JPS6246428A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6246428A JPS6246428A JP18568185A JP18568185A JPS6246428A JP S6246428 A JPS6246428 A JP S6246428A JP 18568185 A JP18568185 A JP 18568185A JP 18568185 A JP18568185 A JP 18568185A JP S6246428 A JPS6246428 A JP S6246428A
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- Japan
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- layer
- magnetic recording
- recording medium
- magnetic
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- Pending
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
及呈上立［１分互
本発明は磁気記録媒体に関し、特に磁気記録媒体の記録
の保護、即ち磁気ディスク、磁気ドラム等に保護膜を設
けることに関する。
の保護、即ち磁気ディスク、磁気ドラム等に保護膜を設
けることに関する。
の び 日が しようとする、 々磁気ディスク
装置、磁気ドラム装置における磁気記録媒体は磁気ヘッ
ドとの機械的接触に対する耐摩耗性或いは耐候性、耐食
性の点で問題があり。
装置、磁気ドラム装置における磁気記録媒体は磁気ヘッ
ドとの機械的接触に対する耐摩耗性或いは耐候性、耐食
性の点で問題があり。
そのため通常これらの磁気記録媒体には保護膜が施され
る。そして、この保護膜は、皮膜の平滑性、均一性、耐
摩耗性、耐食性等が要求されるほかに、その厚さが薄い
こと、即ち薄膜であることが必要である。
る。そして、この保護膜は、皮膜の平滑性、均一性、耐
摩耗性、耐食性等が要求されるほかに、その厚さが薄い
こと、即ち薄膜であることが必要である。
従来、磁気ディスク、磁気ドラム等の磁気記録媒体の保
護膜として、無機保護層、或いはさらにその上に固体潤
滑剤等の潤滑層（保護層）を設けることが知られており
、該無機保護層として、ロジウム（Ｒｈ）、クローム（
Ｃｒ）（特公昭５２−１８００１号公報）、ニッケルー
リン（Ｎ ｔ −Ｐ）（特公昭５４−３３７２６号公報
）、その他レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（○ｓ）、ル
テニウム（Ｒｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ
）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）（特公昭５７−
６１７７号公報）、及びニッケルークロム（Ｎｉ−Ｃｒ
）（特公昭５７−１７２９２号公報）等が用いられ、又
、固体潤滑剤としては無機、有機の潤滑剤、例えば硅素
化合物、例えば二酸化シリコン（Ｓｉ０２）、酸化シリ
コン（Ｓ ｉｏ）、窒化シリコン（Ｓｉ４Ｎ４）等（特
公昭５４−３３７２６号公報）、ポリ硅酸もしくはシラ
ンカップリング剤、例えばテトラヒドロキシシラン、ポ
リアミノシラン等（特公昭５９−３９８０９号公報）及
びカーボン等が使用されている。
護膜として、無機保護層、或いはさらにその上に固体潤
滑剤等の潤滑層（保護層）を設けることが知られており
、該無機保護層として、ロジウム（Ｒｈ）、クローム（
Ｃｒ）（特公昭５２−１８００１号公報）、ニッケルー
リン（Ｎ ｔ −Ｐ）（特公昭５４−３３７２６号公報
）、その他レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（○ｓ）、ル
テニウム（Ｒｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ
）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）（特公昭５７−
６１７７号公報）、及びニッケルークロム（Ｎｉ−Ｃｒ
）（特公昭５７−１７２９２号公報）等が用いられ、又
、固体潤滑剤としては無機、有機の潤滑剤、例えば硅素
化合物、例えば二酸化シリコン（Ｓｉ０２）、酸化シリ
コン（Ｓ ｉｏ）、窒化シリコン（Ｓｉ４Ｎ４）等（特
公昭５４−３３７２６号公報）、ポリ硅酸もしくはシラ
ンカップリング剤、例えばテトラヒドロキシシラン、ポ
リアミノシラン等（特公昭５９−３９８０９号公報）及
びカーボン等が使用されている。
しかしながら、これらの従来の保護膜特に無機保護層に
使用される金肩或いは合金はいまだその磁気記録媒体の
耐摩耗性及び耐候性或いは耐食性を充分に改善するもの
とは言えず、さらにすぐれた保護膜の出現が強く望まれ
ていた。
使用される金肩或いは合金はいまだその磁気記録媒体の
耐摩耗性及び耐候性或いは耐食性を充分に改善するもの
とは言えず、さらにすぐれた保護膜の出現が強く望まれ
ていた。
い を するための
本発明者等は前記の点を改善すべく鋭意研究の結果、磁
気記録媒体、特にハードディスク型磁気記録媒体におい
