JPS6246424A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6246424A JPS6246424A JP18567785A JP18567785A JPS6246424A JP S6246424 A JPS6246424 A JP S6246424A JP 18567785 A JP18567785 A JP 18567785A JP 18567785 A JP18567785 A JP 18567785A JP S6246424 A JPS6246424 A JP S6246424A
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- JP
- Japan
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- layer
- magnetic
- inorg
- protective layer
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- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
皇粟上勿豆■立互
本発明は磁気・記録媒体に関し、特に磁気記録媒体の記
録の保護、即ち磁気ディスク、磁気ドラム等に保護膜を
設けることに関する。
録の保護、即ち磁気ディスク、磁気ドラム等に保護膜を
設けることに関する。
の び 日が しようとするロ芦磁気ディスク装
置、磁気ドラム装置における磁気記録媒体は磁気ヘッド
との機械的接触に対する耐摩耗性或いは耐候性、耐食性
の点で問題があり、そのため通常これらの磁気記録媒体
には保護膜が施される。そして、この保ｉ！！膜は、皮
膜の平滑性、均一性、耐摩耗性、耐食性等が要求される
ほかに、その厚さが薄いこと、即ち薄膜であることが必
要である。
置、磁気ドラム装置における磁気記録媒体は磁気ヘッド
との機械的接触に対する耐摩耗性或いは耐候性、耐食性
の点で問題があり、そのため通常これらの磁気記録媒体
には保護膜が施される。そして、この保ｉ！！膜は、皮
膜の平滑性、均一性、耐摩耗性、耐食性等が要求される
ほかに、その厚さが薄いこと、即ち薄膜であることが必
要である。
従来、磁気ディスク、磁気ドラム等の磁気記録媒体の保
護膜として、無機保護層、或いはさらにその上に固体潤
滑剤等の潤滑層（保護層）を設けることが知られており
、該無°機保護層として、ロジウム（Ｒｈ）、クローム
（Ｃｒ）（特公昭５２−１８００１号公報）、ニッケル
ーリン（Ｎ ｉ −Ｐ）（特公昭５４−３３７２６号公
報）、その他レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（○ｓ）、
ルテニウム（Ｒｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃ
ｕ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）（特公昭５７
−６１７７号公報）、及びニッケルークロム（Ｎｉ−Ｃ
ｒ）（特公昭５７−１７２９２号公報）等が用いられ、
又、固体潤滑剤としては無機、有機の潤滑剤１例えば硅
素化合物、例えば二酸化シＩＪ：Ｉン（Ｓ ｉ０２ ）
、酸化シＩＪ＝Ｉン（Ｓ ｉ Ｏ）、窒化シリコン（Ｓ
ｉ４Ｎｏ）等（特公昭５４−３３７２６号公報）、ポリ
硅酸もしくはシランカップリング剤１例えばテトラヒド
ロキシシラン、ポリアミノシラン等（特公昭５９−３９
８０９号公報）及びカーボン等が使用されている。
護膜として、無機保護層、或いはさらにその上に固体潤
滑剤等の潤滑層（保護層）を設けることが知られており
、該無°機保護層として、ロジウム（Ｒｈ）、クローム
（Ｃｒ）（特公昭５２−１８００１号公報）、ニッケル
ーリン（Ｎ ｉ −Ｐ）（特公昭５４−３３７２６号公
報）、その他レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（○ｓ）、
ルテニウム（Ｒｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃ
ｕ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）（特公昭５７
−６１７７号公報）、及びニッケルークロム（Ｎｉ−Ｃ
ｒ）（特公昭５７−１７２９２号公報）等が用いられ、
又、固体潤滑剤としては無機、有機の潤滑剤１例えば硅
素化合物、例えば二酸化シＩＪ：Ｉン（Ｓ ｉ０２ ）
、酸化シＩＪ＝Ｉン（Ｓ ｉ Ｏ）、窒化シリコン（Ｓ
ｉ４Ｎｏ）等（特公昭５４−３３７２６号公報）、ポリ
硅酸もしくはシランカップリング剤１例えばテトラヒド
ロキシシラン、ポリアミノシラン等（特公昭５９−３９
８０９号公報）及びカーボン等が使用されている。
しかしながら、これらの従来の保護膜特に無機保護層に
使用される金属或いは合金はいまだその磁気記録媒体の
耐摩耗性及び耐候性或いは耐食性を充分に改善するもの
とは言えず、さらにすぐれた保護膜の出現が強・く望ま
れていた。
