JPS6246485A - 半導体回路 - Google Patents

半導体回路

Info

Publication number
JPS6246485A
JPS6246485A JP60184242A JP18424285A JPS6246485A JP S6246485 A JPS6246485 A JP S6246485A JP 60184242 A JP60184242 A JP 60184242A JP 18424285 A JP18424285 A JP 18424285A JP S6246485 A JPS6246485 A JP S6246485A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
transistors
emitter
fuse
base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60184242A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Nanbu
南部 博昭
Kunihiko Yamaguchi
邦彦 山口
Noriyuki Honma
本間 紀之
Kazuo Kanetani
一男 金谷
Masaaki Matsumoto
真明 松本
Kazuhiko Tani
和彦 谷
Kenichi Ohata
賢一 大畠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Device Engineering Co Ltd, Hitachi Ltd, Hitachi Consumer Electronics Co Ltd filed Critical Hitachi Device Engineering Co Ltd
Priority to JP60184242A priority Critical patent/JPS6246485A/ja
Priority to US06/893,930 priority patent/US4733372A/en
Publication of JPS6246485A publication Critical patent/JPS6246485A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、バイポーラECL  RAMに係り、特に、
回路の部分的な欠陥に対して、これを救済す之冗長行(
列)を有しfcRAMの高集積化に好適な半導体回路に
関する。
〔発明の背景〕
従来、冗長行(列)を有するバイポーラECLRAMの
欠陥救済は、例えば、アイ・ニス・ニス・シー・シー・
ダイジェストオブテクニカルペーパー(l58CCDi
gest of Technical Paper)第
48頁〜第49頁21985.2におけるOkajim
a他による1冗長行を有する64Kb  ECL  R
AM’と題する文献において論じられているように、欠
陥のある行(列)に対応するアドレスを記憶するFRO
M及び入力されたアドレスと上記FROMに記憶された
アドレスを比較し、一致した時に、欠陥のある行(列)
を非選択状態にし、かつ冗長行(列)を選択状態に駆動
するコンベア・ゲートを設けて行っている。この方法は
、例えば、入力アドレスの数がm個、冗長行(列)の数
をn個とすると、合計量)<nのアドレス・データをF
ROMで記憶する必要があり、この280Mは、モノリ
シック・ラッグ上に多くの面積を占め、メモリLSIの
高集積化の点について考慮されていなかった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、冗長行(列)を有するバイポーラEC
L  RAMのチップ面積の増加を極めて小さくできる
欠陥救済回路を提供することにある。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するために、本発明では、上記FROM
を不要とし、その代わシに、上記コンベア・ゲート内に
フユーズを付加している。したがって、チップ面積の増
加は、上記7ユーズを付加した分のみであり、極めて小
さくできる。
〔発明の実施例〕
以下、本発明を実施例によって詳しく説明する。
第1図は、本発明の基本概念を説明するための第1の実
施例を示す図であシ、抵抗R1と、アドレス入力信号V
nr1がベースに印加されるト−)/ジスタQ、 、 
Q、と、参照電位V nがベースに印加されるトランジ