て、磁気記録層の保護膜の無機保護層として特定の合金
からなる保護層を採用することにより上記の問題点が解
決できることを見出し５本発明に到達したものである。
気記録媒体、特にハードディスク型磁気記録媒体におい
て、磁気記録層の保護膜の無機保護層として特定の合金
からなる保護層を採用することにより上記の問題点が解
決できることを見出し５本発明に到達したものである。
即ち、本発明は非磁性基体に金属薄膜磁性層。
該磁性層上に無機保護膜が設けられてなる磁気記録媒体
において、該無機保護層がＣｏ −Ｎ ｉ −Ｃｒ −
Ｗを主要な成分とする合金からなるものであることを特
徴とする磁気記録媒体に関する。
において、該無機保護層がＣｏ −Ｎ ｉ −Ｃｒ −
Ｗを主要な成分とする合金からなるものであることを特
徴とする磁気記録媒体に関する。
本発明で用いるＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｗ合金はその組成を
Ｎｉ：８〜２５重量％、Ｃｒ：１５〜２５重量％、Ｗ：
１０〜２０重量％、微量成分：１０重量％以下、ｃｏ＝
残部とすることができ、前記の組成のものでは耐食性お
よび耐摩耗性の点で満足のいくものが得られる。
Ｎｉ：８〜２５重量％、Ｃｒ：１５〜２５重量％、Ｗ：
１０〜２０重量％、微量成分：１０重量％以下、ｃｏ＝
残部とすることができ、前記の組成のものでは耐食性お
よび耐摩耗性の点で満足のいくものが得られる。
これらのＣｏ −Ｎ ｉ −Ｃｒ −Ｗ合金の保護層は
非磁性基体に形成された金属薄膜磁性層上にスパッタリ
ング、真空蒸着、イオンブレーティング、メッキ等の付
着法により形成される。
非磁性基体に形成された金属薄膜磁性層上にスパッタリ
ング、真空蒸着、イオンブレーティング、メッキ等の付
着法により形成される。
本発明で使用される非磁性基体は例えば、アルミニウム
、アルミニウム合金等の金属、ガラス、セラミックス、
エンジニアリングプラスチックス等が使用されるが、通
常はアルミニウム或いはアルミニウム合金が、主として
価格、安定供給性の面から使用される。
、アルミニウム合金等の金属、ガラス、セラミックス、
エンジニアリングプラスチックス等が使用されるが、通
常はアルミニウム或いはアルミニウム合金が、主として
価格、安定供給性の面から使用される。
アルミニウム或いはアルミニウム合金基体の表面に陽極
酸化被膜或いはニッケルリンメッキ膜等の薄膜を設ける
事により機械的剛性、硬度、加工性を上げる事もできる
。
酸化被膜或いはニッケルリンメッキ膜等の薄膜を設ける
事により機械的剛性、硬度、加工性を上げる事もできる
。
また金属クロム層を非磁性基体表面層として設けること
により、記録特性の信頼性の向上を図ることもできる。
により、記録特性の信頼性の向上を図ることもできる。
本発明の金属薄膜磁性層で用いられる磁性全屈あるいは
合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性
金属あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ％Ｃｏ−Ｎｉ、Ｇ
ｏ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ａｕ、Ｇｏ
−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ。
合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性
金属あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ％Ｃｏ−Ｎｉ、Ｇ
ｏ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ａｕ、Ｇｏ
−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ。
Ｃｏ−Ｙ、Ｇｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ
−８ｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｄ、
Ｍｎ−Ｂ１．Ｍｎ−５ｂ、Ｍｎ−Ａｌのような磁性合金
を挙げることができる。
−８ｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｄ、
Ｍｎ−Ｂ１．Ｍｎ−５ｂ、Ｍｎ−Ａｌのような磁性合金
を挙げることができる。
これらのうち、Ｃｏ−Ｎｉ合金が好ましく、特にその成
分比はＣｏ：Ｎｉ＝１：１〜９：１であるものが好適で
ある。この範囲をはずれると記録特性が低下する。Ｃｏ
−Ｎｉ合金にＣｒを添加することにより、更に優れた特
性が得られる。Ｃｒの添加量はＣｏ＋Ｎｉの０．１〜２
５％が好ましい、０．１％以下では効果が明確でなく、
２５％以上では記録特性が低下する。
分比はＣｏ：Ｎｉ＝１：１〜９：１であるものが好適で
ある。この範囲をはずれると記録特性が低下する。Ｃｏ
−Ｎｉ合金にＣｒを添加することにより、更に優れた特
性が得られる。Ｃｒの添加量はＣｏ＋Ｎｉの０．１〜２
５％が好ましい、０．１％以下では効果が明確でなく、
２５％以上では記録特性が低下する。
また、Ｇ ｏ −Ｃｒ合金も好ましく、特にその成分比
はＣｏ ： Ｃｒ＝７ ： ３〜９ ： １であるもの
