JPS6241725A - 屈折率分布型レンズの製造法 - Google Patents
屈折率分布型レンズの製造法Info
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- JPS6241725A JPS6241725A JP17656885A JP17656885A JPS6241725A JP S6241725 A JPS6241725 A JP S6241725A JP 17656885 A JP17656885 A JP 17656885A JP 17656885 A JP17656885 A JP 17656885A JP S6241725 A JPS6241725 A JP S6241725A
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- metal ions
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0095—Solution impregnating; Solution doping; Molecular stuffing, e.g. of porous glass
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/50—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with alkali metals
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
この発明は、屈折率分布型レンズの製造法に関する。さ
らに詳しくは、光ガイド、光通信システムの周辺光素子
、光学分析器や複写礪の光学系等の種々の分野に有用な
屈折率分布型レンズの製造法に関する。
らに詳しくは、光ガイド、光通信システムの周辺光素子
、光学分析器や複写礪の光学系等の種々の分野に有用な
屈折率分布型レンズの製造法に関する。
（ロ）従来の技術
透明媒質中の屈折率を変化させることによりレンズ作用
を付与させたいわゆる屈折率分布型レンズは、通常の光
学レンズに比して、平板状でレンズ作用を付与できる、
端面上に結像できる、結像特性を自由に選択できる、レ
ンズのアレイ化やマトリックス化が容易である等の種々
の利点を備えており、光通信分野において最近ことに注
目されている。
を付与させたいわゆる屈折率分布型レンズは、通常の光
学レンズに比して、平板状でレンズ作用を付与できる、
端面上に結像できる、結像特性を自由に選択できる、レ
ンズのアレイ化やマトリックス化が容易である等の種々
の利点を備えており、光通信分野において最近ことに注
目されている。
これらのうち、ガラス素材を用いた屈折率分布型レンズ
は、通常、■ガラス基体の一部を所定の溶融塩と接触さ
じて拡散によりイオン交換を行ないそれにより電子分極
率の大きな金属イオン（例えばタリウムやセシウム）を
ガラス基体内に不均一分布させて屈折率を変化させる方
法（イオン交換法）や、■ガラス基体を分相処理及び酸
処理して多孔質化し、これに電子分極率の大きな金属元
素の溶液を一部に接触させて含浸し濃度分布を形成し、
次いで乾燥、高温加熱処理等を行なって透明なガラス体
に変換する方法（モレキュラースタッフインク法〉で作
製されており、ことにイオン交換法■で得られたレンズ
はセルフォックレンズとして知られている。
は、通常、■ガラス基体の一部を所定の溶融塩と接触さ
じて拡散によりイオン交換を行ないそれにより電子分極
率の大きな金属イオン（例えばタリウムやセシウム）を
ガラス基体内に不均一分布させて屈折率を変化させる方
法（イオン交換法）や、■ガラス基体を分相処理及び酸
処理して多孔質化し、これに電子分極率の大きな金属元
素の溶液を一部に接触させて含浸し濃度分布を形成し、
次いで乾燥、高温加熱処理等を行なって透明なガラス体
に変換する方法（モレキュラースタッフインク法〉で作
製されており、ことにイオン交換法■で得られたレンズ
はセルフォックレンズとして知られている。
（ハ）発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記イオン交換法■では、イオンの拡散