使用される金属或いは合金はいまだその磁気記録媒体の
耐摩耗性及び耐候性或いは耐食性を充分に改善するもの
とは言えず、さらにすぐれた保護膜の出現が強・く望ま
れていた。
２ を ゛するための
本発明者等は前記の点を改善すべく鋭意研究の結果、磁
気記録媒体、特にハードディスク型磁気記録媒体におい
て、磁気記録層の保護膜の無機保護層として特定の合金
からなる保護層を採用することにより上記の問題点が解
決できることを見出し１本発明に到達したものである。
気記録媒体、特にハードディスク型磁気記録媒体におい
て、磁気記録層の保護膜の無機保護層として特定の合金
からなる保護層を採用することにより上記の問題点が解
決できることを見出し１本発明に到達したものである。
即ち１本発明は非磁性基体または非磁性金属が被覆され
た非磁性基体に、金属薄膜磁性層、該磁性層上に無機保
護層及び固体潤滑層を順次設けてなる磁気記録媒体にお
いて、該無機保護層がＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金からなり、
その組成がＣｒ：１０〜２０重量％、Ｆｅ：５〜１５重
量％、Ｎｉ：残部であることを特徴とする磁気記録媒体
に関する。
た非磁性基体に、金属薄膜磁性層、該磁性層上に無機保
護層及び固体潤滑層を順次設けてなる磁気記録媒体にお
いて、該無機保護層がＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金からなり、
その組成がＣｒ：１０〜２０重量％、Ｆｅ：５〜１５重
量％、Ｎｉ：残部であることを特徴とする磁気記録媒体
に関する。
本発明で用いるＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金は、その組成がＣ
ｒ：１０〜２０重量％、Ｆｅ：５〜１５重量％、Ｎｉ：
残部のものが好ましい。
ｒ：１０〜２０重量％、Ｆｅ：５〜１５重量％、Ｎｉ：
残部のものが好ましい。
前記の組成範囲のものでは耐食性および耐摩耗性の点で
満足のいくものが得られる。
満足のいくものが得られる。
これらのＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金の保護層は非磁性基体に
形成された金属薄膜磁性層上にスパッタリング、真空蒸
着、イオンブレーティング、メッキ等の付着法により形
成される。
形成された金属薄膜磁性層上にスパッタリング、真空蒸
着、イオンブレーティング、メッキ等の付着法により形
成される。
本発明で使用される非磁性基体は例えば、アルミニウム
、アルミニウム合金等の金属、ガラス。
、アルミニウム合金等の金属、ガラス。
セラミックス、エンジニアリングプラスチックス等が使
用されるが１通常はアルミニウム或いはアルミニウム合
金が、主として価格、安定供給性の面から使用される。
用されるが１通常はアルミニウム或いはアルミニウム合
金が、主として価格、安定供給性の面から使用される。
アルミニウム或いはアルミニウム合金基体の表面に陽極
酸化被膜或いはニッケルリンメッキ膜等の薄膜を設ける
事により機械的剛性、硬度、加工性を上げる事もできる
。
酸化被膜或いはニッケルリンメッキ膜等の薄膜を設ける
事により機械的剛性、硬度、加工性を上げる事もできる
。
また金属クロム層を非磁性基体表面層として設けること
により、記録特性の信頼性の向上を図ることもできる。
により、記録特性の信頼性の向上を図ることもできる。
本発明の金属薄膜磁性層で用いられる磁性金属あるいは
合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性
金属あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃ
ｏ−Ｃｒ、 Ｆｅ−Ｒｈ、 Ｆｅ−Ｃｕ、 Ｆｅ
−Ａｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ。
合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性
金属あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃ
ｏ−Ｃｒ、 Ｆｅ−Ｒｈ、 Ｆｅ−Ｃｕ、 Ｆｅ
−Ａｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ。
Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ。
Ｃｏ−３ｍ、ｃｇ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｆｅ −Ｃｏ−
Ｎｄ、Ｍｎ−Ｂ ｔ 、Ｍｎ−３ｂ、 Ｍｎ−Ａｌ
のような磁性合金を挙げることができる。
Ｎｄ、Ｍｎ−Ｂ ｔ 、Ｍｎ−３ｂ、 Ｍｎ−Ａｌ
のような磁性合金を挙げることができる。
これらのうち、Ｃｏ−Ｎｉ合金が好ましく、特にその成
分比はＣｏ：Ｎｉ＝１：ｌ〜９：１であるものが好適で
ある。この範囲をはずれると記録特性が低下する。Ｃｏ
−Ｎｉ合金にＣｒを添加することにより、更に優れた特
性が得られる。Ｃｒの添加量はＣｏ＋Ｎｉの０．１〜２
