JPS6277432A - V=60〜90%,Al=40〜10%を含有するV−Al合金の製造方法 - Google Patents

V=60〜90%,Al=40〜10%を含有するV−Al合金の製造方法

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JPS6277432A
JPS6277432A JP21468985A JP21468985A JPS6277432A JP S6277432 A JPS6277432 A JP S6277432A JP 21468985 A JP21468985 A JP 21468985A JP 21468985 A JP21468985 A JP 21468985A JP S6277432 A JPS6277432 A JP S6277432A
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Toshio Kamaya
釜谷 俊夫
Toshio Nayuki
利夫 名雪
Chiaki Ouchi
大内 千秋
Kenji Takahata
高畑 謙治
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JFE Engineering Corp
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NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はチタン合金の母合金として使用されるv−A
l合金製造方法に関する。
〔従来の技術〕
チタン合金用のV−At母合金の製造方法としてAtテ
ルミット法と電気炉法が知られているが、工業的にはA
tテルミット法が一般的に実施されている。
Atテルミット法は、テルミット炉に原材料である五酸
化バナジウム鉱石(vtos)と還元剤としてA/、粉
末及び造滓剤を装入し、大気中でテルミット反応させる
方法であり、その反応は、 O V、O,+ 7 At+ 2a−kl、 −+ 2 (
V、−Atff ) +TAt、0.− Q 〈ここで、α冨0.20〜1.26> となる。
テルミット反応炉として、水冷式Cuルツボを使う方法
と、内面にセラミックス・ライニング材を施した鋼製炉
体を使う方法があるが、  Cuルツボ法はライニング
が不要で合金へのライニング材汚染がない利点がある反
面、生産規模を大きくすることができず製造コストの低
減が図れない欠点があるため、セラミックス・ライニン
グ材法が最も一般的に用いられている。
ところで上記したテルミット反応によるV−A1合金の
製造法においては、合金の清浄度と歩留ζこ大きな問題
があった。即ち、V−At合金のガス溶解度が液体と固
体で大きな差があるため、特に溶融メタルが凝固する時
に大量のガスを放出し、メタル上面に縦に亀裂が走り、
且つ多数の気孔が発生し、メタル上面の清浄度が悪化す
る問題がある。
また、スラグとv、0.との親和力が強いため、スラグ
中のV鵞01濃度が数憾に達しS V、O。
の〔メタル/スラグ〕移行比が低下するため、メタル中
のV歩留が低下する問題がある。
〔発明の概要〕
本発明は上記した従来の問題点を解決するためになされ
たもので、メタルの清浄度と歩留とを“向上し得る製造
方法を提供しようとするものである。この目的のために
本発明は、■= 60〜90 % 、 At=40〜1
0%を含有するV−At合金を製造するに当り、五酸化
バナジウム鉱石を鉱石サイズ20日以下で且つ1w以下
が5〜50wt%となるように調整し、これにスラグ組
成がCaO= 10〜30 wt* 、 Ago。
e= 90〜70 wt%で且つ組成比がCab/ (
CaO+ *t、o、 ) = o、 1〜0.3  
になるように造滓剤を配合し、更に還元剤としてkA粉
末を添加し、反応炉において下記定義するQ=600〜
800Kc&L/KPでテルミット反応させることを基
本的な特徴とするものである。
ここで本発明においては、V−A2合金としてV=60
〜90%、At=40〜10%のものを対象とする0本
発明者らの知見によれば、メタル凝固時のガス放出量と
v−ht合金組成との関係で7%が50係から100係
に増加するにつれ、ON I N宏 等のガス放出量が
減少する。またV中の11%が0から5096に増加す
るにつれ、スラグ中のv、0.が7%から0.5係に減
少する。このような知見からメタル清浄度をおとさない
範囲のガス放出量で且つスラグ中のV、O,Sを低減で
きるV −Al合金組成を選び、V==60〜90%、
