を大幅に低下させて分析精度の低下を招く
という問題がある。
・砒素(GaAs)結晶のA S %インジウム・燐(
Inp)結晶のP、水銀・カドミウム・テルル(HgC
dTe)結晶のHg等のように、蒸気圧の高い元素を含
む場合、試料の表面をイオン・ビームIB等で削った際
、これらの元素が蒸発して比較的温度が低く且つ分析試
料53に約10龍程度に接近して配置されるX線源55
のX線対出窓Wの表面に被着し、該X線対出窓WOX線
XRの透過度を大幅に低下させて分析精度の低下を招く
という問題がある。
そこで分析精度を低下せしめないためにX線対出窓Wの
汚染物質を除去する必要があるが、装置の稼動効率を低
下させないために容易に行える汚染除去手段が要望され
ている。
汚染物質を除去する必要があるが、装置の稼動効率を低
下させないために容易に行える汚染除去手段が要望され
ている。
第4図は上記x&?+分析に一般的に使用される固定ア
ノード方式のX線源を模式的に示した側断面図である。
ノード方式のX線源を模式的に示した側断面図である。
同図において、1は筒体、2はアノード支持体、3は窓
支持体、4はアノード、5は絶縁体、6はカソード、7
.8は第1.第2のグリッド、9は遮蔽板、10はねじ
込み部、11は真空パツキン、12は真空排気管、13
は水冷機構、WはX線射出窓、EBは電子ビーム、XR
はX線を示している。なおりソード6.第1.第2のグ
リッド7.8の配線接続構造は省略されている。
支持体、4はアノード、5は絶縁体、6はカソード、7
.8は第1.第2のグリッド、9は遮蔽板、10はねじ
込み部、11は真空パツキン、12は真空排気管、13
は水冷機構、WはX線射出窓、EBは電子ビーム、XR
はX線を示している。なおりソード6.第1.第2のグ
リッド7.8の配線接続構造は省略されている。
上記X線源においてX線対出窓Wは、真空を保持し且つ
X線の透過度を高めるために、通常ベリリウム(Be)
やアルミニウム(A1)等よりなる厚さ数μm〜数10
μm程度の薄膜により形成され、強度を保持するために
例えば第4図に示すような筒状の窓支持体3に鑞付けさ
れ、筒体lの底部にねじ込まれ固定される。
X線の透過度を高めるために、通常ベリリウム(Be)
やアルミニウム(A1)等よりなる厚さ数μm〜数10
μm程度の薄膜により形成され、強度を保持するために
例えば第4図に示すような筒状の窓支持体3に鑞付けさ
れ、筒体lの底部にねじ込まれ固定される。
然しなから上記のような構造のX線源を用いた従来のX
線分析装置においては、X線対出窓Wの表面に付着した
前述したように蒸気圧の高い元素の蒸着物よりなる汚染
物質を除去する際には、装置の高真空を破り、窓支持体
3を取り外してx′m射出射出窓脊面学的に清浄化する
必要があり、そのため下記のような問題点を生じていた
。
線分析装置においては、X線対出窓Wの表面に付着した
前述したように蒸気圧の高い元素の蒸着物よりなる汚染
物質を除去する際には、装置の高真空を破り、窓支持体
3を取り外してx′m射出射出窓脊面学的に清浄化する
必要があり、そのため下記のような問題点を生じていた
。
即ち第1は、上記分析装置が10− ”程度の超高真空
で機能せしめられるため、該高真空を破った際には回復
するのに数日程度の長時間を要し、装置の稼動効率が大
幅に低下することである。
で機能せしめられるため、該高真空を破った際には回復
するのに数日程度の長時間を要し、装置の稼動効率が大
幅に低下することである。
また第2は、前述したように分析に際してその都度、試
料の表面をイオン・ビーム等で削り取る操作が含まれる
が、測定直前のイオン・ビーム照射によってX線対出窓
W面に被着した汚染物質が除去できないために、該汚染
物質による吸収によりX線強度が減少し、感度の低下を
招くという点である。
料の表面をイオン・ビーム等で削り取る操作が含まれる
が、測定直前のイオン・ビーム照射によってX線対出窓
W面に被着した汚染物質が除去できないために、該汚染
物質による吸収によりX線強度が減少し、感度の低下を
招くという点である。
第1図は、本発明に係るX線源の一実施例におけるX線
射出窓及びその近傍の模式側断面図である。
射出窓及びその近傍の模式側断面図である。
上記問題点は同図に示すように、真空中においてX線を
材料に照射し、該材料から放出される電子若しくはX線
により該材料の分析を行う分析装置において、X線源の
X線射出窓周辺部に該X線射出窓の加熱手段を設けた本
発明による分析装置によって解決される。
材料に照射し、該材料から放出される電子若しくはX線
により該材料の分析を行う分析装置において、X線源の
X線射出窓周辺部に該X線射出窓の加熱手段を設けた本
発明による分析装置によって解決される。
即ち本発明はX線源のX線射出窓周辺部にヒータを設け
、高真空状態において該ヒータによってX線射出窓を加
熱し、該X線射出窓の表面に被着している高蒸気圧汚染
物質を蒸発させて除去するものである。
、高真空状態において該ヒータによってX線射出窓を加
熱し、該X線射出窓の表面に被着している高蒸気圧汚染
物質を蒸発させて除去するものである。
従って分析装置内の高真空状態を破らずにX線射出窓の