５％が好ましい、０．１％以下では効果が明確でなく、
２５％以上では記録特性が低下する。
分比はＣｏ：Ｎｉ＝１：ｌ〜９：１であるものが好適で
ある。この範囲をはずれると記録特性が低下する。Ｃｏ
−Ｎｉ合金にＣｒを添加することにより、更に優れた特
性が得られる。Ｃｒの添加量はＣｏ＋Ｎｉの０．１〜２
５％が好ましい、０．１％以下では効果が明確でなく、
２５％以上では記録特性が低下する。
また、Ｃｏ −Ｃｒ合金も好ましく、特にその成分比は
Ｃｏ ：Ｃｒ＝７ ： ３〜９ ： １であるものが好
適である。この範囲をはずれると記録特性が低下する。
Ｃｏ ：Ｃｒ＝７ ： ３〜９ ： １であるものが好
適である。この範囲をはずれると記録特性が低下する。
磁性金属薄膜は非磁性基体、即ちアルミ板、ステンレス
板等の金属板、ガラス板のような無機質の板等の公知の
基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を介して、上記金
属又は合金を真空蒸着、スパッタリング、イオンブレー
ティング、メッキその他の方法で形成され得る。
板等の金属板、ガラス板のような無機質の板等の公知の
基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を介して、上記金
属又は合金を真空蒸着、スパッタリング、イオンブレー
ティング、メッキその他の方法で形成され得る。
又、無機保護層の上に設ける固体潤滑層には、従来公知
の無機の潤滑剤が用いられ１例えば二酸化シリコン、酸
化シリコン、窒化シリコン等の硅素化合物、カーボン、
Ｍ ｏ Ｓ ２等が挙げられる。
の無機の潤滑剤が用いられ１例えば二酸化シリコン、酸
化シリコン、窒化シリコン等の硅素化合物、カーボン、
Ｍ ｏ Ｓ ２等が挙げられる。
これらのうち、カーボンが好ましい。
潤滑層は真空蒸着、イオンブレーティング、メッキ、ス
パッタリング法等の付着法あるいはスピンコード等の方
法により設けることができる。
パッタリング法等の付着法あるいはスピンコード等の方
法により設けることができる。
務■
ハードディスク型磁気記録媒体の金属薄膜磁性層の無機
保護層としてＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金からなる保護膜とす
ることにより、特にその組成がＣｒ：１０〜２０重量％
、Ｆｅ：５−１５重量％、微量成分１０％以下、及びＮ
ｉ：残部からなる合金を用いて保護膜とすることにより
、磁気記録媒体の機械的剛性１．耐摩耗性及び耐候性或
いは耐食性を格段に上げることができる。
保護層としてＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金からなる保護膜とす
ることにより、特にその組成がＣｒ：１０〜２０重量％
、Ｆｅ：５−１５重量％、微量成分１０％以下、及びＮ
ｉ：残部からなる合金を用いて保護膜とすることにより
、磁気記録媒体の機械的剛性１．耐摩耗性及び耐候性或
いは耐食性を格段に上げることができる。
１厳鮭
実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものでないことは言うまでもない。
これらに限定されるものでないことは言うまでもない。
末１ｊｕ二二影
円板状アルミニウム合金に非磁性金属層として金属クロ
ム層を付着させ、非磁性基体とした後、第１表に示す組
成の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに
、この磁性層上に、同じく高周波スパッタリング法にて
第１表に示す組成の保護層１００Ａを設けた。さらに、
この無機保護層の表面に高周波スパッタリング法により
カーボン潤滑層１００Ａを設けた。
ム層を付着させ、非磁性基体とした後、第１表に示す組
成の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに
、この磁性層上に、同じく高周波スパッタリング法にて
第１表に示す組成の保護層１００Ａを設けた。さらに、
この無機保護層の表面に高周波スパッタリング法により
カーボン潤滑層１００Ａを設けた。
比 ＡＢおよびＤ
円板状アルミニウム合金に非磁性金属層として金属クロ
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第１表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに、
この磁性層上に、同じく、高周波スパッタリング法にて
第１表に示す組成の無機保護層１００Ａを設けた。さら
に、この無機保護層の表面に高周波スパッタリング法に
より、カーボン潤滑層１００八を設けた。
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第１表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設け、さらに、
この磁性層上に、同じく、高周波スパッタリング法にて
第１表に示す組成の無機保護層１００Ａを設けた。さら
に、この無機保護層の表面に高周波スパッタリング法に
