JPS627196B2 - - Google Patents

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JPS627196B2
JPS627196B2 JP2049278A JP2049278A JPS627196B2 JP S627196 B2 JPS627196 B2 JP S627196B2 JP 2049278 A JP2049278 A JP 2049278A JP 2049278 A JP2049278 A JP 2049278A JP S627196 B2 JPS627196 B2 JP S627196B2
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JP
Japan
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imidazole
dione
chloroform
reaction
thiolactone
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JP2049278A
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Kozo Shimako
Yasuhiko Aoki
Kaoru Maejima
Takeo Takahashi
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はヘキサヒドロチエノ〔3・4−d〕イ
ミダゾール−2・4−ジオン類の製造に関するも
のであり、さらに詳しくは ヘキサヒドロフロ〔3・4−d〕イミダゾー
ル−2・4−ジオン類(この化合物はラクトン
であるので以下ラクトンと略称する。)を塩基
性化合物の存在下チオアミド類と反応させるこ
とにより、ヘキサヒドロチエノ〔3・4−d〕
イミダゾール2・4−ジオン類(この化合物は
チオラクトンであるので以下チオラクトンと略
称する。)を製造する方法。
或いは 上記ラクトンを塩基性化合物、および硫黄の
存在下、チオアミド類と反応させることによ
り、上記チオラクトンを製造する方法である。
本発明のラクトン、チオラクトンの1例として
下記一般式()、()の化合物をとつて本発明
を式示すると次のようになる。
(式中、Rはアルキル基、アリール基、またはア
ルアルキル基を示す。) 上述アルキル基とは炭素数8以下のアルキル
基、たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル
基等を示し、アリール基とは炭素数10以下のアリ
ール基、たとえばフエニル、トリル、キシリル、
ナフチル基等を示し、アルアルキル基とは炭素数
18以下のアルアルキル基、たとえばベンジル、フ
エネチル、ナフチルメチル基等を示す。
本発明によつて得られるチオラクトンは抗菌作
用を持つ生理活性物質であり、ピオチン、α−デ
ヒドロビオチンおよび神経節遮断剤(トリメタフ
アン・カンシイレート)、その他の医薬品の合成
中間体として極めて重要な化合物である。
ビオチンはビタミンHともよばれ、生長促進、
皮膚疾患予防治療効果等をもち、α−デヒドロビ
オチンは抗菌作用を持つ化合物である。従来ラク
トンを原料としてチオラクトンを製造する方法と
して、M、Gerecke、J.P.Zimmermann、W.
Aschwanden;Helvetica Chemica Actai第53巻
第991〜999頁(1970年)に記載の方法(以下A法
と略称する)、および特公昭51−17557号公報に記
載の方法(以下B法と略称する)が知られている
A法はラクトンをジメチルホルムアミドまたはジ
メチルアセトアミド中、チオ酢酸カリと150℃以
上に加熱することにより、チオラクトンを得る方
法である。この方法は粗生成物を好収率で得るこ
とができるが、150℃以上に加熱するため、熱に
対して不安定なチオ酢酸カリおよび生成物チオラ
クトンが一部分解し、生成物が着色するなどして
得られるチオラクトンの純度が低下する。特に光
学活性ラクトンを原料とした場合目的物チオラク
トンの光学的純度が著しく低下する。
またこの方法は不安定なチオ酢酸カリをあらか
じめ自製する必要があるという工業的実施には不
利な点を有している。
一方B法はラクトンをアミド系極性溶媒(好ま
しくはジメチルアセトアミド)中、水硫化アルカ
リと120℃に加温することによりチオラクトンを
得る方法であるが、収率を向上させるためには反
