JPS6247848A

JPS6247848A - 光磁気デイスク

Info

Publication number: JPS6247848A
Application number: JP18890785A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiko Yorozu; 雄彦萬; Mikihiko Ito; 幹彦伊藤; Junya Tada; 多田　準也; Takehiko Sato; 佐藤　威彦
Original assignee: Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date: 1985-08-28
Filing date: 1985-08-28
Publication date: 1987-03-02
Also published as: JPH0548539B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】「産業上の利用分野」この発明は、光磁気ディスク、特に光磁気記録媒体層を
保護する保護膜を有する光磁気ディスクに関するもので
ある。

「従来の技術」レーザ光を使用して情報の記録、再生及び消去を行なう
光磁気ディスクは、高密度の情報の記録が可能であシ、
且つ情報の消去や追加記録が出来るので、各方向に広く
使用されている。

この種の光磁気ディスクの光磁気記録媒体としては、Ｔ
ｂ−Ｆｅ系、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ系、　Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ
系のものなどが使用されているが、いずれのものも、酸
化などのＩＴｒｔ蝕件の面で充分ではない。

このために、光磁気ディスクにおいて光磁気記録媒体層
を保護するための各種の手段が提案されている。

例えば光磁気記録媒体を不活性ガスを充填した膜間に挾
持させ、光磁気記録媒体の作成時における酸素の混入を
防止し、さらに最上層に容易に酸化し易い金属膜を形成
し、外部からの酸素はこの金属膜を酸化させることに費
して酸素の混入を防止する方法が提案されている（特開
昭５９−１１００５２号）。さらには、光磁気記録媒体
と基板間：ＣＫ　素を取り込んで安定化する還元性の誘
電体膜を形１成し、この誘電体膜の存在で、光磁気記録
媒体Ｊ）酸化を防止しようとする方法も提案されている
（特開昭５９−１１００５６号）。又、光磁気記録媒体
をＡ７　、　Ｂｉ’　、　Ｐｂなどの非通気性で防湿効
果の高い保護膜で保護する方式のものが提案されている
（特開昭５８−８０１４２号）。

しかし提案されているいずれの方法によっても、空気中
の湿気や油分及び水分の存在する雰囲気での、光磁気記
録媒体の酸化や腐蝕からの防止は不充分である。このた
めに実用面では、このような雰囲気での光磁気記録媒体
の長時間にわたる使用に際しては、光磁気記録媒体が劣
化して、記録条件が変化し、記録情報のドロップアウト
の問題や、Ｃ７’ｌｑ比の低下などの問題が完全には解
決されていなかった。

「発明の解決すべき問題点」この発明は、従来提案されている光磁気ディスクにおけ
る光磁気記録媒体の保護上の欠点を解決し、非通気性及
び非透湿性の保護膜で光磁気記録媒体を保護し、全体の
膜構造が簡単で作成上の成膜工程数が少なく製造技術も
複雑化せず、優れた光磁気記録再生特性を有する光磁気
ディスクを提供するものである。

光磁気記録媒体層としては、ＴｂＦｅ　、　ＧｄＣｏ　
。

ＴｂＣｏ　、　ＤｙＣｏ　、　ＴｂＦｅＣｏ　、　Ｇｄ
ＴｂＦｅ　、　ＧｄＦｅＣｏ　。

ＴｂＤｙＦｅ　、　ＧｄＴｂＤｙＦｅ　、　ＴｂＤｙＦ
ｅＣｏなどの希土類遷移金属合金薄膜や、これらにＳｎ
　、　Ｚｎ　、　Ｇｅ　、　Ｐｂ　。

Ｓｉ＋　Ｂｌ　＋　Ｂ　ｒ　Ｃｒなどを添加含有させた
希土類遷移金属合金薄膜が用いられ、これらの薄膜が例
えば１０００Åの膜厚に真空蒸着やス・ぐツタリングの
手段によシ形成される。

この発明の保護膜ではＸが０．６以下であると、均質で
透明な保護膜が形成されない。又Ｘが１．３よシも大き
な値をとると酸素が過剰となり、この過剰な酸素が光磁
気記録媒体層の形成時に光磁気記録媒体層内に混入して
得られる光磁気ディスクの光磁気記録再生特性を劣化さ
せる。

