JPH0340213A

JPH0340213A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH0340213A
Application number: JP17300189A
Authority: JP
Inventors: Toshitaka Hara; 敏孝原; Shigeaki Nishikawa; 西川　重昭
Original assignee: Furukawa Electric Co Ltd
Current assignee: Furukawa Electric Co Ltd
Priority date: 1989-07-06
Filing date: 1989-07-06
Publication date: 1991-02-21

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は高密度磁気記録に適する金属薄膜を磁気記録層
とする磁気記録媒体に関するものである。

（従来の技術）磁気ディスク装置は記憶容量、アクセス蒔間、コストと
もに優れた記憶装置として大型電算機からパソコンクラ
スまで幅広く用いられるようになってきた。そして近年
取り扱うデータの増大と小型化の指向から大容量・高密
度化の方向へ進んでいる。上記要求に応えるには磁気記
録媒体のＨｃ（保磁力〉とＢｒ（残留磁束密度）を大き
くして媒体の厚さを極力薄くすることか必要である。

これの事情に鑑み、均一な薄膜を容易に形成することが
可能なスパッタ法による高密度磁気記録媒体の開発がＣ
ｏ−Ｎｉ合金系を中心に各方面で活発に検討されている
。

しかしながらＣｏ−Ｎｉ合金系の磁性薄膜を単体で磁気
記録媒体として使用するには、磁気特性が不十分であり
、膜中に添加物を混入するか、もしくは非磁性金属下地
層を設ける必要かある。

このようなＣｏ−Ｎｉ合金系に添加物を混入したものと
して特開昭５７−２８３０９号公報記載の技術が挙げら
れる。これはＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ三元合金に関するもので
あり、従来のＣｏ−Ｎｉ合金に比べ磁気特性に優れ、広
く一般に使用されている。

（発明か解決しようとする課題）しかしながら、薄膜ヘッドやトラック位置決め（サーボ
）機能の普及により、磁気記録媒体に対するいっそうの
高密度化に対する要求か強くなっている。そのため上記
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ三元合金では対応か難しくなってきて
おり、新たな磁気記録媒体の開発か望まれている。

本発明は、優れた耐食性を実質的に維持しつつ高密度記
録に好適な磁気記録媒体を提供することを目的とする。

（発明か解決しようとする課題）本発明者らは、Ｃｏ−Ｎｉ合金に占めるＮｉの含有量が
少ないと耐食性が悪く保持力Ｈｃか小さくなり、また多
すぎると残留磁束密度Ｂｒか小さくなることに鑑み、Ｎ
ｉの含有量が５〜４０原子％のＣｏ−Ｎｉ合金ターゲッ
トに添加元素を加え実験を行った。

その結果ＣｏとＮｉとを主成分とし、これにＴａ、Ｍｏ
、Ｎｂより選ばれた少なくとも１種を所定量含有させる
ことにより、磁気特性のさらに優れた磁気記録媒体が得
られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成
するに至った。

すなわち本発明は（１）非磁性基体上に非磁性金属下地
層と磁性層とを形成してなり、該磁性層かＮｉを８〜３
０％含有し、かつＴａ、ＭＯ及びＮｂより選ばれた少な
くとも１種以上の元素を合計３〜１０％（以上％は原子
％を示す）含み、残部かＣｏであることを特徴とする磁
気記録媒体及び（２）非磁性金属下地層がクロム又はチ
タンよりなることを特徴とする（１）項記載の磁気記録
媒体を提供するものである。

本発明に使用する非磁性基体としては、強化ガラス、結
晶化ガラス、アルくニウム合金、アルミニウム等を用い
ることかできる。

また本発明において非磁性基体上に形成する非磁性金属
下地層としてはモリブデン、ビスマスなどか用いられる
がクロム又はチタンが好ましい。

磁性金属下地層としてはＮｉを８〜３０原子％（以下、
原子％を単に％と記す。）、Ｔａ、Ｍ。

及びＮｂより選ばれた少なくとも１種以上の元素を合計
３〜１０％含み、残部をＣｏとする。

上記の組成であれば磁気特性が著しく改善される。これ
は従来の組成に比べ結晶粒が小さくなり、且つ、磁化容
易軸が面内に配向しやすくなるためと考えられる。

（実施例）次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。

実施例１本実施例では非磁性アルミニウム合金板上に非磁性基体
層としてＮ１−Ｐめっきを施し、平均表面粗さ３０人に
境面仕上げされた非磁性基板を使用した。この基板上に
ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用いて非磁性金属下地
層としてＣｒをスパッタした後、磁性層としてＣｏ−２
０％Ｎｉ合金ターゲット上に５　ｍｍＸ　５　ｍｍＸ　
ｌ　１厚のＴａチップを複数個置き成膜を行った。さら
に、保護層としてカーボンを被覆し試料１〜３の磁気記
録媒体を得た。成膜条件は基板加熱１５０℃、Ａｒガス
圧力５ｘ　１０−”　Ｔｏｒｒで行った。なお、膜厚は
非磁性金属下地層を０．１ｇｍ、磁性層を０．０５ＪＬ
ｍ、保護層を０．０３ｇｍとした。第１図は以上により
得られた磁気記録媒体の断面図である。

