JPS61156007A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
光導波路の製造方法Info
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- JPS61156007A JPS61156007A JP59279015A JP27901584A JPS61156007A JP S61156007 A JPS61156007 A JP S61156007A JP 59279015 A JP59279015 A JP 59279015A JP 27901584 A JP27901584 A JP 27901584A JP S61156007 A JPS61156007 A JP S61156007A
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- Japan
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- glass body
- refractive index
- glass
- atoms
- porous glass
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/134—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms
- G02B6/1342—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms using diffusion
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は光導波路の製造方法、さらに詳しくはガラス体
に高屈折率部分がパターニングされた先導波路の製造方
法に関するものである。
に高屈折率部分がパターニングされた先導波路の製造方
法に関するものである。
従来この種の先導波路は、たとえば光量ニレ信学技報０
ＱＥ８１−１０９ （１９８１年）４７頁に記載された
ような方法により製造されていた。
ＱＥ８１−１０９ （１９８１年）４７頁に記載された
ような方法により製造されていた。
すなわち、マスクを装着させたガラス板をドープしたい
金属イオンの熔融塩に、たとえば６００℃で浸漬するこ
とによりドーピングを行い、光導波路を作製していた。
金属イオンの熔融塩に、たとえば６００℃で浸漬するこ
とによりドーピングを行い、光導波路を作製していた。
このような従来の方法においては、通常のガラス板を用
いているため、前記のようなドーピング条件となり、溶
融塩を用いるための加熱装置が必要である。さらに加熱
のみによりドーピングを行う場合には１００時間以上の
時間を要するという欠点があり、また電界を印加する場
合にはドーピング時間の短縮が得られる反面、前記電界
を印加する装置系が必要になるという欠点があった。
いているため、前記のようなドーピング条件となり、溶
融塩を用いるための加熱装置が必要である。さらに加熱
のみによりドーピングを行う場合には１００時間以上の
時間を要するという欠点があり、また電界を印加する場
合にはドーピング時間の短縮が得られる反面、前記電界
を印加する装置系が必要になるという欠点があった。
本発明は上述の点に鑑みなされたものであり、ドーパン
ト液に高温で浸漬する必要がなく、また電界を印加する
必要のない光導波路の製造方法、したがって加熱装置系
および電界印加装置系などの装置部を必要としない簡便
、かつコストの安価な光導波路の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
ト液に高温で浸漬する必要がなく、また電界を印加する
必要のない光導波路の製造方法、したがって加熱装置系
および電界印加装置系などの装置部を必要としない簡便
、かつコストの安価な光導波路の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
したがって本発明による光導波路の製造方法は、少なく
とも一種の金属アルコレートを含む金属アルコレート溶
液をゲル化乾燥させて多孔質ガラス体を形成せしめると
ともに、この多孔質ガラス体にマスクを装着させた後、
前記ガラスの屈折率を上昇させうる原子を含む雰囲気に
前記多孔質ガラス体を浸漬して前記多孔質ガラス体のマ