又この過剰な酸素の存在によって、光磁気記録媒体層の
成膜工程において所望の真空度への到達時間が延長し、
光磁気ディスクの生産性が低下する。

保護膜の膜厚が１０００Å以下であると、長時間使用状
態での非通気性及び非透湿性を維持することが出来なく
なり、得られる光磁気ディスクの光磁気記録再生特性が
長時間の使用状態で劣化する。

一方、保護膜の膜厚が５００ＯＸ以上になると、保護膜
内における熱拡散が増大し、光磁気記録時におけるレー
ザ光の出力を増大させる必要が生じる。

この発明の光磁気ディスクでは、二種の膜構成のものが
提示される。第一の膜構成は第１図に示すように、透明
基板１上に直接光磁気記録媒体層２が形成され、この光
磁気記録媒体層２上に保護膜３が形成された構成である
。

第２の膜構成は第２図に示すように透明基板１上に第１
の保護膜３−１が形成され、この第１の保護膜３−１上
に光磁気記録媒体層２が形成され、この光磁気記録媒体
層２上に第２の保護膜３−２が形成された構成である。

この第２図に示すような二重保護膜構成にすると、第１
の保護膜３−１は情報の読み出し光の内、光磁気記録媒
体層２を通過した光を反射し、この光を光磁気記録媒体
層２内で多重反射させるのでファラデ効果によって読み
出し用反射光のカー回転角度が増大し、再生Ｃ／′Ｎ比
を向上させる効果も得られる。

「実施例」以下、この発明の光磁気ディスクを、その実施例に基づ
き製造法に沿って詳細に説明する。

第１表に実施例１乃至実施例５及び比較例１乃至比較例
２０として、それぞれ保護膜の組成、膜厚、初期Ｃ／Ｎ
比及び経時Ｃハ比を示したのは、第１図に示すような一
層膜構成の保護膜を有する構成の光磁気ディスクである
。

各実施例は、組成上及び膜厚上でこの発明の条件を満足
している光磁気ディスクであり、それぞれの実施例に対
応して示される比較例は、組成上もしくは膜厚上でこの
発明の条件を満足していない光磁気デスクである。

第１表に示す各実施例及び比較例では第１区に示すよう
に、厚さ１．２閣のソーダガラスの透明基板１上に高周
波スパフタリングの手段により、直第　　１　　表第１表接Ｔｂ０２１ＦｅＯ，５５ｃｏ０．２４なる組成の光磁
気記録媒体層２を膜厚１０００Ｘに形成し、この光磁気
記録媒体層２上に高純度酸素ガスを導入しながら高周波
ス・ぐツタリングの手段により、保護膜を形成した。

またいずれの実施例もしくは比較例の光磁気ディスクに
おいても、記録周波数２ＭＨｚ　（ＲＢＷ　３０ｋＨｚ
　）レーザパワー６ｍＷで記録が行なわれ、再生レーザ
パワー１ｍＷで再生が行なわれた。記録直後に再生した
場合のＣハ比が第１表中の初期Ｃ／Ｎ比（ｄＢ）であシ
、光磁気ディスクを温度６０℃、９０％ＲＨ雰囲気中に
１０００時間放置した後に再生を行なって得られたＣ／
’Ｎ比が経時Ｃ／’Ｎ比である。

実施例１乃至実施例５はいずれも第１図に示す膜構成の
保護膜を膜厚２０００Ｘに形成した場合であるが、実施
例１乃至実施例５はそれぞれ組成がＧｄ０１．。、Ｔｂ
０１ｏ、Ｄｙ０１．。、ＨｏＯ及びＹｂ０１ｏの保１．
０護膜を形成した場合である。

それぞれの実施例における発明者等が実測して得た初期
Ｃ／Ｎ比及び経時Ｃ／’Ｎ比は、実施例１では４９　（
ｄＢ）及び４８（ｄＢ）、実施例２ではいずれも５０（
ｄＢ）、実施例３ではいずれも４８　（ｄＢ）　、実施
例４ではいずれも４７（ｄＢ）、実施例５では４９（ｄ
Ｂ）及び４８　（ｄＢ）である。