応系に120℃で硫化水素を飽和させる必要があり
工業的実施にはその為の設備(グラスライニング
製のオートクレーブ)を要し、また収率も文献に
記載するように76%程度である。
本発明者らは上述した従来の欠点を克服すべく
鋭意研究を進めた結果、経済的でかつ工業的に容
易な操作で本発明目的化合物チオラクトンを高収
率、高品質で製造する方法を発明した。
本発明は原料化合物ラクトンを高沸点極性溶媒
中塩基性化合物の存在下、又は高沸点塩基性溶媒
中、塩基性化合物の存在下あるいは不存在下(こ
の場合は溶媒が塩基性化合物を兼ねる)に、チオ
アミド類と100〜150℃、好ましくは110〜130℃に
加熱するかあるいは前述の条件下で硫黄を触媒量
添加し反応させることにより好収率でチオラクト
ンを得る方法である。
上述の中で硫黄の添加についてはこの実施によ
り、反応を促進し反応時間の短縮化という驚くべ
き効果を発現するものであり、このことは工業的
生産を実施するに当り、非常に大きな意義を有す
るものである。
前記説明のうち高沸点極性溶媒とはスルホラン
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
テトラメチルウレア、ヘキサメチルホスフオルア
ミド、N−メチル−2−ピロリドン、メチルメチ
ルチオメチルスルホキシド(FAMSO)、ジメチ
ルスルホキシド(DMSO)、ポリエチレングリコ
ールなどであり、高沸点塩基性溶媒としてはトリ
イソプロパノールアミン、トリノルマルブチルア
ミン、β−ピコリン、γ−ピコリン、キノリン、
イソキノリン、N・N−ジメチルアニリン、N・
N−ジエチルアニリン、DBU〔ジアザビシクロ
(5・4・0)ウンデセン−7〕等が含まれ、塩
基性化合物としては前記高沸点塩基性溶媒及び酢
酸、プロピオン酸、安息香酸等のナトリウム、カ
リウム塩およびナトリウム及びカリウムメチラー
ト、エチラート、苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸カ
リ、炭酸ナトリウム、硫化ソーダ等を指すもので
ある。
また添加する硫黄とは通常市販の粉末状硫黄を
指すが、結晶状硫黄でもよく、この場合はよく粉
砕して用いる方が好ましい。
反応試剤チオアミド類とはチオアセトアミド、
チオプロピオン酸アミド等の炭素数2〜5の低級
飽和脂肪酸チオアミド類、およびチオ安息香酸ア
ミド、チオニコチン酸アミド等の芳香族カルボン
酸チオアミド等を指すものである。
本発明を実施するにおいては前述高沸点極性溶
媒及び高沸点塩基性溶媒に原料ラクトン、チオア
ミド類、塩基性化合物を加え、又は高沸点塩基性
溶媒中に原料ラクトン、チオアミド類を加え、更
に反応を容易にするため必要に応じてイオウを添
加した後、110〜130℃で0.5〜8時間加熱するこ
とにより反応は完結する。
反応の後処理は氷冷下に希酸を滴下して酸析
し、反応生成物を有機溶媒で抽出、水洗後有機層
を減圧濃縮して本発明化合物チオラクトンの結晶
性残渣が得られる。この残渣をエーテル、ヘキサ
ン、希メタノール、希エタノール等の溶媒で浸漬
するか、或いは希メタノール、希エタノール等の
溶媒で再結晶することによりチオラクトンを結晶
として得ることができる。
また上記濃縮残渣を例えばベンゼンないしトル
エンに溶解するか或いは酸析後、例えばベンゼン
抽出、水洗したベンゼン層を希酸と錫、亜鉛末、
または鉄粉を用いて室温から70℃で、好ましくは
50〜65℃に加温処理することにより更に高品質の
チオラクトンを高収率に得ることができる。
以上の如き反応条件を選んだ場合、目的化合物
であるチオラクトンを定量的に得ることができ
る。本発明方法によれば化学的に純度の高いチオ
ラクトンが得られるのみならず、出発原料として
光学活性ラクトンを使用した場合、光学純度の高
いチオラクトンが得られることが大きな利点であ
る。従つて例えば光学活性ビオチン(d−ビオチ
ン)を合成する場合、極めて重要かつ有利な光学
活性中間体を提供するものである。
次に実施例を具体的に示して本発明の方法の態
様を例示するが、本発明は実施例により限定され
るものではない。
実施例 1 ヘキサメチルホスフオルアミド10mlにシス1・
3−ジベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−d〕
イミダゾール−2・4−ジオン〔〔α〕20 +62.0゜
(C=2、クロロホルム)〕5gチオアセトアミド
2.3g、イオウ0.5g、DBU〔1・8−ジアサビシ