スクを装着しそいないドープ部に前記原子を拡散せしめ
、次いで前記ガラスの屈折率を下降させる原子を含む雰
囲気に一定時間浸漬し、乾燥させることを特徴とするも
のである。
とも一種の金属アルコレートを含む金属アルコレート溶
液をゲル化乾燥させて多孔質ガラス体を形成せしめると
ともに、この多孔質ガラス体にマスクを装着させた後、
前記ガラスの屈折率を上昇させうる原子を含む雰囲気に
前記多孔質ガラス体を浸漬して前記多孔質ガラス体のマ
スクを装着しそいないドープ部に前記原子を拡散せしめ
、次いで前記ガラスの屈折率を下降させる原子を含む雰
囲気に一定時間浸漬し、乾燥させることを特徴とするも
のである。
本発明による光導波路の製造方法によれば、多孔質ガラ
ス体を用いてガラスの屈折率を上昇させうる原子を含む
溶液（ドーパント溶液）あるいは気体に浸漬せしめるた
めに、加熱あるいは電界を印加することな（容畢にドー
パントをガラス体中に拡散せしめることが可能になると
いう利点がある。
ス体を用いてガラスの屈折率を上昇させうる原子を含む
溶液（ドーパント溶液）あるいは気体に浸漬せしめるた
めに、加熱あるいは電界を印加することな（容畢にドー
パントをガラス体中に拡散せしめることが可能になると
いう利点がある。
本発明をさらに詳しく説明する。
本発明による先導波路の製造方法は、まず少なくとも一
種以上の金属アルコレートを含む金属アルコレート溶液
をゲル化させ、乾燥した多孔質ガラス体を用意する。
種以上の金属アルコレートを含む金属アルコレート溶液
をゲル化させ、乾燥した多孔質ガラス体を用意する。
このような金属アルコレート溶液は、少なくとも一種以
上の金属アルコレート、水および必要ならばメタノール
、エタノール、プロパツールなどのアルコール系溶媒、
さらには酸、塩基などを含むものである。前述の金属ア
ルコレートとしては、たとえばテトラエトキシシラン、
テトラメトキシシランなどが例として挙げることができ
るが、本発明においてはこれに限定されるものではない
のは明らかである。また第４４回応用物理学会学術講演
会予稿集２６ｐ−３−２（１９８３）１６９頁と同様な
方法で適当な凹凸パターンを多孔質ガラス体に形成した
ものであってもよい。すなわち、所望パターンの凹凸を
有する転写型を金属アルコレート溶液に接触させ、前記
金属アルコレート溶液をゲル化後前記転写型を除去し乾
燥することにより、所望パターン形状の凹凸を有する多
孔質ガラス体を形成せしめ、その後、所定凸部などにマ
スクをしてドープ部を形成してもよい。このような型と
しては、前記アルコレート溶液に侵されないものであれ
ばいかなるものでもよい。たとえばシリコーン樹脂など
の合成樹脂フィルムあるいはプラスティック、金属、ガ
ラス製などの型を用いることができる。
上の金属アルコレート、水および必要ならばメタノール
、エタノール、プロパツールなどのアルコール系溶媒、
さらには酸、塩基などを含むものである。前述の金属ア
ルコレートとしては、たとえばテトラエトキシシラン、
テトラメトキシシランなどが例として挙げることができ
るが、本発明においてはこれに限定されるものではない
のは明らかである。また第４４回応用物理学会学術講演
会予稿集２６ｐ−３−２（１９８３）１６９頁と同様な
方法で適当な凹凸パターンを多孔質ガラス体に形成した
ものであってもよい。すなわち、所望パターンの凹凸を
有する転写型を金属アルコレート溶液に接触させ、前記
金属アルコレート溶液をゲル化後前記転写型を除去し乾
燥することにより、所望パターン形状の凹凸を有する多
孔質ガラス体を形成せしめ、その後、所定凸部などにマ
スクをしてドープ部を形成してもよい。このような型と
しては、前記アルコレート溶液に侵されないものであれ
ばいかなるものでもよい。たとえばシリコーン樹脂など
の合成樹脂フィルムあるいはプラスティック、金属、ガ
ラス製などの型を用いることができる。
また、前述のような所望パターン形状の凹凸を形成しな
い多孔質ガラス体を用いる場合にあっては、前述のよう
な多孔質ガラス体に所望パターンを形成したマスクを装
着させ、これをガラスの屈折率を上げる原子を含む溶液
あるいは気体のドーパント雰囲気中に浸漬し、前記原子
をマスクに覆われていない部分、すなわちドープ部に拡
散させる。
い多孔質ガラス体を用いる場合にあっては、前述のよう
な多孔質ガラス体に所望パターンを形成したマスクを装
着させ、これをガラスの屈折率を上げる原子を含む溶液
あるいは気体のドーパント雰囲気中に浸漬し、前記原子