スタQ、、Q、と、抵抗R1゜R4がそれぞれエミッタ
に接続されるトランジスタQs 、 Q−で構成され、
欠陥のある行(列)を非選択状態にし、冗長行(列)を
選択状態にする信号をトランジスタQ1のコレクタから
取シ出すようにしたコンベアゲートにおいて、トランジ
スタQs 、 Q@のベースと定電圧源V csとの間
に、それぞれフユーズFs−Pm及びベース、エミッタ
間に、それぞれ高抵抗R* 、 R@を付加している。
今、7ユーズFs、F雪が導通していると、トランジス
タQs 、 Qaのベースは定電圧源Yesと接続され
るため、共にオンし、それぞれトランジスタQs 、Q
s及びトランジスタQ、、Q、で構成されるカレントス
イッチに一定電流を供給する。ここで、アドレス入力信
号Vl)IIが高レベルの時は、上記カレントスイッチ
のトランジスタQ。
及びQ、がオンし、トランジスタQ@に流れる電流は、
トランジスタQ1を通して抵抗R1に流れ、出力Vo+
は低レベルとなる。一方、入力信号Vt*sが低レベル
の時は、トランジスタQ@の電流が、トランジスタQ1
.を通して抵抗RtK流れ、出力VOIはやはシ低レベ
ルとなる。今、欠陥のある行(列)に対応するアドレス
入力信号V 181のレベルが高レベルであシ、このレ
ベルが入力された時、欠陥行(列)を非選択にし、冗長
行(列)を選択切断すればよい。この時、トランジスタ
Q、に定電圧源Va@からベース電流が供給されないた
め、Qaはカットオフし、トランジスタQ、、Qsで構
成されるカレントスイッチには電流が供給されない。こ
のため、アドレス入力信号V or+が低レベルの時は
、前述した如く、出力Vo+は低レベルとなるが、入力
信号VINIが高レベルの時は、出力Vo+は高レベル
となる。また、欠陥のある行(列)K対応するアドレス
入力信号Vl)11のレベルが低レベルである場合、フ
ユーズF1を切断すればよいことは、回路の対称性から
明らかである。なお、ここで抵抗几1.R−は、フユー
ズF!、F黛を切断した時、トランジスタQs 、Qs
 のベース電位をエミッタと同電位となるようにし、ベ
ース電位がフローティングになるのを防止するために付
加しているものであり、必ずしも必要ではない。
第2図は、本発明の基本概念を示す第2の実施例であシ
、第1図の例では、フユーズFs 、 F!をトランジ
スタQ、、Q、のベースに付加していたのに対し、第2
図の例では、フユーズFs、F*をトランジスタQl 
、 Q、のエミッタに付加している点だけが異なる。こ
の例の場合も、フユーズF1またはF!を切断すると、
トランジスタQ。
またはQ@がカットオフするので、その後の回路動作は
、第1図の例の場合と全く同様となる。
第3図は、本発明の基本概念を示す第3の実施例であり
、第1図、第2図の実施例は、欠陥行(列)に対応する
アドレス入力信号VIN+が入力された時、欠陥行(列
)を非選択にし、冗長行(列)を選択状態にするために
、出力Vo+を高レベルにするための例であったのに対
し、第3図の実施例は、上記例とは逆に、上記出力Vo
+を低レベルにするための例である。このため、第1図
の例では、フユーズF+ 、FりをトランジスタQ、、
Q@のベースと定電圧源Vcgとの間に付加していたの
に対し、第3図の例では、フユーズF1.F! をトラ
ンジスタQi 、Qsのベースと電源VEXとの間に付
加している。ここで抵抗几m 、 Ry 及びRa。
几、は、フユーズF+、Ftが導通している時、トラン
ジスタQs 、Q、のベース電圧をVC++よりも低く
シ、トランジスタをカットオフするためのレベルシフト
用抵抗である。よって、第3図の例の如くフユーズを付
加すると、第1図、第2図の例の場合とは逆に、フユー
ズF+、Fsが導通している時は、トランジスタQ、、
Q、がカットオフし、トランジスタQ、、Qs及びQs
 、 Q、で構成されるカレントスイッチに電流が供給
されず、アドレス信号VINIがどのようなレベルにあ
ろうとも、出力Vo+は高レベルとなる。一方、フユー
ズF、を切断した時は、トランジスタQ、がオンし、入
力信号VrN+が高レベルの時、出力VOIを低レベル
にでき、また7ユーズF宜を切断した時は、トランジス
タQ−がオンし、入力信号VIN+が低レベルの時、出
力Vo+を低レベルにできる。
第4図は、本発明の基本概念を示す第4の実施例であり
、第1図の例では、トランジスタQi 。
Qsのエミッタに、それぞれ抵抗’ELs 、 R−を
設けていたのに対し、第4図の例では、トランジスタQ
