JPS5956739U - シリコンウエハ等の水切乾燥装置 - Google Patents
シリコンウエハ等の水切乾燥装置Info
- Publication number
- JPS5956739U JPS5956739U JP15234082U JP15234082U JPS5956739U JP S5956739 U JPS5956739 U JP S5956739U JP 15234082 U JP15234082 U JP 15234082U JP 15234082 U JP15234082 U JP 15234082U JP S5956739 U JPS5956739 U JP S5956739U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- casing
- draining
- rotor
- utility
- model registration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は本考案の一例による水切乾燥装置の斜視図、第
2図はそのロータおよびケーシングの縦断面図、第3図
は第2図の線A−A断面図、第4図は第2図の線B−B
断面図、第5図は第4図の線C−C断面図、第6図は他
の実施例を示す第4図に類似の断面図、第7図はさらに
他の実施例を示す第3図に類似の断面図、そして第8図
は別の実施例を示す第2図に類似の断面図である。 図中、1・・田−タ、4・・・支持部、5・・・キャリ
ヤ、7・・・排気口、8・・・主軸、9・・田−夕の底
部、10・・・ケーシング、11・・・ケーシングの周
壁、12・・・ケーシングの底板、16・・・誘導板、
20・・・案内部 材、21・・・案内羽根。 −第3図 ′ −第6図
2図はそのロータおよびケーシングの縦断面図、第3図
は第2図の線A−A断面図、第4図は第2図の線B−B
断面図、第5図は第4図の線C−C断面図、第6図は他
の実施例を示す第4図に類似の断面図、第7図はさらに
他の実施例を示す第3図に類似の断面図、そして第8図
は別の実施例を示す第2図に類似の断面図である。 図中、1・・田−タ、4・・・支持部、5・・・キャリ
ヤ、7・・・排気口、8・・・主軸、9・・田−夕の底
部、10・・・ケーシング、11・・・ケーシングの周
壁、12・・・ケーシングの底板、16・・・誘導板、
20・・・案内部 材、21・・・案内羽根。 −第3図 ′ −第6図
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1)シリコンウェハ等を収めるキャリヤの支持部を備
えたロータと、前記ロータを包囲するケーシングを含む
水切乾燥装置において、前記ロータの底部と前記ケーシ
ングの底板との間に一連の案内羽根からなる案内部材が
設けられ、各前記案内羽根は前記ロータの回転方向に向
って下方に傾斜していることを特徴とするシリコンウェ
ハバ等の水切乾燥装置。 ′(2)実用新案登録請求の範囲第1項に記載の水切乾
燥装置において、各前記案内羽根は前記ロータの主軸の
近くから前記ケーシングの周壁まで伸びているシリコン
ウエノ1等の水切乾燥装置。 (3) 実用新案登録請求の範囲第1項に記載め水切
。 乾燥装置において、各前記案内羽根は半径方向のほぼ中
間位置から前記ケーシングの周壁まで伸びているシリコ
ンウェハ等の水切乾燥装置。 (4)実用新案登録請求の範囲第1項に記載の水切乾燥
装置において、前記ケーシングの周壁はそ、の適宜位置
に設けられた排気口の近接位置から円周方向に大きくま
わって前記排気口に至るに従って前記ロータの中心軸線
からの半径方向の距離が漸次大きくなっているシリコン
ウエノ1等の水切乾燥装置。 (5)実用新案登録請求の範囲第1項に記載の水切乾燥
装置において、前記ケーシングの底板は前記ケーシング
周壁の適宜位置に設けられた排気 ・口の近接位置
から円周方向に大きくまわって前記排気口に至るに従っ
て漸次に下降しているシリコンウェハ等の水切乾燥装置
。 (6)実用新案登録請求の範囲第1項に記載の水切乾燥
装置にお(、ごて、前記ケーシッグ内の前記排気口の直
前に!1前記案内羽根の代りに、前記案内部材の下の空
気流を前記排気口に導ひく誘導板が設けられているシリ
コンウェハ等の水切乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15234082U JPS5956739U (ja) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | シリコンウエハ等の水切乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15234082U JPS5956739U (ja) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | シリコンウエハ等の水切乾燥装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5956739U true JPS5956739U (ja) | 1984-04-13 |
JPS6244526Y2 JPS6244526Y2 (ja) | 1987-11-25 |
Family
ID=30337334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15234082U Granted JPS5956739U (ja) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | シリコンウエハ等の水切乾燥装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5956739U (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52135453A (en) * | 1976-05-08 | 1977-11-12 | Nec Corp | Wafer dryer |
JPH0640971A (ja) * | 1992-07-20 | 1994-02-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | フルオロトラン誘導体 |
-
1982
- 1982-10-07 JP JP15234082U patent/JPS5956739U/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52135453A (en) * | 1976-05-08 | 1977-11-12 | Nec Corp | Wafer dryer |
JPH0640971A (ja) * | 1992-07-20 | 1994-02-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | フルオロトラン誘導体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6244526Y2 (ja) | 1987-11-25 |
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