AL−=40〜10%合金を対象としたものである。
第1図はv!0.鉱石の粒径とV歩留との関係を示すグ
ラフである。粒径は細かいほど還元剤との接触面積が拡
大し、テルミット反応が迅速に起こり、未反応原料ロス
を小さくすることができ、■歩留を向上させる。このグ
ラフかられかるようlこ粒径20口以下で且つ粒径1m
以下が50憾で歩留向上は飽和しはじめるが、あ才り粒
径を細かくするとそのための製造コストが大きくなるた
め、本発明においてはほぼ歩留904以上を確保し得る
粒径20■以下でなおかつ粒径IW以下のものが5〜5
0wt%の範囲に調整するものとする。
またV歩留を向上させるためには、スラグ中へのV、O
,移行量を低下させ、vNOl が還元されてメタル中
へVが移行するようにすることが大切である。第2図は
スラグ組成とスラグ中のV、O,(S)  との関係を
示すもので、CaO CaO+ A40. = 0・2  近彷でスラグ中v
・0・ が最も最下することがわかる。そこで本発明で
ように造滓剤を配合するものとする。
なお、CaOは添加lこ際して粒径5四以下に調整する
のが望ましい、また造滓剤として上記スラグ単体或はス
ラグとCaOを混合して用いる等裡々態様が可能である
更に本発明においては、テルミット反応に際してのQ値
をQ=600〜800Kcat/4’と限定する。ここ
でQ値は次のように定義される。
Q値をこの範囲とすれば、反応熱量が最適な範囲に選ば
れ、爆発的なテルミット反応が抑制され、原料と生成物
の飛散ロスを抑制できる。このQ値とV歩留の関係を第
3図に示す。Q=600〜800 Kcat/に9 と
すればV歩留を向上し得ることがわかる。
なお、テルミット反応炉のライニング材としては種々の
ものが使用可能であるが、上記した組成比のv−htス
ラグを用いるとライニング材と反応メタルの分離が良く
、両者間の反応が抑制されV歩留が向上する。これを下
掲表に示す。
V−Atスラグ組成 CaO/AL、O,=20/80
〔実施例〕 実施例1゜ 下掲第1表に示す原料を、V−Atスラグ(Cab/A
go、 = 20/80 )をライニングした反応炉に
投入し、Q = 700 Kcal/go  でテルミ
ット反応させ、65V−35AL合金を製造した。
その結果得られた生成物とスラグの組成を第2表に示す
。■歩留は99.2%と非常に高い値を示した。また表
面性状も良好であった。
第  1  表 実施例2゜ 下掲第3表に示す材料を実施例1と同じ反応炉に装入し
、Q = 750 Keat/印  でテルミット反応
させ85V−15At合金を製造した。
得られた生成物、スラグの組成を第4表に示す、■歩留
は98.4%と高い値を示した。
また表面清浄度も良好であった。
第  3  表
【図面の簡単な説明】
第1図は■!0.鉱石の粒径とV歩留との関係を示すグ
ラフ、第2図はスラグ組成とスラグ中V、O,との関係
を示すグラフ、第3図はQ値とV歩留との関係を示すグ
ラフである。 特許出願人  日本鋼管株式会社 発 明  者   釜   谷   俊   大同  
        名   雪   利   大同   
      大   内   千   秋同     
     高   畑   爺−治代理人弁理士   
吉   原   省   三同   同      札
   橋        悄同  弁饅士   吉  
 原   弘   子第  1  図 V2O5& El f) 1 r′)’m7粒’Flj
>4’f−(%)手続補正書(自発) 昭和60年IO月≧2臼

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 五酸化バナジウム鉱石を鉱石サイズ20mm以下で且つ
    1mm以下が5〜50wt%となるように調整し、これ
    にスラグ組成比が CaO/(CaO+Al_2O_3)=0.1〜0.3
    になるように造滓剤を配合し、更に還元剤としてAl粉
    末を添加し、反応炉において下記定義するQ=600〜
    800Kcal/kgでテルミット反応させることを特
    徴とするV=60〜90%、Al=40〜10%を含有
    するV−Al合金の製造方法。 Q=テルミット反応熱(Kcal)/(Al粉末+五酸
    化バナジウム鉱石+造滓剤)の重量(kg)
JP21468985A 1985-09-30 1985-09-30 V=60〜90%,Al=40〜10%を含有するV−Al合金の製造方法 Granted JPS6277432A (ja)

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