、、Q−のエミッタに電流源工!を共通に接続している
点だけが異なる。この例の場合も、フユーズF1または
Fzを切断すると、トランジスタQ1またはQ−がカッ
トオフするので、その後の回路動作は第1図の場合と全
く同様となる。
第5図は、本発明の基本概念を示す第5の実施例であり
、第4図の例では、フユーズFt 、 Fsをトランジ
スタQs 、 Q−のベースに付加していたのに対し、
第5図の例では、フユーズF’、、Flをトランジスタ
Q、 、 Q・のエミッタに付加している点だけが異な
シ、回路動作は、第4図の例と全く同様となる。
第6図は、本発明の第6の実施例を示す図であり、第1
図、第4図に示した如く、トランジスタのベースにフユ
ーズを付加し、ベース、エミッタ間に抵抗を付加する方
法を示したレイアウト図である。この図で、TRはトラ
ンジスタ、Eはエミッタ、Bはベース、Cはコレクタ、
几は抵抗、CNTはコンタクト、Mは配線用金属を示し
ている。ここでFで示した部分がフユーズであり、配線
用金属をそのまま利用している。
第7図は、本発明の第7の実施例を示す図であシ、第6
図の例と同様、トランジスタのベースにフユーズヲ付加
し、ベース、エミッタ間に抵抗を付加する方法を示した
レイアウト図である。第6図の例ではフユーズFを配線
用金属で作っていたのに対し、第7図の例では、フユー
ズFをポリシリコンpsで作っている。
第8図は、本発明の第8の実施例を示す図であり、第2
図、第5図を示した如く、トランジスタのエミッタにフ
ユーズを付加し、ベース、エミッタ間に抵抗を付加する
方法を示したレイアウト図である。ここでフユーズFは
、第6図の例と同様、配線用金属をそのまま利用してい
る。
第9図は、本発明の第9の実施例を示す図であり、第8
図と同様、トランジスタのエミッタにフユーズを付加し
、ベース、エミッタ間に抵抗を付加する方法を示したレ
イアウト図である。ここでフユーズFは、第7図の例と
同様、ポリシリコンPSで作っている。
第10図は、本発明の第10の実施例を示す図であり、
第3図に示した如く、トランジスタのベースに抵抗及び
フユーズを付加する方法を示したレイアウト図である。
ここで7ユーズFは、第6図との例と同様、配線用金属
をそのまま利用している。
第11図は、本発明の第11の実施例を示す図であシ、
第10図と同様、トランジスタのベースに抵抗及びフユ
ーズを付加する方法を示したレイアウト図である。ここ
でフユーズFは、第7図との例と同様、ポリシリコンP
Sで作っている。
第12図は、本発明の第12の実施例であり、第1図に
示したフユーズF、またはFlの切断を電気的に実現す
る方法を示している。ここで、レベルシフト回路LS+
 、l1ssはそれぞれ入力信号VxN+s参照電位v
IIBを同じだけレベルシフトし、トランジスタQy 
、Q、のベースに供給している。
9・1”90″1″″″#LJ″&1・*ll@ff1
UJ)     。
KNE+67)”y、<A”1”VINI OV < 
k25(X Ly     。
ベルであシ、フユーズF1 を切断したい場合は、  
     :[ 入力信号VINIを高レベルにし、フユーズ切断用人 
      L力信号v!町を高レベルにする。この時
、トランク       1スタQ、 、 Q・がそれ
ぞれオンし、フユーズF1       ;に電流が流
れる。ここで、この電流の大きさを、入力信号7・・・
0″′″“及び抵抗孔・0大きさを調      1節
し、7ユーズを切断するのに最適な値に設定しておくと
、フユーズF、はただちに切断される。
第13図は、本発明の第13の実施例であり、第12図
の例と同様、第1図に示したフユーズF、またはF、の
切断を電気的に実現する方法を示している。第13図の
例では、第12図に示したトランジスタQ1、抵抗Rγ
で構成される電流源を取り除き、フユーズ切断用入力信
号端子Vy*から直接電流を引くようにしている。この
ようにすると、トランジスタQ@、抵抗孔、が不要にな
る分、回路が簡単化できる。
第14図は、本発明の第14の実施例を示す図でラシ、
アドレスバッファA+ a As 、7’コーダ線D1
〜D4、行(列)駆動回路D RI−D R4、及び冗
長行(列)駆動回路DRiからなる冗長性を有するバイ
ポーラECL  RAMの行(列)選択駆動回路に、本
発明を適用したコンベア・ゲートを付加し、欠陥救済を
可能にしている。以下、具体的な例を示しながら、欠陥
救済の方法を説明する。まず、各信号の電位レベルを第
