JPS6242546A - セラミツクパツケ−ジ - Google Patents
セラミツクパツケ−ジInfo
- Publication number
- JPS6242546A JPS6242546A JP60182263A JP18226385A JPS6242546A JP S6242546 A JPS6242546 A JP S6242546A JP 60182263 A JP60182263 A JP 60182263A JP 18226385 A JP18226385 A JP 18226385A JP S6242546 A JPS6242546 A JP S6242546A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- input
- chip
- ceramic substrate
- copper block
- terminal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5445—Dispositions of bond wires being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. parallel arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
- H10W72/874—On different surfaces
- H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
Landscapes
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
入出力端子、半導体チップ、搭載部を同一基板上に形成
し、これらを銅ブロック(筐体)に嵌合させることによ
り、パッケージずれによる特性の劣化を防止し、コスト
低減および接地インピーダンスの低減を実現する。
し、これらを銅ブロック(筐体)に嵌合させることによ
り、パッケージずれによる特性の劣化を防止し、コスト
低減および接地インピーダンスの低減を実現する。
本発明はセラミックパッケージに関するもので、さらに
詳しく言えば、FETチップ等を搭載する超高周波セラ
ミックパッケージの改良に関するものである。
詳しく言えば、FETチップ等を搭載する超高周波セラ
ミックパッケージの改良に関するものである。
FETチップ等を搭載する超高周波セラミックパッケー
ジ(以下には単にセラミックパッケージという)は、接
地導体としてセラミック基板の外側に厚1111のメタ
ライズ面を用いてきたが、使用周波数が高くなるにつれ
て接地導体の構造が改良され、メタライズ面を金属ブロ
ック基体(筐体)に置き換え、接地インピーダンスを低
減したパッケージが開発された。この型のバフケージは
、金属ブロック基体、ラミネート構造の入力および出力
端子をもったセラミックの3つの構造体からなる。
ジ(以下には単にセラミックパッケージという)は、接
地導体としてセラミック基板の外側に厚1111のメタ
ライズ面を用いてきたが、使用周波数が高くなるにつれ
て接地導体の構造が改良され、メタライズ面を金属ブロ
ック基体(筐体)に置き換え、接地インピーダンスを低
減したパッケージが開発された。この型のバフケージは
、金属ブロック基体、ラミネート構造の入力および出力
端子をもったセラミックの3つの構造体からなる。
上記したパッケージは第2図に示され、同図(a)はパ
ッケージの平面図、同図(b)と(C)は同図fa)の
B−B線およびC−C線に沿う断面図で、図において、
31は銅ブロック(金属ブロック基体) 、32aと3
2bはセラミック体、33はアースブロック、34は入
力端子、35は出力端子、36はメタライズ層、37は
半導体チップ(以下単にチップという)、38はゲート
ワイヤ、39.41はソースワイヤ、40はドレインワ
イヤ、42はラミネート部を示し、図示のパッケージは
、銅ブロック31.2つのセラミック体32a、 32
bを主な構成部品とするものである。
ッケージの平面図、同図(b)と(C)は同図fa)の
B−B線およびC−C線に沿う断面図で、図において、
31は銅ブロック(金属ブロック基体) 、32aと3
2bはセラミック体、33はアースブロック、34は入
力端子、35は出力端子、36はメタライズ層、37は
半導体チップ(以下単にチップという)、38はゲート
ワイヤ、39.41はソースワイヤ、40はドレインワ
イヤ、42はラミネート部を示し、図示のパッケージは
、銅ブロック31.2つのセラミック体32a、 32
bを主な構成部品とするものである。
上記したパッケージについて、本発明者は下記の3つの
問題点を見出した。
問題点を見出した。
■セラミック体32a、 32bの嵌め合わせにおいて
位置ずれがあると、第3図の平面図に示される如く、入
力端子と出力端子の位置ずれが発生し、FET特性のバ
ラツキと性能劣化の原因となる。
位置ずれがあると、第3図の平面図に示される如く、入
力端子と出力端子の位置ずれが発生し、FET特性のバ
ラツキと性能劣化の原因となる。
■接地用に金属小片でアースブロックを形成しているの
で接地インピーダンスが比較的高<、加えて組立工数が
増える。
で接地インピーダンスが比較的高<、加えて組立工数が
増える。
■部品数が多いので、組立に位置ぎめ用の治具を用いる
必要があり、製造コストが高くなる。
必要があり、製造コストが高くなる。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、入出
力端子の位置ずれをなくし、アースプロソゲを接地イン
ピーダンスを低減するもので作り、構成部品点数を少な
くしたパッケージを提供することを目的とする。
力端子の位置ずれをなくし、アースプロソゲを接地イン
ピーダンスを低減するもので作り、構成部品点数を少な
くしたパッケージを提供することを目的とする。
第1図は(alは本発明実施例の平面図、同図(b)と
(C1は同図(alのB−B線とC−C線に沿う断面図
である。同図において、11は銅ブロック、12はセラ
ミック基板、I3は入力端子、14は出力端子、15は
ゲートワイヤ、16.18はソースワイヤ、17はドレ