いずれの実施例のものでも保護膜３の存在によシ長期の
耐久性に優れ、安定した光磁気記録再生特性を有する光
磁気ディスクが得られていることが確認される。

比較例１，５，９，１３及び１７は、それぞれ実施例１
．２，３，４及び５に対応する組成成分の保護膜におい
て、この発明の組成条件に対して酸素が不足している場
合である。即ち、比較例１゜５．９，１３及び１７は、
保護膜の組成がそれぞれＧｄ００６．Ｔｂ０ｏ３．Ｄｙ
０ｃＬ３．ＨＯＯ及びＹｂ０ｏ３であり、いずれもｘ　
＝　０．３でちって、この発明の０．６≦ｘ＜１．３の
条件を満足していない。いず九の比較例においても保護
膜の膜厚は２０００Ｘであり、膜厚の面ではこの発明の
条件は満足されているう発明者等の実測した初期Ｃハ比
、及び経時Ｃ／Ｎ比は、比較例１では、４７　（ｄＢ）
及び３１　（ｄＢ）　、、比較例５でば４８（ｄＢ）及
び３０（ｄＢ）、比較例９でば４７　（ａＢ）及び２５
（ｄＢ）、比較例１３では４８　（ｄＢ）及び２５（ｄ
Ｂ）、比較例１７では４８　（ｄＢ）及び３０　（ｄＢ
）である。

いずれの比較例でも長期の耐久性に優れ安定した光磁気
記録再生特性を有する光磁気ディスクが得られていない
。これは、これらの比較例では酸素がこの発明の条件に
対して不足しているために均質で透明な保護膜３が得ら
れていないためである。

比較例２，６，１０．１４及び１８は、それぞれ実施例
１，２，３．４及び５に対応する組成成分の保護膜にお
いて、この発明の組成条件に対して酸素が過剰に存在す
る場合である。即ち、比較例２，６，１０．１４及び１
８における保護膜の膜厚はいずれも２０００Ｘで、この
発明の膜厚条件を満足している。しかしいずれの比較例
も保護膜の組成は、それぞれＧｄＯ，，５，Ｔｂ０，５
．　Ｄｙ０，５　＋Ｈｏｅ、、５及びＹｂ０１５であり
、ｘ　＝　１．５であってこの発明の組成条件０．６　
＜ｘ　＜１．３を満足していない。

これらの比較例においては、この過剰な酸素が光磁気記
録媒体層の形成時に、光磁気記録媒体層内に混入するた
めに、光磁気ディスクの光磁気記録再生特性が劣化して
いる。

発明者等が実測した初期Ｃ／Ｎ比及び経時Ｃ席比は、比
較例２に対して４１　（ｄＢ）及び２２（ｄＢ）、比較
例６に対して４１　（ｄＢ）及び２０　（ｄＢ）　、比
較例１０に対して４２　（ｄＢ）及び２２　（ｄＢ）　
、比較例１４に対して４２てｄＢ）及び２１　（ｄＢ）
　、比較例１８に対して４］（ｄＢ）及び２２　（ｄＢ
）でちる。

いずれの比較例においても長期の耐久性に劣り９蝋した
光磁気記録再生特性を有する光磁気ディスクが得られて
いない。これは、過剰な酸素が光磁気記録媒体層の形成
時に光磁気記録媒体層内に混入するため、光磁気ディス
クの光磁気記録再生特性が劣化しているためである。ま
たこれらの比較例においては、過剰な酸素の存在によっ
て光磁気記録媒体層の成膜工程において所望の真空度へ
の到達時間が延長し、光磁気ディスクの生産性が低下す
るという難点もある。

比較例３，７，１１，１５及び１９は、保護膜の組成が
それぞれＧｄ０１ｏ、　Ｔｂ○ｉ、ｏ　ｌ　Ｄｙ０１．
０１１（ｏＯｔ。、及びＹｂＯ，、。であシ、この発明
の組成条件を満足しているが、保護膜の膜厚がいずれも
５００Ｘであって、この発明の膜厚条件を満足せずに膜
厚が薄い場合である。