より、カーボン潤滑層１００八を設けた。
比較例Ｃ
円板状アルミニウム合金に非磁性金属層として金属クロ
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第１表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設けた。
ム層を付着させ非磁性基体とした後、第１表に示す組成
の磁性層を高周波スパッタリング法にて設けた。
この磁性層表面に高周波スパッタリング法により、カー
ボン潤滑層２００Ａを設けた。
ボン潤滑層２００Ａを設けた。
実施例１〜８において作成した試料および比較例Ａ−Ｄ
において作成した試料について、耐候性テストを行なっ
た結果を第１表に示す。耐候性テストの結果は、試料の
作成直後および６０℃、９０％ＲＨの環境に２ケ月間放
置した後の、ディスク記録回当たりのエラー数の増加率
（倍）で表示した。即ち、エラー数の増加率が低いほど
（１，。
において作成した試料について、耐候性テストを行なっ
た結果を第１表に示す。耐候性テストの結果は、試料の
作成直後および６０℃、９０％ＲＨの環境に２ケ月間放
置した後の、ディスク記録回当たりのエラー数の増加率
（倍）で表示した。即ち、エラー数の増加率が低いほど
（１，。
０に近いほど）ディスクの耐候性力１優れていることを
意味する。
意味する。
ここでエラー数の増加率（倍）は
エラー数の増加率（倍）
＝（６０℃、９０％ＲＨの環境に２ケ月間放置した後の
エラー数）／（試料作成直後のエラー数）の式で表わさ
れ、る。
エラー数）／（試料作成直後のエラー数）の式で表わさ
れ、る。
なお、ディスク記録回当たりのエラー数はサーテイファ
イヤ−にて測定し、スライス・レベルの設定条件はミッ
シングが５５％、エクストラが３５％として行った。
イヤ−にて測定し、スライス・レベルの設定条件はミッ
シングが５５％、エクストラが３５％として行った。
第１表において明らかな様に１本発明の無機保護膜を用
いることにより、耐候性のすぐれた薄膜型磁気記録媒体
を得ることができる。
いることにより、耐候性のすぐれた薄膜型磁気記録媒体
を得ることができる。
澄遭Ｉυ弧釆
以上の実施例から明らかなように、本発明の無機保護層
の採用および磁性層の無機潤滑層との組合せにより、実
用に耐え得る薄膜型磁気記録媒体を得ることが出来る。
の採用および磁性層の無機潤滑層との組合せにより、実
用に耐え得る薄膜型磁気記録媒体を得ることが出来る。
第１図は本発明による磁気記録媒体の断面図である。
第１図において、１は非磁性基体、２は非磁性金ｍ層、
３は薄膜型磁性層、４は無機保護層、５は固体潤ＷＩ層
である。
３は薄膜型磁性層、４は無機保護層、５は固体潤ＷＩ層
である。
Claims (4)
- （１）非磁性基体または非磁性金属が被覆された非磁性
基体に、金属薄膜磁性層、該磁性層上に無機保護層及び
固体潤滑層を順次設けてなる磁気記録媒体において、該
無機保護層がＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金からなり、その組成
がＣｒ：１０〜２０重量％、Ｆｅ：５〜１５重量％、Ｎ
ｉ：残部であることを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）金属薄膜磁性層がＣｏ及びＮｉを主成分とする合
金の薄膜であり、その成分比がＣｏ：Ｎｉ＝１：１〜９
：１である特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 - （３）金属薄膜磁性層がＣｏ及びＣｒを主成分とする合
金の薄膜であり、その成分比がＣｏ：Ｃｒ＝７：３〜９
：１である特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 - （４）固体潤滑層がカーボン膜である特許請求の範囲第
１項、第２項又は第３項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18567785A JPS6246424A (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18567785A JPS6246424A (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6246424A true JPS6246424A (ja) | 1987-02-28 |
Family
ID=16174934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18567785A Pending JPS6246424A (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6246424A (ja) |
-
1985
- 1985-08-26 JP JP18567785A patent/JPS6246424A/ja active Pending
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