が好適である。この範囲をはずれると記録特性が低下す
る。
はＣｏ ： Ｃｒ＝７ ： ３〜９ ： １であるもの
が好適である。この範囲をはずれると記録特性が低下す
る。
磁性金属薄膜は非磁性基体、即ちアルミ板、ステンレス
板等の金属板、ガラス板のような無機質の仮等の公知の
基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を介して、上記金
属又は合金を真空蒸着、スパッタリング、イオンブレー
ティング、メッキその他の方法で形成され得る。
板等の金属板、ガラス板のような無機質の仮等の公知の
基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を介して、上記金
属又は合金を真空蒸着、スパッタリング、イオンブレー
ティング、メッキその他の方法で形成され得る。
又、無機保護層の上に設ける固体潤滑層には。
従来公知の無機の潤滑剤が用いられ、例えば二酸化シリ
コン、酸化シリコン、窒化シリコン等の硅素化合物、カ
ーボン、Ｍ ｏ Ｓ ２等が挙げられる。
コン、酸化シリコン、窒化シリコン等の硅素化合物、カ
ーボン、Ｍ ｏ Ｓ ２等が挙げられる。
これらのうち、カーボンが好ましい。
潤滑層は真空蒸着、イオンブレーティング、メッキ、ス
パッタリング法等の付着法あるいはスピンコード等によ
り設けることができる。
パッタリング法等の付着法あるいはスピンコード等によ
り設けることができる。
務■
ハードディスク型磁気記録媒体の金属薄膜磁性店の無機
保護層とじてＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｗを主要な成分とする
合金からなる保護膜とすることにより、特にＮｉ：８〜
２５重量％、Ｃｒ：１５〜２５重量％、Ｗ：１０〜２０
重量％、微量成分：１０重量％以下、Ｃｏ：残部からな
る合金を用いて保護膜とすることにより、磁気記録媒体
の機械的剛性、耐摩耗性及び耐候性或いは耐食性を格段
に上げることができる。
保護層とじてＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｗを主要な成分とする
合金からなる保護膜とすることにより、特にＮｉ：８〜
２５重量％、Ｃｒ：１５〜２５重量％、Ｗ：１０〜２０
重量％、微量成分：１０重量％以下、Ｃｏ：残部からな
る合金を用いて保護膜とすることにより、磁気記録媒体
の機械的剛性、耐摩耗性及び耐候性或いは耐食性を格段
に上げることができる。
末凰五
実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものでないことは言うまでもない。
これらに限定されるものでないことは言うまでもない。
去Ｊｌ鉄Ｊ二ニム
円板状アルミニウム合金に非磁性金属層として金属クロ
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第１表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに、
この磁性層上に、同じく高周波スパッタリング法にて第
１表に示す組成の保護層２００八を設けた。
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第１表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに、
この磁性層上に、同じく高周波スパッタリング法にて第
１表に示す組成の保護層２００八を設けた。
災施■エニエ
円板状アルミニウム合金に非磁性金属層として金属クロ
ム層を付着させ、非磁性基体とした後、第１表に示す組
成の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに
、この磁性層上に、同じく高周波スパッタリング法にて
第１表に示す組成の無機保護Ｊｉｌ １００ Ａを設け
た。さらに、この無機保護層の表面に高周波スパッタリ
ング法によりカーボン潤滑層１００Ａを設けた。
ム層を付着させ、非磁性基体とした後、第１表に示す組
成の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに
、この磁性層上に、同じく高周波スパッタリング法にて
第１表に示す組成の無機保護Ｊｉｌ １００ Ａを設け
た。さらに、この無機保護層の表面に高周波スパッタリ
ング法によりカーボン潤滑層１００Ａを設けた。
比 例ＡＢおよびＤ
円板状アルミニウム合金に非磁性金属層として金属クロ
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第２表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに、
この磁性層上に、同じく高周波スパッタリング法にて第
２表に示す組成の保護層２００八を設けた。
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第２表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに、
この磁性層上に、同じく高周波スパッタリング法にて第
２表に示す組成の保護層２００八を設けた。
且豊五二
円板状アルミニウム合金に非磁性金属層として金属クロ