これらの各実施例に対して発明者等の実測した初期Ｃ，
ＩＮ比及び経時Ｃ席比は、比較例３については４８　（
ａＢ）及び３３　（ｄＢ）　、比較例７については４９
　（ｄＢ）及び３２　（ｄＢ）　、比較例１１について
は５１　（ｄＢ）及び３４　（ｄＢ）　、比較例１５に
ついては５０（ｄＢ）及び３２（ｄＢ）、比較例１９に
ついては５１　（ｄＢ）及び３１　（ｄＢ）であり、い
ずれの比較例でも光磁気ディスクが充分な光磁気記録再
生特性を有していない。これは保護膜が５００Ｘと１０
００Å以下であるために、長時間使用状態での非通気性
及び非透湿性を維持することが出来ず、長時間の使用状
態で光磁気ディスクの光磁気記録再生特性が劣化してい
るためである。

比較例４，８，１２．１６及び２０は、保護膜の組成は
この発明の組成条件を満足しているが、保護膜の膜厚が
いずれも７０００Ｘであって、この発明の膜厚条件を満
足せず厚過ぎる場合である。

即ち、それぞれの比較例４，８，１２．１６及び２０に
おける保護膜の組成は、それぞれＧｄ０１ｏ。

’ｒｂｏ、、。ｌ　Ｄｙｅ、、。ｌ　Ｈｏｅｌｏ及びＹ
ｂＯ，。であり、いずれもこの発明の組成条件０．６＜
ｘ＜１．３を満足している。

これらの各比較例に対して発明者等の実測した初期Ｃ，
’Ｎ比及び経時Ｃ外孔は、それぞれ比較例４でば４２　
（ｄＢ）及び２３（ａＢ）、比較例８では４６（ｄＢ）
及び２２（ｄＢ）、比較例１２でば４３　（ｄＢ）及び
２８（ａＢ）、比較例１６では４２　（ｄＢ）及び２６
　（ｄＢ）、比較例２０でば４０（ｄＢ）及び２６　（
ｄＢ）であり、いずれの比較例も保護膜の膜厚が７００
０Ｘと厚過ぎるために、い比が全般的に低下し、光磁気
ディスクの光磁気記録再生特性が劣化している。

またこれらの比較例では、保護膜の膜厚が７０００Ｘと
厚い保護膜内における熱拡散が増大し、光磁気記録時に
おけるレーザ光の出力を増大させる必要が生じる場合も
ある。

第２表において、実施例６乃至１０及び比較例２１乃至
４０とし、その保護膜の組成、膜厚、初期Ｃ／Ｎ比及び
経時い比をそれぞれ示したのは、この発明の光磁気ディ
スクの実施例及びそれぞれの実施例に対応して組成上も
しくは膜厚上でこの発明の条件を満足しない比較例とし
ての光磁気ディスクである。

第２表に示すそれぞれの光磁気ディスクは、いずれも第
２図に示すような膜構成を有するものであり、透明基板
１上に、第１の保護膜３−１を形成し、この第１の保護
膜３−１上に光磁気記録媒体層２を形成し、この光磁気
記録媒体層２上に第２の保護膜３−２を形成した膜構成
のものである。

第２表に示す実施例６乃至１０は、いずれも保護膜の膜
厚が２０００Ｘであり、保護膜の組成はそれぞれ、Ｇｄ
０１．。、　Ｔｂ０１．。、　Ｄｙｅ、、。、　Ｈｏｅ
、、。及びＹｂ０１．。であって、膜厚の面でも組成の
面でもこの発明の条件を満足している。

発明者等が実測したこれらの実施例に対する初期ＣＡ比
及び経時Ｃハは、実施例６ではいずれも第　　２　　表第２表　、−・・−・５０　（ｄＢ）　、実施例７では５１　（ｄＢ）及び５
ｏ（ｄＢ）、実施例８ではいずれも４８　（ｄＢ）　、
実施例９ではいずれも４９（ｄＢ、）　、実施例１０で
ば５０　（ｄＢ）及び４９　（ｄＢ）であり、保護膜３
−１．３−２の存在によって長期の耐久性に優れ且つ安
定した光磁気記録再生特性を有する光磁気ディスクが得
られていることが確認される。