15図に示す如く設定する。第14図において、アドレ
スバッファA* 、As K入力されるアドレス入力信
号の論理レベルをそれぞれX、Yとすると、デコーダ線
Ds〜D4の論理レベルはそれぞれX、X、Y。
Yとなる。今、7ユーズFtts Ftts Fats
 Fl!が全、夕に、コンベア・ゲート出力V 01 
# Vowは共に高レベルとなシ、これらをワイプド・
オアした参照電位Vm■、も高レベルとなる。この参照
電位’busの高レベルは、第15図に示した如く、デ
コーダ線DI−yD4ノ高レヘルト低レベルの中間のレ
ベルであるため、行(列)駆動回路D RI−D R4
は、デコーダ線D s = D−の論理レベルに応じて
切り換わシ、お(剤□1す、信号2.〜24゜1□76
      :′126ゝ“・87・ゝ“・ゝ786・
−1i゛*a’t″Vmms17)*L/<klfi、
 @ 151gK1 L    また如く、参照電位V
l14のレベルよりも高いレベル7あ、えゎ、ワ□。、
)3□ゎ8.。ヵヵ    :(!、、、zsゆ8よ、
(よ7.2)よヶ、、エヵ    )えば、信号Z、が
駆動する行(列)に欠陥が6つたとすると、フユーズF
tt、 Fuを切断する。このようにすると、第3図の
実施例で説明したように、欠陥行(列)に対応するアド
レス信号(今の場合X−高レベル、Y=高レベル)が入
力された時のみ、コンベアΦゲート出力Vos # V
owが共に低レベルとなシ、参照電位Vmmsが低レベ
ルとなる。この参照電位Vansの低レベルは、第15
図に示した如く、デコーダ線D1〜D4の低レベル及び
参照電位V!l、14よシも低いレベルであるため、行
(列)駆動回路D RI−D R−の出力信号Z1〜Z
4は全てL(低レベル)、冗長行(列)駆動回路DR1
の出力信号Zsは高レベルとなる。すなわち、信号Z1
と信号ZIが入れ換わり、欠陥行(列)を冗長行(列)
と取シ換えることができる。また、信号Z t−Z s
が駆動するいずれか1つの行(列)に欠陥があった場合
も、これを冗長行(列)と取り換えることができる。表
1に、それぞれ信号Z、〜Z4が駆動する行(列)に欠
陥があった場合に、切断するフユーズ、及びその時の信
号Z l−Z sの論理レベルをまとめて示す。
なお、本実施例では、冗長行(列)が1行(例)の場合
について示しているが、冗長行(列)が2行(列)以上
の場合については、コンベア・ゲート及び冗長行(列)
を駆動する駆動回路DRsを複数個設けることにより、
上記議論が単純に拡張できる。また本実施例では、アド
レスバッファが2個の場合について示しているが、アド
レスバッファが3個以上の場合についても、上記議論が
単純に拡張できる。以上述べたように、本実施例によれ
ば、大きな面積を占めるFROMを設けず、その代わり
にコンベア・ゲート内に面積の小さいフユーズを付加す
るだけで、欠陥救済が実現できるため、チップ面積の増
加を極めて小さくできる。
第16図は、本発明の第15の実施例を示す図であり、
第14図の例とは、フユーズの挿入箇所と、第14図の
例では、フユーズは最初導通しており、欠陥救済を行う
時、切断するタイプのフユーズであったのに対し、第1
6図の例では、フユーズは最初非導通であり、欠陥救済
を行う時、導通させるタイプのフユーズである点のみが
異なる。
よって、本実施例でも、第14図の例と同様の効果が得
られる。
第17図は、本発明の第16の実施例を示す図であり、
第14図、第16図の実施例では、欠陥行(列)に対応
するアドレス信号が入力された時、コンベア・ゲートの
出力を低レベルにしたのに対し、第17図の実施例では
、第1図の実施例と同様上記出力を高レベルにしている
。すなわち、欠陥(列)に対応するアドレス信号が入力
された時、参照電位VB114が■11より高くなるた
め、行(列)駆動回路DR,−DR,内に付加したトラ
ンジスタQ1゜4及び冗長行(列)駆動回路内のトラン
ジスタQ1.!がオンし、出力信号Z l” Z 4が
低レベル、信号ZIが高レベルとなり、欠陥行(列)を
冗長行(列)と取シ換えることができる。よって本実施
例でも、第14図と同様の効果が得られる。
第18図は、本発明の第17の実施例を示す図であり、
第17図の例では、コンベア・ゲートの出力を行(列)
駆動回路DR+−DR4内に付加したトランジスタQI
04のベースに入力していたのに対し、第18図の例で
は、上記出力をデコーダ線D+ 、D*に接続し、ワイ
アド・オア論理をとっている点のみが異なる。よって、
本実施例でも、第17図の例と同様の効果が得られる。