図中１は非磁性基板、２は非磁性金属下地層、３は磁性
層、４は保護層である。

なお、試料１〜３はＣｏ−Ｎｉ合金ターゲット上に置＜
Ｔａチップの個数を増減し、磁性層にしめるＴａの含有
量を変えて作製した。

実施例２Ｃｏ−２０％Ｎｉ合金ターゲットのかわりに、Ｃｏ−３
０％Ｎｉ合金ターゲットを使用すること以外は実施例１
と同様にして磁気記録媒体（試料４）を得た。

実施例３Ｃｏ−２０％Ｎｉ合金ターゲットのかわりにＣｏ−１０
％Ｎｉ合金ターゲットを使用すること以外は実施例１と
同様にして磁気記録媒体（試料５）を得た。

実施例４非磁性金属下地層として、ＣｒのかわりにＴｉを使用す
ること以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体（試料
６）を得た。

実施例５ＴａチップのかわりにＭｏチップを使用すること以外は
実施例１と同様にして磁気記録媒体（試料７）を得た。

実施例６Ｔａチップの力ＹわりにＮｂチップを使用すること以外
は実施例１と同様にして磁気記録媒体（試料８）を得た
。

実施例７ＴａチップのかわりにＴａチップとＭｏチックを使用す
ること以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体（試料
９）を得た。

比較例１Ｔａチップの量を変えること以外は実施例１と同様にし
て磁気記録媒体（試料ｌＯ〜１１）を得た。

比較例２ＴａチップのかわりにＣｒチップを使用すること以外は
実施例１と同様にして磁気記録媒体（試料１２〜１５）
を得た。

比較例３Ｃｏ−２０％Ｎｉ合金ターゲットのかわりにＣｏ−４０
％Ｎｉ合金ターゲットを使用すること以外は実施例１と
同様にして磁気記録媒体（試料１６）を得た。

比較例４Ｃｏ−２０％Ｎｉ合金ターゲットのかわりにＣｏ−５％
Ｎｉターゲットを使用すること以外は実施例１と同様に
して磁気記録媒体（試料１７）を得た。

以上により作製された試料に対して磁気特性及び耐食性
の試験を行った。

磁気特性は振動試料型磁力計（ＶＳＭ）を用い、最大印
加磁場５ＫＯｅの条件下で保持力Ｈｃと残留磁束密度Ｂ
ｒを測定した値で評価した。

また、耐食性は、温度６５℃、湿度６５％ＲＨの環境下
で９０日間放置した前後で比較し、■目視による外観変
化及び■磁気ヘッドを使用し書き込み周波数３．３３Ｍ
Ｈｚで書き込んだ信号の再生出力の変化率を評価した。

なお、磁性薄膜の組成は、各試料をイオンマイクロアナ
ライザ（ＳＥＭＳ）を用いて分析した。

なお第１表の判定の基準として磁気特性においては、書
き込み周波数３．３３ＭＨｚの高周波記録をする場合は
、磁気ヘットの特性とのかねあいもあるが、Ｈｃが８０
００ｅ以上、Ｂｒが１ＯｋＧａｕｓｓ以上必要とされる
。また前記の耐食試験により■外観変化のないこと、■
出力の低下か１０％以内であることが基準となる。これ
らの総合判定の結果も第１表に示した。

第１表の結果から明白なように本発明実施例は磁気特性
、耐食性ともに良好である。しかしながら比較例では、
磁気特性、耐食性ともに良好なものはない。

（発明の効果）以上説明したように本発明の磁気記録媒体は、高密度記
録に優れており、しかも耐食性にも優れている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施態様としての磁気記録媒体の断
面図である。符号の説明ｌ・・・非磁性基板、２・・・非磁性金属下地層、３・
・・磁性層、４・・・保護層

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性基体上に非磁性金属下地層と磁性層とを形
成してなり、該磁性層がＮｉを８〜３０％含有し、かつ
Ｔａ、Ｍｏ及びＮｂより選ばれた少なくとも１種以上の
元素を合計３〜１０％（以上％は原子％を示す）含み、
残部がＣｏであることを特徴とする磁気記録媒体。
（２）非磁性金属下地層がクロム又はチタンよりなるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。