表面を清浄化できるので装置の稼動効率は大幅に向上し
、且つ分析直前のイオン・ビーム等による試料表面の削
除処理に際してX線射出窓の表面に被着した汚染物質も
、その直後即ち分析前に容易に除去することが可能であ
るので該分析装置の分析精度も向上する。
表面を清浄化できるので装置の稼動効率は大幅に向上し
、且つ分析直前のイオン・ビーム等による試料表面の削
除処理に際してX線射出窓の表面に被着した汚染物質も
、その直後即ち分析前に容易に除去することが可能であ
るので該分析装置の分析精度も向上する。
以下本発明を図示実施例により、具体的に説明する。
本発明に係るX線源においては、そのX線射出窓及びそ
の近傍の構造が例えば第1図に示す模式側断面図のよう
に形成される。
の近傍の構造が例えば第1図に示す模式側断面図のよう
に形成される。
即ちBe若しくはA1等の厚さ数μm乃至数10μmの
薄膜よりなるX線対出窓Wが鑞付けされる筒状の窓支持
体3の内部には、該窓支持体3の温度を400〜500
°C程度に昇温し得る表面が絶縁された密封形ヒータ1
4がX線対出窓Wに接近した該窓支持体3の筒状部内に
埋込まれる。(17は窓Wの鑞付は部) そして上記X線射出窓Wが鑞付けされた窓支持体3は該
X線源の容器である筒体く第4図参照)1の底面101
のX線射出孔18を内包する位置に、高温に耐える例え
ば銅(Cu)パツキン16を介して気密に圧接される。
薄膜よりなるX線対出窓Wが鑞付けされる筒状の窓支持
体3の内部には、該窓支持体3の温度を400〜500
°C程度に昇温し得る表面が絶縁された密封形ヒータ1
4がX線対出窓Wに接近した該窓支持体3の筒状部内に
埋込まれる。(17は窓Wの鑞付は部) そして上記X線射出窓Wが鑞付けされた窓支持体3は該
X線源の容器である筒体く第4図参照)1の底面101
のX線射出孔18を内包する位置に、高温に耐える例え
ば銅(Cu)パツキン16を介して気密に圧接される。
なおこの圧接は上記X線射出孔18の周辺に設けられた
突起部を介し、袋ナツト15によってなされる。
突起部を介し、袋ナツト15によってなされる。
かかる構造においては、高真空状態において上記ヒータ
14により窓支持体3を400〜500℃程度に昇温す
ることによりX線対出窓Wも熱伝導および熱輻射により
350〜400℃程度に昇温し、該X線射出窓Wの表面
に被着していた高蒸気圧の汚染物質を真空中へ蒸発飛散
させる。
14により窓支持体3を400〜500℃程度に昇温す
ることによりX線対出窓Wも熱伝導および熱輻射により
350〜400℃程度に昇温し、該X線射出窓Wの表面
に被着していた高蒸気圧の汚染物質を真空中へ蒸発飛散
させる。
従って分析装置内の高真空状態を破らずにX線対出窓W
の表面を清浄化できるので該装置の稼動効率が大幅に向
上する。また分析直前のイオン・ビーム処理等によりX
線対出窓Wの表面に被着した汚染物質も、その直後即ち
分析前に除去できるので分析精度も向上する。
の表面を清浄化できるので該装置の稼動効率が大幅に向
上する。また分析直前のイオン・ビーム処理等によりX
線対出窓Wの表面に被着した汚染物質も、その直後即ち
分析前に除去できるので分析精度も向上する。
なお本発明に係る構造は、該X線分析装置を分子線エピ
タキシャル成長装置内に配置し、結晶層を成長させなが
ら結晶の組成を調べる際等、X線射出窓の表面に蒸着す
る汚染物質の多い状態において使用する際、分析精度を
向上せしめるうえにも極めて有効である。
タキシャル成長装置内に配置し、結晶層を成長させなが
ら結晶の組成を調べる際等、X線射出窓の表面に蒸着す
る汚染物質の多い状態において使用する際、分析精度を
向上せしめるうえにも極めて有効である。
なお本発明は螢光X線分析装置に使用するX線源にも勿
論適用される。
論適用される。
〔発明の効果〕
以上説明のように本発明によれば、光電子分光型X線分
析装置及び螢光X線分析装置等のX線分析装置の稼動効
率及び検出精度を大幅に向上することができる。
析装置及び螢光X線分析装置等のX線分析装置の稼動効
率及び検出精度を大幅に向上することができる。
第1図は本発明に係るX線源の一実施例におけるX線射
出窓及びその近傍の模式側断面図、第2図は光電子分光
型X線分析装置の模式図、第3図はエネルギー・アナラ
イザによる分析結果を示す図、 第4図は固定アノード方式X線源の従来構造を示す模式
側断面図である。 図において、 1は筒体、 2はアノード支持体、 3は窓支持体、 4はアノード、 5は絶縁体、 6はカソード、 7.8はグリッド、 9は遮蔽板、 12は真空排気管、 13は水冷機構、 14は密封ヒータ、 15は袋ナツト、 16はCuパツキン、 17は鑞付は部、 101は筒体1の底板、 WはX線射出窓、 XRはX線、 IBはイオン・ビーム、 CBは電子ビーム、 eは光電子 を示す。 X詳毘升1ボ窓−及吋0J常の杢繋、人3恒・1欧汀僅
自閉茅 1 聞 ft市、う−チ洸型Xお廷介析李ヒにtの禮公zE4嘉
2 回
出窓及びその近傍の模式側断面図、第2図は光電子分光
型X線分析装置の模式図、第3図はエネルギー・アナラ
イザによる分析結果を示す図、 第4図は固定アノード方式X線源の従来構造を示す模式