第２表の比較例２１．２５，２９．３３及び３７は、保
護膜の膜厚は２０００Ｘで発明の膜厚条件を満足してい
るが、それぞれの実施例に対応する組成がそれぞれＧｄ
０１１３．Ｔｂ００．３．Ｄｙｏｏ３．Ｈｏｏｏ３゜ｙ
ｂｏｏ、３であり、Ｘ＝０３であってこの発明の組成条
件を満足せず、酸素が発明の組成条件に対して不足して
いる場合である。

発明者等の実測したこれらの比較例に対する初期Ｃ／′
Ｎ比及び経時Ｃ／Ｎ比は、比較例２１では４９（ｄＢ）
及び３２　（ｄＢ）　、比較例２５では４９　（ｄＢ）
及び３１　（ｄＢ）　、比較例２９では４８　（ｄＢ）
及び３１（ｄＢ）、比較例３３では４７　（ｄＢ）及び
３１　（ｄＢ）、比較例３７でば４８　（ｄＢ）及び２
５　（ｄＢ）であり、いずれも長期の耐久性の面で劣シ
安定した光磁気記録再生特性を有する光磁気ディスクが
得られていない。

これらの比較例では、酸素がこの発明の組成条件に対し
て不足しているみ、−従、づて均質で透明な保護膜３−
１．３−２が得られていないために、長期の耐久性に優
れ安定した光磁気記録再生特性が得られない。

第２表中の比較例２２，２６，３０．３４及び３８ば、
保護膜の膜厚はいずれも２０００＾であってこの発明の
膜厚条件を満足しているが、保護膜３−１．３−２の組
成がそれぞれ、ＧｄＯ，，５，Ｔｂ０，５１Ｄｙ０１５
．Ｈｏ０１．５及びＹｂ０１，５であり、ｘ＝１．５で
あってこの発明の組成条件に対して酸素が過剰に存在す
る。

発明者等の実測によると、それぞれの比較例に対して得
られる初期Ｃ／ＩＮ比及び経時Ｃ／Ｎ比は、比較例２２
では、４２　（ｄＢ）及び２３（ｄＢ）、比較例２６で
は４２　（ｄＢ）及び２３　（ｄＢ）　、比較例３０で
は４２（ａＢ）及び２３　（ｄＢ）　、比較例３４では
４２　（ｄＢ）及び２１　（ｄＢ）　、比較例３８では
４　ｉ　（ｄＢ）及び２０　（ｄＢ）である。いずれの
比較例でも長期の耐久性の面で劣シ安定した光磁気記録
再生特性を有する光磁気ディスクは得られない。

これらの比較例では過剰な酸素が光磁気記録媒体層の形
成時に、光磁気記録媒体層内に混入するため、光磁気デ
ィスクの光磁気記録再生特性が劣化しているためである
。これらの比較例においては、過剰な酸素の存在によっ
て光磁気記録媒体層の成膜工程において、所望の真空度
への到達時間が延長し光磁気ディスクの生産性が低下す
るという難□点もある。

第２表の比較例２３．２７．３１．３５及び３９は、保
護膜の組成がそれぞれ、Ｇｄ０１．。、　Ｔｂ０１．。

。Ｄ’！０１．。＊　Ｈａ　Ｏ１，０及びＹｂＯ，、。で
あり、ｘ＝１．０であって組成上は、この発明の条件を
満足している。しかし、いずれの比較例も膜厚が５００
Ｘで、この発明の膜厚条件の下限値１０００Ｘ以下であ
るために、膜厚の面で、この発明の条件を満足していな
い。

発明者によシ測定された、これらの比較例に対する初期
い比及び経時Ｃ岸比は、比較例２３に対しては、４９　
（ｄＢ）及び３３　（ｄＢ）　、比較例２７に対しては
、５１　（ｄＢ）及び３３　（ｄＢ）　、比較例３１に
対しては４９　（ｄＢ）及び３２（ｄＢ）、比較例３５
に対しては５０（ｄＢ）及び３３　（ｄＢ）　、比較例
３９に対しては５０　（ｄＢ）及び３１　（ｄＢ）であ
り、いずれの比較例の光磁気ディスクも充分な光磁気記
録再生特性を有していない。