インワイヤ、19はFETチップ、20はFETチップ
搭載用メタライズ層、21はセラミック体12上に設け
たメタライズ層、22はラミネート部である。
(C1は同図(alのB−B線とC−C線に沿う断面図
である。同図において、11は銅ブロック、12はセラ
ミック基板、I3は入力端子、14は出力端子、15は
ゲートワイヤ、16.18はソースワイヤ、17はドレ
インワイヤ、19はFETチップ、20はFETチップ
搭載用メタライズ層、21はセラミック体12上に設け
たメタライズ層、22はラミネート部である。
第1図において、FETチップ19を搭載するメタライ
ズ層20とラミネート部22を具備し、入力端子13と
出力端子14が形成されたセラミック基板12はH字型
に構成し、セラミック基板12の凹部12aと銅ブロッ
クの凸部11aとを嵌合する。
ズ層20とラミネート部22を具備し、入力端子13と
出力端子14が形成されたセラミック基板12はH字型
に構成し、セラミック基板12の凹部12aと銅ブロッ
クの凸部11aとを嵌合する。
上記のセラミックパッケージにおいては、アースは銅ブ
ロック11でとるので接地インピーダンスは小になり、
大きな部品は銅ブロック11とセラミック基板12の2
つであるので、組立工程が少なくコスト減になる。
ロック11でとるので接地インピーダンスは小になり、
大きな部品は銅ブロック11とセラミック基板12の2
つであるので、組立工程が少なくコスト減になる。
以下、図面を参照して本発明実施例を詳細に説明する。
第1図を再び参照すると、セラミック基板12には、半
導体チップ例えばFETチップ19を搭載するためのメ
タライズ層20と、ラミネート部22をもった入力端子
部(入力端子13が形成された部分)と出力端子部(出
力端子14をもった部分)とが形成されている。FET
チフプ搭載用のメタライズ層20も入出力端子部のメタ
ライズ層21と同じく金メッキで作る。そして、セラミ
ック基板12はH字型に作られ、中央部分に凹部12a
を提供する。このような構成であるので、入力端子13
と出力端子14とはメタライズ層20の上に搭載された
FETと同一線上に並び、入出力端子の位置ずれと、F
ETチップ19の搭載位置ずれがなくなり、第3図を参
照して説明した従来の問題点が解決される。なお、FE
Tチップ19は、ゲートワイヤ15により入力端子13
に、ドレインワイヤ17で出力端子14に接続され、ソ
ースワイヤエ6と18によって銅ブロックIIに接続さ
れている。
導体チップ例えばFETチップ19を搭載するためのメ
タライズ層20と、ラミネート部22をもった入力端子
部(入力端子13が形成された部分)と出力端子部(出
力端子14をもった部分)とが形成されている。FET
チフプ搭載用のメタライズ層20も入出力端子部のメタ
ライズ層21と同じく金メッキで作る。そして、セラミ
ック基板12はH字型に作られ、中央部分に凹部12a
を提供する。このような構成であるので、入力端子13
と出力端子14とはメタライズ層20の上に搭載された
FETと同一線上に並び、入出力端子の位置ずれと、F
ETチップ19の搭載位置ずれがなくなり、第3図を参
照して説明した従来の問題点が解決される。なお、FE
Tチップ19は、ゲートワイヤ15により入力端子13
に、ドレインワイヤ17で出力端子14に接続され、ソ
ースワイヤエ6と18によって銅ブロックIIに接続さ
れている。
前記した如く、セラミック基板12は凹部12aが形成
されたH字型の構造であり、この凹部12aと洞ブロッ
ク11の凸部11aとを嵌合し、例えばこれらを銀ろう
で接着する。かくして、従来の3部品点数が2に減り、
また銅ブロック11とセラミック基板12の位置ぎめは
、従来の位置ぎめ用の治具を必要とせず、パッケージの
製造コストを低減する。
されたH字型の構造であり、この凹部12aと洞ブロッ
ク11の凸部11aとを嵌合し、例えばこれらを銀ろう
で接着する。かくして、従来の3部品点数が2に減り、
また銅ブロック11とセラミック基板12の位置ぎめは
、従来の位置ぎめ用の治具を必要とせず、パッケージの
製造コストを低減する。
電気的接続については、従来はアース用に金属小片で作
ったアースブロックを用いたが、本発明実施例において
は洞ブロック11にソースワイヤ16゜18を接続する
ので、接地インピーダンスを低減する。
ったアースブロックを用いたが、本発明実施例において
は洞ブロック11にソースワイヤ16゜18を接続する
ので、接地インピーダンスを低減する。
以上述べてきたように本発明によれば、同一セラミック
基板上に入出力端子およびFETチップ搭載用メタライ
ズ層を形成し、アースブロックを銅ブロックの一部に設
け、部品を銅ブロックとセラミック基板の2点にするこ
とにより、従来の3つの問題が解決され、セラミックパ
ッケージの信頼性を高める一方で、その製造コストを低
減する効果がある。
基板上に入出力端子およびFETチップ搭載用メタライ
ズ層を形成し、アースブロックを銅ブロックの一部に設
け、部品を銅ブロックとセラミック基板の2点にするこ
とにより、従来の3つの問題が解決され、セラミックパ
ッケージの信頼性を高める一方で、その製造コストを低
減する効果がある。
第1図(alは本発明実施例の平面図、同図(blと(
C)は同図ta+のB−B線とC−C線に沿う断面図、
第2図(alは従来例の平面図、同図(blと(C)は
同図(alのB−B線とC−C線に沿う断面図、第3図
は従来例の問題点を示す平面図である。 第1図において、 11は銅ブロック、 11aは銅ブロックの凸部、 12はセラミック基板、 12aはセラミック基板の凹部、 13は入力端子、 14は出力端子、 15はゲートワイヤ、 16はソースワイヤ、 17はドレインワイヤ、 18はソースワイヤ、 19はFETチップ、 20はNETチップ搭載用のメタライズ層、21はメタ
ライズ層、 22はラミネート部である。
C)は同図ta+のB−B線とC−C線に沿う断面図、
第2図(alは従来例の平面図、同図(blと(C)は
同図(alのB−B線とC−C線に沿う断面図、第3図
は従来例の問題点を示す平面図である。 第1図において、 11は銅ブロック、 11aは銅ブロックの凸部、 12はセラミック基板、 12aはセラミック基板の凹部、 13は入力端子、 14は出力端子、 15はゲートワイヤ、 16はソースワイヤ、 17はドレインワイヤ、 18はソースワイヤ、 19はFETチップ、 20はNETチップ搭載用のメタライズ層、21はメタ