側断面図である。 図において、 1は筒体、 2はアノード支持体、 3は窓支持体、 4はアノード、 5は絶縁体、 6はカソード、 7.8はグリッド、 9は遮蔽板、 12は真空排気管、 13は水冷機構、 14は密封ヒータ、 15は袋ナツト、 16はCuパツキン、 17は鑞付は部、 101は筒体1の底板、 WはX線射出窓、 XRはX線、 IBはイオン・ビーム、 CBは電子ビーム、 eは光電子 を示す。 X詳毘升1ボ窓−及吋0J常の杢繋、人3恒・1欧汀僅
自閉茅 1 聞 ft市、う−チ洸型Xお廷介析李ヒにtの禮公zE4嘉
2 回
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 真空中においてX線を材料に照射し、該材料から放出さ
れる電子若しくはX線により該材料の分析を行う分析装
置において、 X線源のX線射出窓周辺部に該X線射出窓の加熱手段を
設けたことを特徴とする分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60176760A JPS6236546A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60176760A JPS6236546A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6236546A true JPS6236546A (ja) | 1987-02-17 |
Family
ID=16019328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60176760A Pending JPS6236546A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6236546A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001307669A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-11-02 | Shimadzu Corp | 軟x線発生装置及びx線検査装置 |
WO2012072146A1 (en) * | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Excillum Ab | Coated x-ray window |
JP2012516002A (ja) * | 2009-01-26 | 2012-07-12 | エクシルム・エービー | X線窓 |
WO2013178251A1 (en) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | Excillum Ab | Coated x-ray window |
JP2014225462A (ja) * | 2014-07-11 | 2014-12-04 | エクシルム・エービーExcillum AB | X線窓 |
-
1985
- 1985-08-09 JP JP60176760A patent/JPS6236546A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001307669A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-11-02 | Shimadzu Corp | 軟x線発生装置及びx線検査装置 |
JP2012516002A (ja) * | 2009-01-26 | 2012-07-12 | エクシルム・エービー | X線窓 |
WO2012072146A1 (en) * | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Excillum Ab | Coated x-ray window |
CN103238201A (zh) * | 2010-12-03 | 2013-08-07 | 伊克斯拉姆公司 | 涂覆的x-射线窗口 |
JP2014502019A (ja) * | 2010-12-03 | 2014-01-23 | エクシルム・エービー | 被覆x線ウィンドウ |
US9171693B2 (en) | 2010-12-03 | 2015-10-27 | Excillum Ab | Coated X-ray window |
WO2013178251A1 (en) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | Excillum Ab | Coated x-ray window |
US9245707B2 (en) | 2012-05-29 | 2016-01-26 | Excillum Ab | Coated X-ray window |
JP2014225462A (ja) * | 2014-07-11 | 2014-12-04 | エクシルム・エービーExcillum AB | X線窓 |
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