これは、保護膜が５００Ｘと発明の膜厚条件の下限値１
０００Ｘ以下であるために、長時間使用状態での非通気
性及び非透過性を維持することは出来ず、長時間の使用
状態では光磁気ディスクの光磁気記録再生特性が劣化し
ているためである。

比較例２４，２８．３２’、３６及び４０は、それぞれ
保護膜３−１．３−２の組成が、Ｇｄｏｌｏ。

Ｔｂ０１ｏ、Ｄｙ０１ｏ、Ｈｏ０１ｏ及びＹｂＯ４゜で
あシ、Ｘ＝１．０であってこの発明の組成条件を満足し
ている。

しかしいずれの比較例も保護膜の膜厚が７０００Ｘであ
り、この発明の膜厚条件の上限値５０００Ｘを越えてい
る。

これらの比較例に対して発明者等が実測して得た初期Ｃ
／′Ｎ比及び経時Ｃ／ＩＶ比は、それぞれ比較例２４に
対しては４３　（ｄＢ）及び２５　（ｄＢ）　、比較例
２８に対しては４１　（ｄＢ）及び２２（ｄＢ）、比較
例３２に対しては４３　（ｄＢ）及び２１　（ａＢ）　
、比較例３６に対しては４２　（ｄＢ）及び２０　（ｄ
Ｂ）　、比較例４０に対しては４０　（ｄＢ）及び２１
　（ｄＢ）である。いずれの比較例でも、保護膜３−１
．３−２が厚過ぎるために、Ｃ／Ｎ比が全般的に低下し
、光磁気ディスクの光磁気記録再生特性が劣化している
。一方、これらの実施例では、保護膜の膜厚が７０００
Ｘと厚いために、保護膜内における熱拡散が増大し、光
磁気記録時におけるレーザ光の出力を増大させる必要が
生じる。

第３表に実施例１１及び１２とこれらの実施例にそれぞ
れ対応する比較例４１乃至５２として、それぞれ保護膜
の組成、膜厚、初期Ｃ／’Ｎ比、及び経時い比を示した
のは、それぞれ第１図及び第２図に示すような膜構成の
光磁気ディスクでちる。

各実施例は、組成上及び膜厚上で、この発明の条件を満
足している光磁気ディスクであり、それ第　　３　　表ぞれの比較例は、組成上もしくは膜厚上でこの発明の条
件を満足していない光磁気ディスクである。

実施例１１と比較例４１乃至４４の光磁気ディスクは、
第１図に示すように厚さ１．２　ｒａｍのソーダガラス
の透明基板１上に、高周波スパツタリングの手段によ）
、直接ＴｂＱ、２１ＦｅＯ，５５ｃｏ０．２４なる組成
の光磁気記録媒体層２を膜厚１０００Ｘに形成し、この
光磁気記録媒体層２上に高純度酸素ガスを導入しながら
、高周波スパツタリングの手段によシ保護膜３を歪形成
した構成を有する。

また実施例１２と比較例４５乃至５２の光磁気ディスク
は、同様にして第２図に示すような膜構成を有し、光磁
気記録媒体層を挾むようにして保護膜３−１．３−２が
形成された構成を有する。

第３表中のいずれの実施例もしくは比較例においても、
記録周波数２　ＭＨｚ　（ＲＢＷ　３０　ｋＨｚ　）、
レーザパワー６　ｍＷで記録が行なわれ、再生レーザパ
ワー１　ｍＷで再生が行なわれた。記録直後に再生した
場合のＣ／Ｎ比が第３表中の初期ＣＡ比（ｄＢ）であシ
、光磁気ディスクを温度６０℃、９０％Ｒ）（雰囲気中
に１０００時間放置した後に再生を行なって得られたＣ
／Ｎ比が経時Ｃ州北である。