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第２表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設けた。
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第２表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設けた。
実施例１〜９において作成した試料および比較例Ａ−Ｄ
において作成した試料について、耐候性テストを行なっ
た結果を第１表および第２表に示す。耐候性テストの結
果は、試料の作成直後および６０°Ｃ１９０％ＲＨの環
境に１０日間放置した後の飽和磁束密度を測定し、その
変化率−６８ｍ（％）−で表わした。
において作成した試料について、耐候性テストを行なっ
た結果を第１表および第２表に示す。耐候性テストの結
果は、試料の作成直後および６０°Ｃ１９０％ＲＨの環
境に１０日間放置した後の飽和磁束密度を測定し、その
変化率−６８ｍ（％）−で表わした。
ここで６８ｍは
ΔＢｍ＝ （（６０℃、９０％ＲＨの環境に１０日間放
置した後のＢｍ−（作成直後のＢｍ））／（作成直後の
Ｂｍ）Ｘ１００（％） で表わされる。
置した後のＢｍ−（作成直後のＢｍ））／（作成直後の
Ｂｍ）Ｘ１００（％） で表わされる。
ここに、試料の飽和磁束密度Ｂｍは、振動試料型磁力計
（東英工業ＶＳＭ−５Ｓ）にて、最大印加磁界１５ｋＧ
の条件で測定した。測定試料は直径７ｍｍの円板状に打
抜いたものを用いた。
（東英工業ＶＳＭ−５Ｓ）にて、最大印加磁界１５ｋＧ
の条件で測定した。測定試料は直径７ｍｍの円板状に打
抜いたものを用いた。
即ち、６８ｍの値がＯに近いほど耐候性が優れているこ
とを意味する。
とを意味する。
第１表および第２表を比較して明らかな様に。
本発明の無機保護膜を用いることにより、耐候性のすぐ
れた薄膜型磁気記録媒体を得ることができる。
れた薄膜型磁気記録媒体を得ることができる。
以上の実施例から明らかなように、本発明の無機保護層
の採用および磁性層の無機潤滑層との組合せにより、実
用に耐え得る薄膜型磁気記録媒体を得ることが出来る。
の採用および磁性層の無機潤滑層との組合せにより、実
用に耐え得る薄膜型磁気記録媒体を得ることが出来る。
第１図および第２図は本発明による磁気記録媒体の断面
図である。 第１＠および第２図において、１は非磁性基体２は非磁
性金属層、３は薄膜型磁性層、４は無機保護層であり、
第２図において、５は固体潤滑層である。
図である。 第１＠および第２図において、１は非磁性基体２は非磁
性金属層、３は薄膜型磁性層、４は無機保護層であり、
第２図において、５は固体潤滑層である。
Claims (6)
- （１）非磁性基体に金属薄膜磁性層、該磁性層上に無機
保護膜が設けられてなる磁気記録媒体において、該無機
保護層がＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｗを主要な成分とする合金
からなるものであることを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｗ合金がＮｉ：８〜２５重量
％、Ｃｒ：１５〜２５重量％、Ｗ：１０〜２０重量％、
微量成分：１０重量％以下、Ｃｏ：残部からなる特許請
求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 - （３）金属薄膜磁性層がＣｏ及びＮｉを主成分とする合
金の薄膜であり、その成分比がＣｏ：Ｎｉ＝１：１〜９
：１である特許請求の範囲第１項又は第２項記載の磁気
記録媒体。 - （４）金属薄膜磁性層がＣｏ及びＣｒを主成分とする合
金の薄膜であり、その成分比がＣｏ：Ｃｒ＝７：３〜９
：１である特許請求の範囲第１項又は第２項記載の磁気
記録媒体。 - （５）無機保護層上にさらに固体潤滑層が設けられてい
る特許請求の範囲第１項、第２項、第３項又は第４項記
載の磁気記録媒体。 - （６）固体潤滑層がカーボン膜である特許請求の範囲第
５項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18568185A JPS6246428A (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18568185A JPS6246428A (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6246428A true JPS6246428A (ja) | 1987-02-28 |
Family
ID=16175005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18568185A Pending JPS6246428A (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6246428A (ja) |
-
1985
- 1985-08-26 JP JP18568185A patent/JPS6246428A/ja active Pending
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