クロ(5・4・0)ウンデセン−7〕1.0gを加
え、120℃にて3時間加熱撹拌する。反応後氷冷
下に5%塩酸40mlを滴下、酸析しベンゼン50mlを
加え抽出、ベンゼン層を水洗する。これに7%塩
酸30mlおよび亜鉛末1.5gを添加して60〜65℃に
て加熱撹拌する。室温に冷却して亜鉛末を去
し、ベンゼン層を分液、水洗後減圧濃縮して残渣
5.5gを得る。これに87.7%メタノール20mlを加
え、浸漬し析出する結晶を取すれば、シス−
1・3−ジベンジルヘキサヒドロチエノ〔3・4
−d〕イミダゾール−2・4−ジオン4.46g(収
率85%)を得る。
融点122〜123℃ 〔α〕20 +90.7゜(C=1、
クロロホルム) 赤外吸収(Nujol)1700、1680cm-1(C=0) 実施例 2 N−メチル−2−ピロリドン10mlにシス−1・
3−ジベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−d〕
イミダゾール−2・4−ジオン〔〔α〕20 +62.0゜
(C=2、クロロホルム)〕5g、チオアセトアミ
ド2.3g、イオウ0.5g、DBU〔1・8−ジアザビ
シクロ(5・4・0)ウンデセン−7〕1gを加
えて120℃にて4時間加熱撹拌する。反応後実施
例1と同様に後処理を行ないシス−1・3−ジベ
ンジルヘキサヒドロチエノ〔3・4−d〕イミダ
ゾール−2・4−ジオン4.3g(収率82%)を得
る。
融点122〜123℃ 〔α〕20 +90.4゜(C=1ク
ロロルム) 赤外吸収は標品に一致。
実施例 3 ヘキサメチルホスフオルアミド10mlにシス−
1・3−ジベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−
d〕イミダゾール−2・4−ジオン〔〔α〕20
62.0゜(C=2、クロロホルム)〕5.0g、チオア
セトアミド2.3g、無水酢酸ナトリウム0.75gを
加え、120℃にて6時間加熱撹拌する。反応後実
施例1と同様に後処理を行ないシス−1・3−ジ
ベンジルヘキサヒドロチエノ〔3・4−d〕イミ
ダゾール−2・4−ジオン4.3g(収率82%)を
得る。融点122〜123℃ 〔α〕20 +90.5゜(C=
1、クロロホルム) 赤外吸収は標品に一致。
実施例 4 ヘキサメチルホスフオルアミド10mlにシス−
1・3−ジベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−
d〕イミダゾール−2・4−ジオン〔〔α〕20
62.0゜(C=2、クロロホルム)〕5.0g、チオア
セトアミド2.3g、無水酢酸ナトリウム0.75g、
イオウ0.5gを加え、120℃にて3時間加熱撹拌す
る。反応後、実施例1と同様に後処理を行ない、
シス−1・3−ジベンジルヘキサヒドロチエノ
〔3・4−d〕イミダゾール−2・4−ジオン4.4
g(収率83.8%を得る。融点122〜123℃ 〔α〕
20 +90.5゜(C=1、クロロホルム) 赤外吸収は標品に一致。
実施例 5 ヘキサメチルホスフオルアミド10mlに、シス−
1・3−ジベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−
d〕イミダゾール−2・4−ジオン〔〔α〕20
62.0゜(C=2、クロロホルム)〕5.0g、チオア
セトアミド2.3g、トリイソプロパノールアミン
2.5g、イオウ0.5gを加え120℃にて6時間加熱
撹拌する。反応後実施例1と同様に後処理を行な
い。シス−1・3−ジベンジルヘキサヒドロチエ
ノ〔3・4−d〕イミダゾール−2・4−ジオン
4・2g(収率80%)を得る。融点122〜123℃
〔α〕20 +90.5゜(C=1、クロロホルム) 赤外吸収は標品に一致。
実施例 6 ジメチルアセトアミド10mlにシス−1・3−ジ
ベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−d〕イミダ
ゾール−2・4−ジオン〔〔α〕20 +62.0゜(C=
1、クロロホルム)〕5.0gチオアセトアミド2.3
g、無水酢酸カリウム0.91gを加え、120℃にて
6時間反応する。反応後、実施例1と同様に後処
理を行ない、シス−1・3−ジベンジルヘキサヒ
ドロチエノ〔3・4−d〕イミダゾール−2・4
−ジオン4.3g(収率82%)を得る。融点122〜
123℃ 〔α〕20 +90.2゜(C=1、クロロホル
ム) 赤外吸収は標品に一致。
実施例 7 ジメチルアセトアミド10mlにシス−1・3−ジ
ベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−d〕イミダ
ゾール2・4−ジオン〔〔α〕20 62.0゜(C=1、
クロロホルム)〕5.0g、チオアセトアミド2.3
g、無水炭酸ナトリウム1.0g、イオウ0.3gを加
え、110℃にて5時間加熱撹拌する。反応後、実
施例1と同様に後処理を行ない、シス−1・3−
ジベンジルヘキサヒドロチエノ〔3・4−d〕イ
ミダゾール−2・4−ジオン4.2g(収率80%)
を得る。融点121〜123℃ 〔α〕20 +90.3゜(C
=1、クロロホルム) 赤外吸収は標品に一致。
実施例 8 トリイソプロパノールアミン10mlにシス−1・
3−ジベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−d〕
イミダゾール−2・4−ジオン〔〔α〕20 +62.0゜
(C=2、クロロホルム)〕5.0g、チオアセトア
ミド2.3g、イオウ0.5gを加え、130℃にて8時
間加熱撹拌する。反応後、実施例1と同様に後処
理を行ない、シス−1・3−ジベンジルヘキサヒ
ドロチエノ〔3・4−d〕イミダゾール−2・4
−ジオン4.0g(収率76.2%)を得る。融点121〜
122℃ 〔α〕20 +90.0゜(C=1、クロロホル
ム) 赤外吸収は標品に一致。
実施例 9 ヘキサメチルホスフオルアミド10mlにシス−
1・3−ジベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−
d〕イミダゾール−2・4−ジオン〔〔α〕20
62.0゜(C=2、クロロホルム)〕5.0g、チオプ
ロピオン酸アミド2.8g、イオウ1.0g、DBU
〔1・8−ジアザビシクロ(5・4・0)ウンデ
セン−7〕1.0gを加え、120℃にて3時間加熱撹
拌する。反応後、実施例1と同様に後処理を行な
い、シス−1・3−ジベンジルヘキサヒドロチエ
ノ〔3・4−d〕イミダゾール−2・4−ジオン
4.2g(収率86%)を得る。融点122〜123℃
〔α〕20 +90.3゜(C=1、クロロホルム) 赤外吸収は標品に一致。
実施例 10 N−メチル−2−ピロリドン10mlにシス−1・
3−ジベンジルヘキサヒドロフロ〔3・4−d〕
イミダゾール−2・4−ジオン〔〔α〕20 +62.0゜
(C=2、クロロホルム)〕5.0g、チオベンツア
ミド4.2g、イオウ0.5gDBU〔1・8−ジアザビ
シクロ(5・4・0)ウンデセン−7〕1.0gを
加え、120℃にて4時間加熱撹拌する。反応後、
実施例1と同様に後処理を行ない、シス−1・3
−ジベンジルヘキサヒドロチエノ〔3・4−d〕
イミダゾール−2・4−ジオン4.1g(収率78
%)を得る。融点122〜123℃ 〔α〕20 +90.2゜
(C=1、クロロホルム) 赤外吸収は標品に一致。
実施例 11 ポリエチレングリコール(平均分子量600)10
mlにシス−1・3−ジベンジルヘキサヒドロフロ
〔3・4−d〕イミダゾール−2・4−ジオン
〔〔α〕20 +62.0゜(c=2、クロロホルム)〕3.
0
g、チオアセトアミド1.5g、無水酢酸ナトリウ
ム0.3g、イオウ0.2gを加え、120℃で6時間加
熱、撹拌する。反応後実施例1と同様に後処理を
行ない、シス−1・3−ジベンジルヘキサヒドロ
チエノ〔3・4−d〕イミダゾール2・4−ジオ
ン2.7g(収率86%)を得る。
融点122〜123℃ 〔α〕20 +90.4゜(c=1、
クロロホルム)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ヘキサヒドロフロ〔3・4−d〕イミダゾー
    ル−2・4−ジオン類を塩基性化合物の存在下、
    チオアミド類と反応させることを特徴とするヘキ
    サヒドロチエノ〔3・4−d〕イミダゾール−
    2・4−ジオン類の製法。 2 ヘキサヒドロフロ〔3・4−d〕イミダゾー
    ル−2・4−ジオン類を塩基性化合物および硫黄
    の存在下チオアミド類と反応させることを特徴と
    するヘキサヒドロチエノ〔3・4−d〕イミダゾ
    ール−2・4−ジオン類の製法。
JP2049278A 1978-02-23 1978-02-23 Preparation of hexahydrothieno3,4-d-imidazoles Granted JPS54112886A (en)

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