〔発明の効果〕
以上述べてきたように、本発明によれば、冗長行(列)
を有するバイポーラECL  RAMの欠陥救済を、チ
ップ上に多くの面積を占めるFROMを使用せず、コン
ベア・ゲート内に面積の極めて小さ“フ″″−′を付加
するだけで実現できるので・      1チップ面積
の増加を極めて小さくできる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図、第4図、第5図は、本発明の
基本概念を説明するための第1、第2、第3、第4、第
5の実施例を示す回路図、第6図、第7図・第8図・第
91・第100・第11図は・     :本発明の第
6、第7、第8、第9、第10、第11の実施例を示す
レイアウト図、第12@、第13図、第14図は、本発
明の第12、第13、第14の実施例を示す回路図、第
15図は、信号の電位レベルを示した図、第16図、第
17図、第18図は、本発明の第15、第16、第17
の実施例を示す回路図である。 R+・・・第1の負荷、QI・・・第1のトランジスタ
、Q3・・・第2のトランジスタ、Qs・・・第3のト
ランジスタ、Q4・・・第4のトランジスタ、Q@・・
・第5のトランジスタ、Q、・・・第6のトランジスタ
、Rs・・・第3の負荷、R4・・・第4の負荷、Fr
a F*・・・フユーズ、VtNt・・・入力信号、V
mm+・・・参照電位、第 4  図 罫  5 図 第5図 第7図 4g図 rq図 石 10  図 罵 11   図 ”I       n T313図 ■14図 百/乙図 VJ/7図 ■ 1g 図 ;1頁の続き )発 明 者  金 谷   −男  国分寺市東恋ケ
窪1丁央研究所内 )発 明 者  松 本   真 明  国分寺市東恋
ケ窪1丁央研究所内 )発 明 者  谷     和  彦  茂原市早野
3681番地会社内 )発 明 者  大 畠   賢 −茂原市早野368
1番地会社内

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1の負荷にコレクタが接続され、ベースにそれぞ
    れ、入力信号、参照電位が印加される第1、第2のトラ
    ンジスタと、電圧源(または、第2の負荷)にコレクタ
    が接続され、ベースにそれぞれ上記参照電位、入力信号
    が印加され、エミッタがそれぞれ第1、第2のトランジ
    スタのエミッタに接続された第3、第4のトランジスタ
    と、コレクタがそれぞれ第1、第2のトランジスタのエ
    ミッタに接続され、エミッタが電流源または、それぞれ
    第3、第4の負荷に接続された第5、第6のトランジス
    タとで構成され、出力を第1(または第3)のトランジ
    スタのコレクタから取り出すようにしたコンベア・ゲー
    トにおいて、上記第5、第6の少なくとも一方のトラン
    ジスタのベースまたはエミッタにフユーズを付加したこ
    とを特徴とする半導体回路。 2、特許請求の範囲第1項記載の半導体回路において、
    上記フユーズは多結晶シリコンからなることを特徴とす
    る半導体装置。 3、第1の負荷にコレクタが接続され、ベースにそれぞ
    れ、入力信号、参照電位が印加される第1、第2のトラ
    ンジスタと、電圧源(または、第2の負荷)にコレクタ
    が接続され、ベースにそれぞれ上記参照電位、入力信号
    が印加され、エミッタがそれぞれ第1、第2のトランジ
    スタのエミッタに接続された第3、第4のトランジスタ
    と、コレクタがそれぞれ第1、第2のトランジスタのエ
    ミッタに接続され、エミッタが電流源または、それぞれ
    第3、第4の負荷に接続された第5、第6のトランジス
    タとで構成され、出力を第1(または第3)のトランジ
    スタのコレクタから取り出すようにしたコンベア・ゲー
    トにおいて、上記第5、第6の少なくとも一方のトラン
    ジスタのベース及びエミッタ間にフユーズを付加したこ
    とを特徴とする半導体回路。 4、特許請求の範囲第3項記載の半導体回路において、
    上記フユーズは多結晶シリコンからなることを特徴とす
    る半導体回路。
JP60184242A 1985-08-23 1985-08-23 半導体回路 Pending JPS6246485A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60184242A JPS6246485A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 半導体回路