や交換に極めて長時間（例えばマスクされたガラス基体
を溶融塩中に数日間浸漬）を要し、さらに長時間行なっ
てもイオン拡散に限界がありせいぜい直径５ｍｍ程度の
レンズしか１りることができなかった。一方、モレキュ
ラースタッフィング法では、ガラス基体の多孔質化が複
雑でかつ長時間を要しく例えば、分相処理に２日間、酸
処理に２０日間程度必要）また、取板いも複雑でかつ特
殊な設備を必要としする問題点があった。
や交換に極めて長時間（例えばマスクされたガラス基体
を溶融塩中に数日間浸漬）を要し、さらに長時間行なっ
てもイオン拡散に限界がありせいぜい直径５ｍｍ程度の
レンズしか１りることができなかった。一方、モレキュ
ラースタッフィング法では、ガラス基体の多孔質化が複
雑でかつ長時間を要しく例えば、分相処理に２日間、酸
処理に２０日間程度必要）また、取板いも複雑でかつ特
殊な設備を必要としする問題点があった。
この発明は、かかる状況に鑑みなされたものであり、こ
とに簡便にかつ短時間で屈折率分布型レンズが得られ、
しかもレンズ口径の大型化も容易に行なうことができる
製造方法を提供しようとするものである。
とに簡便にかつ短時間で屈折率分布型レンズが得られ、
しかもレンズ口径の大型化も容易に行なうことができる
製造方法を提供しようとするものである。
（ニ）問題点を解決するための手段及び作用かくしてこ
の発明によれば、金属アルコキシドの加水分解によりｊ
ｑられる多孔質ゲルを基体とし、この表面の一部に電子
分極率の大きな金属イオンの溶液を所定時間接触させて
該金属イオンを多孔質ゲル内に不均一拡散させ、次いで
この多孔質ゲルを高温加熱処理し【屈折率分布型レンズ
を（りることを特徴とする屈折重分イＦ型レンズの製造
法が提供される。
の発明によれば、金属アルコキシドの加水分解によりｊ
ｑられる多孔質ゲルを基体とし、この表面の一部に電子
分極率の大きな金属イオンの溶液を所定時間接触させて
該金属イオンを多孔質ゲル内に不均一拡散させ、次いで
この多孔質ゲルを高温加熱処理し【屈折率分布型レンズ
を（りることを特徴とする屈折重分イＦ型レンズの製造
法が提供される。
この発明は、金属アルコキシドを用いた溶液法によるガ
ラス製造において中間的に生成するゲル、すなわち加水
分解により得られるいわゆる多孔質ゲルを基材とし、こ
れに電子分極率の大きな金属イオンを溶液状態で接触さ
せることにより、この金属イオンが多孔質ゲル内で極め
て短時間で拡散及びイオン交換する事実、並びにこれを
焼結した無孔の酸化物ガラスが、拡散部分に対応（〕て
レンズ作用を示す事実に基づく。
ラス製造において中間的に生成するゲル、すなわち加水
分解により得られるいわゆる多孔質ゲルを基材とし、こ
れに電子分極率の大きな金属イオンを溶液状態で接触さ
せることにより、この金属イオンが多孔質ゲル内で極め
て短時間で拡散及びイオン交換する事実、並びにこれを
焼結した無孔の酸化物ガラスが、拡散部分に対応（〕て
レンズ作用を示す事実に基づく。
金属アルコキシドからの多孔質ゲルは加水分解により比
較的簡便に得ることができ、さらに拡散やイオン交換は
上記のごとく迅速に行なわれることとなる。従って、こ
の発明の方法によれば、簡便にかつ短時間で所望の屈折
率分布型レンズを得ることができる。
較的簡便に得ることができ、さらに拡散やイオン交換は
上記のごとく迅速に行なわれることとなる。従って、こ
の発明の方法によれば、簡便にかつ短時間で所望の屈折
率分布型レンズを得ることができる。
この発明に用いる金属アルコキシドとしては低級アルコ
キシ金属が適しており、Ｓｉ （ＯＣＨ３）４Ｓ！
（ＯＣ２Ｈ５）４、ＡＱ （ＯＣ３Ｈｙ ）３、Ｔ！
（ＯＣ３Ｈ７） ４ 、 Ｎａ ＯＣＨ３
、Ｂ（ＯＣｚｆゴ５）３等が挙げられ、これらのうち低
級アルコキシシランを用いるのが好適である。
キシ金属が適しており、Ｓｉ （ＯＣＨ３）４Ｓ！
（ＯＣ２Ｈ５）４、ＡＱ （ＯＣ３Ｈｙ ）３、Ｔ！
（ＯＣ３Ｈ７） ４ 、 Ｎａ ＯＣＨ３
、Ｂ（ＯＣｚｆゴ５）３等が挙げられ、これらのうち低
級アルコキシシランを用いるのが好適である。
この発明に用いる多孔質ゲルは、上記金属アルコキシド
の溶液を加水分解条件に付すことにより得られ、通常、
金属アルコキシドを含水親水性有機溶媒に溶解すると共