ライズ層、 22はラミネート部である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 超高周波用の半導体チップ(19)を搭載するパッケー
ジにして、 凹部(12a)をもったH字型のセラミック基板(12
)の両側に入力端子(13)と出力端子(14)を具備
した入出力端子部を設け、 半導体チップ(19)はセラミック基板(12)のメタ
ライズ層(20)上に接着して、ゲートワイヤ(15)
とドレインワイヤ(17)をそれぞれ入力端子部と出力
端子部に接続し、 セラミック基板の凹部(12a)と銅ブロック(11)
の凸部(11a)とを嵌合させてこれらを接着し、 ソースワイヤ(16)と(18)は銅ブロック(11)
に接続されてなることを特徴とするセラミックパッケー
ジ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60182263A JPH077813B2 (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | セラミツクパツケ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60182263A JPH077813B2 (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | セラミツクパツケ−ジ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6242546A true JPS6242546A (ja) | 1987-02-24 |
| JPH077813B2 JPH077813B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=16115193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60182263A Expired - Fee Related JPH077813B2 (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | セラミツクパツケ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH077813B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8370702B2 (en) | 2009-06-10 | 2013-02-05 | Micron Technology, Inc. | Error correcting codes for increased storage capacity in multilevel memory devices |
-
1985
- 1985-08-20 JP JP60182263A patent/JPH077813B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH077813B2 (ja) | 1995-01-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5391439A (en) | Leadframe adapted to support semiconductor elements | |
| US6084310A (en) | Semiconductor device, lead frame, and lead bonding | |
| US4937656A (en) | Semiconductor device | |
| US8035221B2 (en) | Clip mount for integrated circuit leadframes | |
| JPH11150225A (ja) | リードフレームベースの垂直相互接続パッケージ | |
| US11600561B2 (en) | Semiconductor device | |
| US7067963B2 (en) | Surface acoustic wave device | |
| JPS6242546A (ja) | セラミツクパツケ−ジ | |
| JP2001203301A (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
| JPS63146453A (ja) | 半導体パツケ−ジおよびその製造方法 | |
| JPS6392047A (ja) | 半導体用リ−ドフレ−ム | |
| JPH0817960A (ja) | Qfp構造半導体装置 | |
| JP2001308226A (ja) | 半導体装置 | |
| JP2652222B2 (ja) | 電子部品搭載用基板 | |
| JPH07226454A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS6130286Y2 (ja) | ||
| JP2509904B2 (ja) | 半導体装置用パツケ−ジ | |
| JP2001203321A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
| JPH0340951B2 (ja) | ||
| JPS6348129Y2 (ja) | ||
| JPH10150141A (ja) | 半導体装置及びこの半導体装置の実装方法 | |
| JPH066512Y2 (ja) | 集積回路パツケ−ジ | |
| JPS6329566A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0462942A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH02156662A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |