JPS5956739U - シリコンウエハ等の水切乾燥装置 - Google Patents

シリコンウエハ等の水切乾燥装置

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JPS5956739U
JPS5956739U JP15234082U JP15234082U JPS5956739U JP S5956739 U JPS5956739 U JP S5956739U JP 15234082 U JP15234082 U JP 15234082U JP 15234082 U JP15234082 U JP 15234082U JP S5956739 U JPS5956739 U JP S5956739U
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JP
Japan
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casing
draining
rotor
utility
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JP15234082U
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JPS6244526Y2 (ja
Inventor
相合 征一郎
Original Assignee
黒谷 信子
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一例による水切乾燥装置の斜視図、第
2図はそのロータおよびケーシングの縦断面図、第3図
は第2図の線A−A断面図、第4図は第2図の線B−B
断面図、第5図は第4図の線C−C断面図、第6図は他
の実施例を示す第4図に類似の断面図、第7図はさらに
他の実施例を示す第3図に類似の断面図、そして第8図
は別の実施例を示す第2図に類似の断面図である。 図中、1・・田−タ、4・・・支持部、5・・・キャリ
ヤ、7・・・排気口、8・・・主軸、9・・田−夕の底
部、10・・・ケーシング、11・・・ケーシングの周
壁、12・・・ケーシングの底板、16・・・誘導板、
20・・・案内部    材、21・・・案内羽根。 −第3図      ′ −第6図

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1)シリコンウェハ等を収めるキャリヤの支持部を備
    えたロータと、前記ロータを包囲するケーシングを含む
    水切乾燥装置において、前記ロータの底部と前記ケーシ
    ングの底板との間に一連の案内羽根からなる案内部材が
    設けられ、各前記案内羽根は前記ロータの回転方向に向
    って下方に傾斜していることを特徴とするシリコンウェ
    ハバ等の水切乾燥装置。 ′(2)実用新案登録請求の範囲第1項に記載の水切乾
    燥装置において、各前記案内羽根は前記ロータの主軸の
    近くから前記ケーシングの周壁まで伸びているシリコン
    ウエノ1等の水切乾燥装置。 (3)  実用新案登録請求の範囲第1項に記載め水切
    。 乾燥装置において、各前記案内羽根は半径方向のほぼ中
    間位置から前記ケーシングの周壁まで伸びているシリコ
    ンウェハ等の水切乾燥装置。 (4)実用新案登録請求の範囲第1項に記載の水切乾燥
    装置において、前記ケーシングの周壁はそ、の適宜位置
    に設けられた排気口の近接位置から円周方向に大きくま
    わって前記排気口に至るに従って前記ロータの中心軸線
    からの半径方向の距離が漸次大きくなっているシリコン
    ウエノ1等の水切乾燥装置。 (5)実用新案登録請求の範囲第1項に記載の水切乾燥
    装置において、前記ケーシングの底板は前記ケーシング
    周壁の適宜位置に設けられた排気   ・口の近接位置
    から円周方向に大きくまわって前記排気口に至るに従っ
    て漸次に下降しているシリコンウェハ等の水切乾燥装置
    。 (6)実用新案登録請求の範囲第1項に記載の水切乾燥
    装置にお(、ごて、前記ケーシッグ内の前記排気口の直
    前に!1前記案内羽根の代りに、前記案内部材の下の空
    気流を前記排気口に導ひく誘導板が設けられているシリ
    コンウェハ等の水切乾燥装置。
JP15234082U 1982-10-07 1982-10-07 シリコンウエハ等の水切乾燥装置 Granted JPS5956739U (ja)

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JPS5956739U true JPS5956739U (ja) 1984-04-13
JPS6244526Y2 JPS6244526Y2 (ja) 1987-11-25

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52135453A (en) * 1976-05-08 1977-11-12 Nec Corp Wafer dryer
JPH0640971A (ja) * 1992-07-20 1994-02-15 Dainippon Ink & Chem Inc フルオロトラン誘導体

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52135453A (en) * 1976-05-08 1977-11-12 Nec Corp Wafer dryer
JPH0640971A (ja) * 1992-07-20 1994-02-15 Dainippon Ink & Chem Inc フルオロトラン誘導体

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JPS6244526Y2 (ja) 1987-11-25

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