に加水分解促進剤としての酸を少量添加し緩和な温度下
で乾燥条件に付して加水分解及び溶媒の揮散を進めるこ
とにより１りられる。含水親水性有機溶媒としては含水
メタノール、含水エタノール等の水を含む揮発性有機溶
媒を用いるのが適当である。また少量添加する酸として
は、塩酸、硝酸、弗化水素酸等の鉱酸類が適しており、
溶液のｐＨが２〜５程度に調整されるように少量添加す
れば充分である。乾燥条件は自然乾燥でもよいが通常５
０〜８０℃程度加温下で徐々に行なうのが得られるゲル
の均一性の点で好ましい。
の溶液を加水分解条件に付すことにより得られ、通常、
金属アルコキシドを含水親水性有機溶媒に溶解すると共
に加水分解促進剤としての酸を少量添加し緩和な温度下
で乾燥条件に付して加水分解及び溶媒の揮散を進めるこ
とにより１りられる。含水親水性有機溶媒としては含水
メタノール、含水エタノール等の水を含む揮発性有機溶
媒を用いるのが適当である。また少量添加する酸として
は、塩酸、硝酸、弗化水素酸等の鉱酸類が適しており、
溶液のｐＨが２〜５程度に調整されるように少量添加す
れば充分である。乾燥条件は自然乾燥でもよいが通常５
０〜８０℃程度加温下で徐々に行なうのが得られるゲル
の均一性の点で好ましい。
乾燥条件を制御することにより通常、１５０〜２４０時
間で所望の多孔質ゲルが得られる。
間で所望の多孔質ゲルが得られる。
上記多孔質ゲルは次いで電子分極率の大きな金属イオン
の溶液と接触処理され、これは通常、該溶液中に浸漬す
ることにより行なわれる。この際、従来のイオン交換法
と同様に意図するレンズ形成部位の中心部付近にのみス
ポット的に上記溶液が接触するように、多孔質ゲル表面
に適当なマスキングを行なうことを要する。かかるマス
キングは通常、金属蒸着で行なわれる。かかる接触スポ
ットを１つの多孔質ゲルに多数形成させることによリア
レイ状やマトリックス状の屈折率分布型レンズを簡便に
得ることが可能である。
の溶液と接触処理され、これは通常、該溶液中に浸漬す
ることにより行なわれる。この際、従来のイオン交換法
と同様に意図するレンズ形成部位の中心部付近にのみス
ポット的に上記溶液が接触するように、多孔質ゲル表面
に適当なマスキングを行なうことを要する。かかるマス
キングは通常、金属蒸着で行なわれる。かかる接触スポ
ットを１つの多孔質ゲルに多数形成させることによリア
レイ状やマトリックス状の屈折率分布型レンズを簡便に
得ることが可能である。
上記、電子分極率の大きな金属イオンとしてはタリウム
イオンやセシウムイオンが適しているが、これと同程度
の電子分極率を有する他のイオンも適用可能である。こ
れらの溶液としてはこの金属イオンの易溶性塩の溶液を
用いるのが適しており、通常、水溶液の形態で用いられ
る。なお、接触時の上記溶液は常温でもよいが加熱状態
で接触させるのが迅速な金属イオンの拡散や交換の点で
好ましい。この溶液と接触した部位から多孔質ゲル中に
−Ｆ記金金属イオン侵入及び拡散すると共に、そこで多
孔質ゲルを構成する金属水酸化物の水酸基にＪ３ける水
素原子と部分的にイオン交換されて意図する濃度勾配を
有する金属イオンの不均一な拡散層が接触部位を中心と
して迅速に形成されることとなる。この際、接触時間を
調整することにより、拡散層の広がりを制御することが
でき、意図するレンズ口径が得られるように所定時間接
触を行なえばよい。通常、０．２〜５時間程度の接触で
充分だが、さらに長時間接触をおこなうことにより従来
のセルフォックレンズの口径限界以上のものが容易に作
製可能である。
イオンやセシウムイオンが適しているが、これと同程度
の電子分極率を有する他のイオンも適用可能である。こ
れらの溶液としてはこの金属イオンの易溶性塩の溶液を
用いるのが適しており、通常、水溶液の形態で用いられ
る。なお、接触時の上記溶液は常温でもよいが加熱状態
で接触させるのが迅速な金属イオンの拡散や交換の点で
好ましい。この溶液と接触した部位から多孔質ゲル中に
−Ｆ記金金属イオン侵入及び拡散すると共に、そこで多
孔質ゲルを構成する金属水酸化物の水酸基にＪ３ける水
素原子と部分的にイオン交換されて意図する濃度勾配を
有する金属イオンの不均一な拡散層が接触部位を中心と
して迅速に形成されることとなる。この際、接触時間を
調整することにより、拡散層の広がりを制御することが
でき、意図するレンズ口径が得られるように所定時間接
触を行なえばよい。通常、０．２〜５時間程度の接触で
充分だが、さらに長時間接触をおこなうことにより従来
のセルフォックレンズの口径限界以上のものが容易に作
製可能である。
上記のごとく金属イオンの不均一拡散層を有する多孔質
ゲルを高温加熱処理することにより該拡散層を含め該ゲ
ルが無孔の酸化物ガラスに変換され、所望の屈折率分布
型レンズが得られることとなる。この際の高温加熱処理
は通常１１００〜１３００℃の高温下で２〜１０時間程
度行なうのが適しており、均質性の点で徐々に上記温度
迄昇温しで処理を行なうのが好ましい なお、電子分極率の大きな金属イオンの接触処理を行な
う前に、上記基体の多孔質ゲルを予め加熱処理して多孔
質ガラスに変換した後、上記と同様に処理づ−ることに
より従来に比して簡便に屈折率分布型レンズを製造する
こともできる。従って、この発明は金属アルコキシドの
加水分解により得られる多孔質ゲルを熱処理して多孔質
ガラスとし、これを基体どしてこの表面の一部に電子分
極率の大きな金属イオンの溶液を所定時間接触させて該
金属イオンを多孔質ガラス内に不均一拡散させ、次いで
この多孔質ガラスを高温加熱処理して屈折率分布型レン
ズを得ることを特徴とする屈折率分布型レンズの製造法
をも提供するものである。この際、多孔質ゲルの多孔質
ガラスへの変換は２００〜８００℃の温度下で２〜２０
時間程度行なうのが適している。２０時間を越えると多
孔性が失なわれて金属イオンの拡散性が阻害され好まし
くない。
ゲルを高温加熱処理することにより該拡散層を含め該ゲ
ルが無孔の酸化物ガラスに変換され、所望の屈折率分布
型レンズが得られることとなる。この際の高温加熱処理
は通常１１００〜１３００℃の高温下で２〜１０時間程
度行なうのが適しており、均質性の点で徐々に上記温度
迄昇温しで処理を行なうのが好ましい なお、電子分極率の大きな金属イオンの接触処理を行な
う前に、上記基体の多孔質ゲルを予め加熱処理して多孔
質ガラスに変換した後、上記と同様に処理づ−ることに
より従来に比して簡便に屈折率分布型レンズを製造する
こともできる。従って、この発明は金属アルコキシドの
加水分解により得られる多孔質ゲルを熱処理して多孔質
ガラスとし、これを基体どしてこの表面の一部に電子分
極率の大きな金属イオンの溶液を所定時間接触させて該
金属イオンを多孔質ガラス内に不均一拡散させ、次いで
この多孔質ガラスを高温加熱処理して屈折率分布型レン
ズを得ることを特徴とする屈折率分布型レンズの製造法
をも提供するものである。この際、多孔質ゲルの多孔質
ガラスへの変換は２００〜８００℃の温度下で２〜２０
時間程度行なうのが適している。２０時間を越えると多
孔性が失なわれて金属イオンの拡散性が阻害され好まし
くない。
なお、上記多孔質ゲルや多孔質ガラスの形状は用途に応
じて任意に決定すればよいが、例えば円柱状体を用い、
半径方向に二乗分布近似で屈折率が変化するよう調整す
れば、従来のセルフォックレンズ相当品を簡便に得るこ
とができる。
じて任意に決定すればよいが、例えば円柱状体を用い、
半径方向に二乗分布近似で屈折率が変化するよう調整す
れば、従来のセルフォックレンズ相当品を簡便に得るこ
とができる。
（ホ）実流例
実施例１
ケイ酸エチルｓ ｉ （ＯＣ２ｔ−１ｓ ＞ ４ １
００ｚｆ、エタノール５０１１、水１００ ｘ！及び塩
酸１０１１を混合し、８０℃で２時間還流して均一なケ
イ酸エチルの溶液を得た。この溶液をポリスチロール製
容器り６０×５５Ｘ１０ｍｍ）に入れ、この容器の上部
に口径１ｍｍの気孔を５つあけ７０℃下に保持してケイ
酸エチルの加水分解と乾燥を徐々に行ない、７日後に２
５ｘ２２× ６ｍｍの平板状の乾燥多孔質ゲルを１がた
。
００ｚｆ、エタノール５０１１、水１００ ｘ！及び塩
酸１０１１を混合し、８０℃で２時間還流して均一なケ
イ酸エチルの溶液を得た。この溶液をポリスチロール製
容器り６０×５５Ｘ１０ｍｍ）に入れ、この容器の上部
に口径１ｍｍの気孔を５つあけ７０℃下に保持してケイ
酸エチルの加水分解と乾燥を徐々に行ない、７日後に２
５ｘ２２× ６ｍｍの平板状の乾燥多孔質ゲルを１がた
。
この平板状ゲルの表面にアルミニウムを蒸着することに