実施例１１及び１２は、いずれも組成がＹＯ，、。

の保護膜を膜厚２０００Ｘに形成した場合であり、ｘ＝
１．０であってこの発明の組成及び膜厚上の条件を満足
している。実施例１１は第１図に示すような単一保護膜
構成を有し、実施例１２は第２図に示すような二層保護
膜構成を有するものである。

またこれらの実施例にそれぞれ対応して、比較例４１乃
至４４は、第１図に示す一層保護膜構成を有し、比較例
４５乃至５２は、第２図に示す二層保護膜構成を有する
、発明者等の実測の結果得られた初期Ｃ／Ｎ比及び経時Ｃ
／Ｎ比は、実施例１１ではいずれも４８　（ｄＢ）であ
り、実施例１２ではいずれも５０　（ｄＢ）である。

いずれの実施例においても保護膜の存在により長期の耐
久性に優れ、安定した光磁気記録再生特性を有する光磁
気ディスクが得られていることが確認される。

比較例４１及び４５は、いずれも組成がＹＯｏ３の保護
膜を膜厚２０００Ｘに形成した場合であり、発明者等の
実測の結果得られたこれらの比較例に対する初期Ｃ／Ｎ
比及び経時Ｃ／／Ｎ比は、比較例４Ｉでば４７　（ｄＢ
）及び３５　（ｄＢ）　、比較例４５では、４７　（ｄ
Ｂ）及び３２　（ｄＢ）である。

これらの比較例はいずれも、ｘ　＝　０．３であって、
この発明の組成条件を満足せず、酸素が不足しているた
め、均質で透明な保護膜３で得られず、長期の耐久性の
面で劣シ、安定した光磁気記録再生特性が得られない。

比較例４２及び４６は、いずれも組成がＹｏｌ、５の保
護膜を膜厚２０００Ｘに形成した場合であり、発明者等
の実測の結果得られたこれらの比較例に対する初期Ｃ／
／′Ｎ比及び経時Ｃ州北は、比較例４２でば４１　（ｄ
Ｂ）及び２８　（ｄＢ）であり、比較例４６では４２　
（ｄＢ）及び２５　（ｄＢ）である。

これらの比較例は、いずれもｘ　＝　１．５　であって
この発明の組成条件に比して酸素が過剰に存在するため
、光磁気記録媒体層の形成時の過剰なＦ５　Ｍが光磁気
記録媒体層内に混入していて、光磁気ディスクの光磁気
記録再生特性が劣化している。またこれらの比較例にお
いては、過剰な酸素の存在によって光磁気記録媒体層の
成膜工程において所望の真空度への到達時間が延長し、
光磁気ディスクの生産性が低下するという難点もある。

比較例４３及び４７は、いずれも組成がＹＯｔ　。

の保護膜を膜厚５００Ｘに形成した場合であシ、ｘ＝１
．０であって組成上はこの発明の条件を満足しているが
、膜厚が５００Ｘとこの発明の膜厚条件の下限値の１０
００Ｘ以下で、発明の膜厚条件を満足していない。発明
者等が実測して得られたこれらの比較例に対する初期い
比及び経時い比は、比較例４３については、４７　（ｄ
Ｂ）及び３１　（ｄＢ）であシ、比較例４７については
４９　（ｄＢ）及び３２（ｄＢ）である。

これらの比較例では、保護膜の膜厚が発明の膜厚条件の
下限値以下で薄いために、長時間使用状態での非通気性
及び非透湿性を維持することは出来ず、長時間の使用状
態で光磁気ディスクの光磁気記録再生特性が劣化してい
る。

比較例４４及び４８は、いずれも組成がＹＯ１，。

の保護膜を膜厚７０００Ｘに形成した場合であり、ｘ　
＝　１．０であって組成上ではこの発明の条件を満足し
ているが、膜厚がこの発明の膜厚条件の上限値を越えて
厚過ぎる場合である。これらの比較例に対して発明者等
の実測した初期Ｃ／／′Ｎ比及び経時い比は、比較例４
４については４２　（ｄＢ）及び４０（ｄＢ）であり、
比較例４８については４１　（ｄＢ）及び３８　（ｄＢ
）である。