US06/893,930 US4733372A (en) 1985-08-23 1986-08-06 Semiconductor memory having redundancy

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60184242A JPS6246485A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 半導体回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6246485A true JPS6246485A (ja) 1987-02-28

Family

ID=16149867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60184242A Pending JPS6246485A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 半導体回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6246485A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5692574A (en) * 1994-07-12 1997-12-02 Makita Corporation Vibrating tool and a vibration isolating ring

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5692574A (en) * 1994-07-12 1997-12-02 Makita Corporation Vibrating tool and a vibration isolating ring

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930006843B1 (ko) 반도체 집적회로
US4660179A (en) Semiconductor memory device with switching for redundant cells
JPH1022810A (ja) 低電圧技術による高い電圧の振れを出力するバッファ
KR930024021A (ko) 반도체 메모리 장치의 컬럼 리던던시
KR920013478A (ko) 스태틱형 반도체 기억장치
JPS6028261A (ja) 半導体記憶装置
US4587639A (en) Static semiconductor memory device incorporating redundancy memory cells
JP3354231B2 (ja) 半導体装置
JPH07260874A (ja) 半導体装置及びその試験方法
JPS60170100A (ja) Cmos半導体集積回路
KR920018764A (ko) 반도체 집적회로장치에서 실행되는 전류구동신호 인터페이스
JPS6246485A (ja) 半導体回路
US6269033B1 (en) Semiconductor memory device having redundancy unit for data line compensation
JPH029087A (ja) BiCMOS書込み回復回路
EP0083229B1 (en) Semiconductor memory device
JPS61292296A (ja) 半導体記憶装置
KR940018985A (ko) 테스트 회로를 갖는 반도체 메모리 장치(Semiconductor Memory Device Having Test Circuit)
JPS62165788A (ja) 半導体集積回路装置
JP2548737B2 (ja) ドライバ回路
JPH04212784A (ja) 半導体記憶装置
JPS6350799B2 (ja)
JPH06101522B2 (ja) 半導体回路
JPS6158254A (ja) 半導体集積回路装置
KR970051419A (ko) 반도체 메모리 장치의 로우 리던던시 회로
SU1310896A1 (ru) Запоминающее устройство