より、５ｍｍピッチで直径０ 、５ ｍｍの拡散孔を６
［ＩＪイＨするマスクを第１図のように形成し、この面
を硝酸タリウム水溶液（ＴρＮＯ３１０（＋／水１００
ｆｆＺ＞中に １００℃下で０．５時間浸漬して、タリ
ウムイオンを上記６個の孔を通じてゲル内に拡散させて
イオン交換法 多孔質ゲル、（４）は拡散孔（５１を有するマスクを示
すものである。
より、５ｍｍピッチで直径０ 、５ ｍｍの拡散孔を６
［ＩＪイＨするマスクを第１図のように形成し、この面
を硝酸タリウム水溶液（ＴρＮＯ３１０（＋／水１００
ｆｆＺ＞中に １００℃下で０．５時間浸漬して、タリ
ウムイオンを上記６個の孔を通じてゲル内に拡散させて
イオン交換法 多孔質ゲル、（４）は拡散孔（５１を有するマスクを示
すものである。
次いで、フッ素エツチングによりマスクを除去し、７０
℃下で １日間乾燥させ、６００℃まで５０℃／時間で
背部させ、６００℃で５時間保持しさらに９００℃まで
５０℃／時間で昇温しヘリウム雰囲気中で１１００℃ま
で５０℃／時間の背部下、高温加熱処理することにより
、多孔質ゲルが無孔の酸化物ガラスに変換され第２図に
示すごときこの発明の屈折率分布型平面レンズ（１）を
得た。図中（２は無孔のガラス層、（３）はタリウム元
素の拡散層をそれぞれ示すものである。
℃下で １日間乾燥させ、６００℃まで５０℃／時間で
背部させ、６００℃で５時間保持しさらに９００℃まで
５０℃／時間で昇温しヘリウム雰囲気中で１１００℃ま
で５０℃／時間の背部下、高温加熱処理することにより
、多孔質ゲルが無孔の酸化物ガラスに変換され第２図に
示すごときこの発明の屈折率分布型平面レンズ（１）を
得た。図中（２は無孔のガラス層、（３）はタリウム元
素の拡散層をそれぞれ示すものである。
この平面レンズは透明性は良好なものであり、６つの拡
散層相当部において、レンズロ径約１．３ｍｍの平＝凸
しンズ作用をそれぞれ示すものであつＩこ 。
散層相当部において、レンズロ径約１．３ｍｍの平＝凸
しンズ作用をそれぞれ示すものであつＩこ 。
実施例２
実施例１と同様にして作製したケイ酸エチルの加水分解
物からなる多孔質ゲルを予め熱処理して多孔質ガラスに
変換させた。この熱処理は、５０℃／時間で６００℃ま
で昇温し、６００℃下で５時間保持することにより行な
った。
物からなる多孔質ゲルを予め熱処理して多孔質ガラスに
変換させた。この熱処理は、５０℃／時間で６００℃ま
で昇温し、６００℃下で５時間保持することにより行な
った。
このよ・うにして得られた平板状の多孔質ガラスを基体
とし、この−面に実施例１と同様にマスクを形成さけ、
硝酸タリウム水溶液（ＴＱＮｏ。
とし、この−面に実施例１と同様にマスクを形成さけ、
硝酸タリウム水溶液（ＴＱＮｏ。
１０ｇ／水１００ｙｆ）中に １００℃下１時間役漬し
てクリラムイオンを各拡散孔を通じて多孔質ガラス内に
拡散させた。
てクリラムイオンを各拡散孔を通じて多孔質ガラス内に
拡散させた。
次いで、この多孔質ガラスを、実施例１と同じ加熱条件
で熱処理して焼結及び無孔化することにより第２図と同
様な平面レンズを得た。この平面レンズの特性は実施例
１と同様に良好なものであり、レンズ口径は約１．１ｍ
１Ｔｌであった。
で熱処理して焼結及び無孔化することにより第２図と同
様な平面レンズを得た。この平面レンズの特性は実施例
１と同様に良好なものであり、レンズ口径は約１．１ｍ
１Ｔｌであった。
（ホ）発明の効果
この発明の方法によれば、電子分極率の大きな金属イオ
ンの拡散を迅速に行なうことができ、さらに基体の作製
も比較的簡便に行なうことができる。従って、従来のイ
オン交換法やモレキコラースタッフインク法に比して取
扱いが簡便でより短時間で所望の屈折率分布型レンズを
得ることができる。そして多孔質ゲルを基体とした際に
は、ことに金属イオンの拡散を迅速に行なうことができ
ると共に予備加熱処理をとくに必要としないため極めて
有利である。
ンの拡散を迅速に行なうことができ、さらに基体の作製
も比較的簡便に行なうことができる。従って、従来のイ
オン交換法やモレキコラースタッフインク法に比して取
扱いが簡便でより短時間で所望の屈折率分布型レンズを
得ることができる。そして多孔質ゲルを基体とした際に
は、ことに金属イオンの拡散を迅速に行なうことができ