これらの比較例では、保護膜が厚過ぎるためにＣ／′Ｎ
比が全般的に低下し、光磁気ディスクの光磁気記録再生
特性が劣化している。また、これらの実施例では保護膜
が厚いために、保護膜内における熱拡散が増大し、光磁
気記録時におけるレーザ光の出力を増大させる必要が生
じる。

比較例４９及び５０は、いずれも組成がＳｉＯの保護膜
を第２図に示す膜構成で膜厚２０００ＸＫ形成した場合
である。これらの比較例に対して発明者等が実測して得
た初期Ｃ／’Ｎ比及び経時Ｃ／Ｎ比は、比較例４９では
、４９　（ｄＢ）及び２２（ｄＢ）、比較例５０では５
２　（ｄＢ）及び２６　（ｄＢ）である。このようにこ
の発明の保護膜の材質とは全く異なる材質のＳｔＯで保
護膜を形成すると、充分な光磁気記録再生特性が得られ
ず、この発明の材質が保護膜として優れた特性を有する
ことが明らかである。

比較例５１及び５２は、いずれも組成がＳ　ｌ　３Ｎ４
の保護膜を第２図に示す膜構成で膜厚２０００Ｘに形成
した場合である。これらの比較例に対して発明者等が実
測して得た初期ＣＡ比及び経時Ｃ／’Ｎ比は、比較例５
１についてば４９　（ｄＢ）及び２１（ｄＢ）、比較例
５２については５３　（ｄＢ）及び２６　（ｄＢ）であ
る。

このようにこの発明の保護膜の材質とは全く異なる材質
である５ｉｓＮａで保護膜を形成すると、充分な光磁気
記録再生特性が得られず、この発明の材質が保護膜とし
て優れた特性を有することが明らかである。

各実施例においては、透明基板１上に直接光磁気記録媒
体層２を形成し、この光磁気記録媒体層２上に保護膜３
を設けたものと、透明基板１上に保護膜３−１を形成し
、この保護膜３−１上に光磁気記録媒体層２を形成し、
光磁気記録媒体層２上に保護膜３−２を形成した構成の
ものとを説明した。

しかし、この発明の光磁気ディスクは、各実施例の構成
のものに限るものではなく、例えば光磁気記録媒体層２
の透明基板１と反対側の面に形成される保護膜上にさら
に紫外線硬化樹脂を塗布した構成のものも実現可能であ
る。

或は、この発明で構成される光磁気ディスクを対向配設
し、スペーサによシ対向空間を形成し、この対向空間内
に不活性ガスを充填した構成のものも実現可能である。

「発明の効果」以上詳細に説明したように、この発明によると透明基板
上に光磁気記録媒体層が形成される光磁気ディスクにお
いて、少なくとも光磁気記録媒体層の透明基板と反対側
の面に、組成がＭＯｘ（ＭはＧｄ＋　’ｒｂ　Ｉ　Ｄｙ
＋　Ｈｏ　、　ｙｂ及びＹから選択された一元素）で表
わされ、膜厚が１０００Ｘ乃至５０００Ｘの保護膜を形
成し、０．６≦ｘ≦１．３　　なる条件を設定すること
により、光磁気記録媒体層を非通気性及び非透湿性を維
持した状態で保護し、長期耐久性を有し、成膜工程が簡
単で優れた光磁気記録再生特性を有する光磁気ディスク
を提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図はそれぞれ、この発明の光磁気ディス
クの実施例の構成を示す断面図である。１：透明基板、２：光磁気記録媒体層、３゜３−１．３
−２：保護膜。

Claims

【特許請求の範囲】

透明基板上に光磁気記録媒体層が形成され、この光磁気
記録媒体層に光ビームを照射して情報の書き込み及び読
み出しを行なう光磁気ディスクにおいて、少なくとも前
記光磁気記録媒体層の前記透明基板と反対側の面に、組
成がＭＯ＿ｘ（ＭはＧｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｙｂ及び
Ｙから選択された一元素）で表わされ、膜厚が１０００
Å乃至５０００Åで前記光磁気記録媒体層を保護する保
護膜が形成され、前記ｘが０．６≦ｘ≦１．３に選定さ
れてなることを特徴とする光磁気ディスク。