JPS6244526Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は半導体シリコンウエハやガラスフオト
マスク等の表面に付着した水滴を遠心力により除
去し且つ乾燥するための装置の改良に関する。

本考案が関連する水切乾燥装置はシリコンウエ
ハ等を水洗した後に水切乾燥するのに用いられ、
回転されるロータと、それを包囲する概して円筒
状のケーシングから構成され、前記ロータにはウ
エハなどの被処理物が収められるかご状のキヤリ
ヤを支持する支持部、即ちキヤリヤホルダーが備
えられている。またケーシング上には中心に吸気
口を備えた蓋が設置され且つケーシングの周壁の
適宜位置には排気口が設けられ、ロータの回転に
よる遠心力によつてウエハ等の表面にある水滴は
外方への空気流と共に周壁に向つて飛ばされ、且
つケーシングの底板上に溜り、ロータの中心区域
は負圧となるので吸気口から空気が吸引され、ケ
ーシング内を円周方向に流れて排気口から排出さ
れ、この空気流によつてウエハ等が乾燥される。

従つて、ケーシングの周壁には水滴のほか、そ
れと共にごみや汚れも付着し、それらが下降して
ケーシングの底板上に溜るが、この種の装置では
ケーシング内の空気は全て円周方向に流れること
はなく、半径方向および下方から上方に巻き返す
流れもあり、それが周壁および底板からはね返
り、周壁および底板上に溜つていた水分やごみな
どの汚れを再びウエハ等に持返ることもあつた。
そのため乾燥効率を下げ且つ洗浄効果の面で好ま
しくない欠点があつた。

本考案はケーシングの底板上に溜つた水分や汚
れのはね返りを防止し、それによつて乾燥効率を
高め得る水切乾燥装置を提供することである。

上記目的を達成するため、本考案の特徴はケー
シング底板に対する空気流のはね返りを防止し且
つ排水を適切に行ない得るようにしたことであつ
て、以下、図面を参照のもとに本考案の実施例に
ついて説明する。第１図は全体の構造を示すもの
であつて、１は回転ロータであり、１０はそれを
包囲するケーシングであつて、ケーシング上には
開閉可能な蓋２が設置されている。通常、これら
の部材は外装用のケース３内に収められる。第２
図に明瞭に示すように、ロータ１には適当数のキ
ヤリヤを固定する支持部４が設けられ、図示の例
では４つの支持部が備えられているが、その数は
１つまたは他の個数でもよい。第１図に示すよう
にシリコンウエハやガラスフオトマスク等の被処
理物はキヤリヤ５に収められた上、ロータ１の支
持部４に保持される。蓋２の中央には吸気孔６が
在り、そこにメツシユが張られる。ケーシング１
０の周壁１１の適当な位置には排気口７が設けら
れ、ロータ１の回転により吸気口６から導入され
た空気はケーシング１０内をめぐつて、排気口７
から流出する。なお、第２図に示すように、ロー
タ１の中心は主軸８に接続され、主軸８はモータ
等によつて回転されるように構成されている。

本考案の特徴は第２図ないし第５図に示すよう
に、ロータ１の底部９とケーシング１０の底部１
２との間に一連の案内羽根からなる案内部材２０
を設け、これによつてケーシング底部から空気が
上方にはね返るのを防止することである。各案内
羽根２１は第５図に示すようにロータ１の回転方
向に向つて下方に傾斜している。その傾斜角度は
特に限定するものではないが、約20〜45度である
のが好ましい。適当数の案内羽根２１からなる案
内部材２０はプレス成形等により一体に形成する
こともできるが個々の案内羽根から構成したもの
でもよい。各案内羽根２１は第６図に見られるよ
うに円周方向にほぼ等間隔に設けられているのが
望ましく、且つ通常は半径方向に配置されるが、
半径方向から或る程度ずれていてもよい。また、
好ましくは、案内羽根２１はロータ１の主軸８の
近くからケーシングの周壁１１まで伸びている。
しかし、場合によつては案内羽根２１は外側の区
域にのみ設けられていてもよく、即ち、第６図に
見られるように、半径方向のほぼ中間位置からケ
ーシングの周壁１１まで伸びた比較的短い長さの
ものでもよい。

なお、第８図に見られるように、ケーシングの
底部１２は主軸８が貫通する中央部が高く、周囲
が低くなつているのが好ましい。排気口７の高さ
はケーシング１０内の環状の通風路とほぼ同じに
すれば抵抗が少ない点で好ましい。そして、排気
口７の下辺は案内部材２０より低い位置に在る
が、該下辺はケーシングの底部１２と同じレベル
であるのが好ましい。また、第８図に示すよう
に、ケーシングの天板１３の内周縁に環状の垂下
した突出部１４を設けてもよく、それによつて上
方からロータ１の中心部に空気が戻るのを防止す
ることができる。

この装置によりシリコンウエハの水切り乾燥を
行なう際は、ウエハをキヤリヤ５内に収めた状態
で前記キヤリヤをロータの支持部４にセツトし、
蓋２を閉じて、ロータ１を回転する。ロータの回
転により、各ウエハも共に回転され、そこに付着
していた水滴は遠心力によつて周囲に飛ばされ、
水切りがなされる。その際、ロータ１の中心区域
は負圧となり、吸気口６から新鮮な空気が流入
し、ウエハの間を通つて半径方向外方に流れ、ケ
ーシング１０の周壁１１に沿つて円周方向に流
れ、排気口７から排出され、その空気流によつて
ウエハが乾燥される。ケーシングの周壁１１に付
着した水滴は下降してケーシングの底板１２上に
溜る。ケーシング内の空気流は円周方向のほか、
下降する流れもあるが、下降する空気流は各案内
羽根２１で案内されて底板１２に達し、そこでは
ね返つても案内羽根２１で上方に流れることが防
止され、従つて案内部材２０の下で排気口７に向
つて円周方向に流れる。従つて、底板１２に当つ
た空気流が上方に巻き返すことが妨げられ、その
ため底板１２の水やごみを持ち上げて再びウエハ
等に持返ることがない。そして底板１２上に溜つ
た水を排気口７に流す役割を果す。

なお、好ましくは、第７図に示すように、ケー
シングの周壁１１は排気口７の近接位置１２′か
ら円周方向に大きくまわつて排気口７に至るに従
つて、ロータ１の中心軸線０から半径方向の距離
が漸次に大きくなるように形成される。さらに第
８図に示すようにケーシング２の底板１２も、前
記近接位置１２′から円周方向に大きくまわつて
排気口７に向つて漸次に降下しているのが好まし
い。即ち、ケーシングの位置１２の通路幅ｂ１は
対向側の通路幅ｂ２より小さく、その幅ｂ２は排
気口の近くの通路幅ｂ３より小さい。また底板１
２の深さも、第８図に示すように、位置１２′の
ロータ下面から深さをｔ１、その対向側の深さｔ
２、排気口近くの深さｔ３とすれば、ｔ１＜ｔ２
＜ｔ３となつている。この場合、排気口７の近接
位置には段部１５ができる。ケーシング１０の円
周方向の空気通路は排気口７に向うに従つて大き
くなり、それだけ空気流の抵抗が少なく、空気の
導入、排出が好適になされ、底板１２上の水はけ
がさらに良くなる。

また、場合によつては、第７図に示すように、
排気口７の直前のケーシング１０内のロータ１の
レベルより下の区域に、案内羽根２１の代りに誘
導板１６を設けてもよい。この誘導板は案内部材
２０と同じ高さの平板部および段部１５の位置と
案内部材との間を塞ぐ垂下部を有し、案内部材２
０の下の空気流を全て排気口７に導びく役割を果
す。

上記のように、本考案によれば、ロータとケー
シング底板との間の案内羽根により、ケーシング
底板上の水分やごみのはね返りが防止され、且つ
排水も適切に促進されるので、ウエハ等の乾燥を
早め且つごみのはね返りもないため洗浄効果を損
なうこともない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一例による水切乾燥装置の斜
視図、第２図はそのロータおよびケーシングの縦
断面図、第３図は第２図の線Ａ−Ａ断面図、第４
図は第２図の線Ｂ−Ｂ断面図、第５図は第４図の
線Ｃ−Ｃ断面図、第６図は他の実施例を示す第４
図に類似の断面図、第７図はさらに他の実施例を
示す第３図に類似の断面図、そして第８図は別の
実施例を示す第２図に類似の断面図である。 図中、１……ロータ、４……支持部、５……キ
ヤリヤ、７……排気口、８……主軸、９……ロー
タの底部、１０……ケーシング、１１……ケーシ
ングの周壁、１２……ケーシングの底板、１６…
…誘導板、２０……案内部材、２１……案内羽
根。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) シリコンウエハ等を収めるキヤリヤの支持部
   を備えたロータと、前記ロータを包囲するケー
   シングを含み、前記ロータの上方に設置される
   蓋に吸気口が設けられ且つケーシング周壁の適
   当な位置に排気口が設けられている水切乾燥装
   置において、前記ロータの底部と前記ケーシン
   グの底部との間に一連の案内羽根からなる案内
   部材が設けられ、各前記案内羽根は前記ロータ
   の回転方向に向かつて下方に傾斜しており、且
   つ前記排気口の下辺は前記案内部材より低い位
   置に在ることを特徴とするシリコンウエハ等の
   水切乾燥装置。 (2) 実用新案登録請求の範囲第１項に記載の水切
   乾燥装置において、各前記案内羽根は前記ロー
   タの主軸の近くから前記ケーシングの周壁まで
   伸びているシリコンウエハ等の水切乾燥装置。 (3) 実用新案登録請求の範囲第１項に記載の水切
   乾燥装置において、各前記案内羽根は半径方向
   のほぼ中間位置から前記ケーシングの周壁まで
   伸びているシリコンウエハ等の水切乾燥装置。