ると共に予備加熱処理をとくに必要としないため極めて
有利である。
また、拡散を短時間で行なえるため、従来に比して大口
径のレンズを作製することも可能である。
径のレンズを作製することも可能である。
第１図は、この発明の屈折率分布型レンズの製造法の一
工程を示す斜視図、第２図はこの発明の方法によって得
られた屈折率分布型平面レンズの一例を示す構成説明図
である。 （１）・・・・・・屈折率分布型平面レンズ、（２）・
・・・・・無孔のガラス層、 （３）・・・・・・タリウム元素の拡散層、（４）・・
・・・・マスク、 （５）・・・・・・拡散孔。 第 １ 図
工程を示す斜視図、第２図はこの発明の方法によって得
られた屈折率分布型平面レンズの一例を示す構成説明図
である。 （１）・・・・・・屈折率分布型平面レンズ、（２）・
・・・・・無孔のガラス層、 （３）・・・・・・タリウム元素の拡散層、（４）・・
・・・・マスク、 （５）・・・・・・拡散孔。 第 １ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、金属アルコキシドの加水分解により得られる多孔質
ゲルを基体とし、この表面の一部に電子分極率の大きな
金属イオンの溶液を所定時間接触させて該金属イオンを
多孔質ゲル内に不均一拡散させ、次いでこの多孔質ゲル
を高温加熱処理して屈折率分布型レンズを得ることを特
徴とする屈折率分布型レンズの製造法。 ２、電子分極率の大きな金属イオンがタリウム又はセシ
ウムイオンである特許請求の範囲第１項記載の製造法。 ３、金属アルコキシドの加水分解により得られる多孔質
ゲルを熱処理して多孔質ガラスとし、これを基体として
この表面の一部に電子分極率の大きな金属イオンの溶液
を所定時間接触させて該金属イオンを多孔質ガラス内に
不均一拡散させ、次いでこの多孔質ガラスを高温加熱処
理して屈折率分布型レンズを得ることを特徴とする屈折
率分布型レンズの製造法。 ４、電子分極率の大きな金属イオンがタリウム又はセシ
ウムイオンである特許請求の範囲第３項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17656885A JPS6241725A (ja) | 1985-08-10 | 1985-08-10 | 屈折率分布型レンズの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17656885A JPS6241725A (ja) | 1985-08-10 | 1985-08-10 | 屈折率分布型レンズの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6241725A true JPS6241725A (ja) | 1987-02-23 |
Family
ID=16015836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17656885A Pending JPS6241725A (ja) | 1985-08-10 | 1985-08-10 | 屈折率分布型レンズの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6241725A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012074080A1 (en) | 2010-11-30 | 2012-06-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing porous glass |
-
1985
- 1985-08-10 JP JP17656885A patent/JPS6241725A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012074080A1 (en) | 2010-11-30 | 2012-06-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing porous glass |
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