をマスクに覆われていない部分、すなわちドープ部に拡
散させる。
前述のようなガラスの屈折率を上昇させる原子を含む溶
液、すなわちドーパント溶液は本発明において限定され
るものではなく、前述の原子を含む溶液であればいかな
るものでもよい。たとえばアセチルアセトネートアルミ
ニウムのアルコール溶液、塩化アルミニウムのアルコー
ル溶液、塩化アルミニウム水溶液、四塩化ゲルマニウム
のエーテル溶液、リン酸水溶液、三臭化チタンのアセト
ン溶液、ゲルマニウム、チタン、アルミニウムなどのア
ルコレート溶液などの一種以上などを用いることができ
る。また気相雰囲気においてドーピングを行う場合にあ
っては、上述の溶液をバブラーを用いて気体化させた雰
囲気に曝すことにより達成できる。
液、すなわちドーパント溶液は本発明において限定され
るものではなく、前述の原子を含む溶液であればいかな
るものでもよい。たとえばアセチルアセトネートアルミ
ニウムのアルコール溶液、塩化アルミニウムのアルコー
ル溶液、塩化アルミニウム水溶液、四塩化ゲルマニウム
のエーテル溶液、リン酸水溶液、三臭化チタンのアセト
ン溶液、ゲルマニウム、チタン、アルミニウムなどのア
ルコレート溶液などの一種以上などを用いることができ
る。また気相雰囲気においてドーピングを行う場合にあ
っては、上述の溶液をバブラーを用いて気体化させた雰
囲気に曝すことにより達成できる。
このようなドーパント溶液への浸漬は、溶媒の蒸発温度
以下で、１〜４８時間行うのがよい。浸漬温度が溶媒の
蒸発温度を越えると、溶媒が蒸発してしまい充分にドー
パントがドープできない虞があるからである。また、浸
漬時間が１時間未満であると、前記原子の拡散が不充分
である虞があるとともに、ドーパントの拡散の制御が困
難になり、一方、４８時間を越えて浸漬するのは、ドー
プに時間がかかりすぎ、経済的に得策ではなくなる。
以下で、１〜４８時間行うのがよい。浸漬温度が溶媒の
蒸発温度を越えると、溶媒が蒸発してしまい充分にドー
パントがドープできない虞があるからである。また、浸
漬時間が１時間未満であると、前記原子の拡散が不充分
である虞があるとともに、ドーパントの拡散の制御が困
難になり、一方、４８時間を越えて浸漬するのは、ドー
プに時間がかかりすぎ、経済的に得策ではなくなる。
このようにドーパントをドープ部に拡散させた後、前記
マスクを除去するとともに、ガラスの屈折率を下げうる
原子を含む雰囲気中に置き、多孔質ガラス体の表面近く
に前記原子を拡散させる。
マスクを除去するとともに、ガラスの屈折率を下げうる
原子を含む雰囲気中に置き、多孔質ガラス体の表面近く
に前記原子を拡散させる。
前記原子を含む雰囲気は液相、気相を問わないのは前述
の屈折率を上昇させる原子をドープする場合と同様であ
る。このような拡散を液相において行う場合、ガラスの
屈折率を低下させうる原子を含む溶液中に浸漬する。浸
漬温度は、好ましくは溶媒の蒸発温度以下である。浸漬
温度が溶媒の蒸発温度を越えると、溶媒が蒸発してしま
い充分にドーパントがドープできない虞があるからであ
る。さらに浸漬時間は、好ましくは１０分〜２４時間で
あるのがよい。浸漬時間が１０分未満であると、充分に
前記原子が拡散されない虞があり、一方２４時間を越え
て浸漬する場合はドーピングに時間がかかりすぎ、経済
的ではないからである。
の屈折率を上昇させる原子をドープする場合と同様であ
る。このような拡散を液相において行う場合、ガラスの
屈折率を低下させうる原子を含む溶液中に浸漬する。浸
漬温度は、好ましくは溶媒の蒸発温度以下である。浸漬
温度が溶媒の蒸発温度を越えると、溶媒が蒸発してしま
い充分にドーパントがドープできない虞があるからであ
る。さらに浸漬時間は、好ましくは１０分〜２４時間で
あるのがよい。浸漬時間が１０分未満であると、充分に
前記原子が拡散されない虞があり、一方２４時間を越え
て浸漬する場合はドーピングに時間がかかりすぎ、経済
的ではないからである。
前述のようがガラスの屈折率を低下させる原子を含む溶
液は、本発明において基本的に限定されるものではなく
、ガラスの屈折率を低下させる原子を含む溶液であれば
いかなるものでもよい。たとえば、テトラボラン、ペン
タボラン、デカボラン等を主成分とする液を挙げること
ができる。
液は、本発明において基本的に限定されるものではなく
、ガラスの屈折率を低下させる原子を含む溶液であれば
いかなるものでもよい。たとえば、テトラボラン、ペン
タボラン、デカボラン等を主成分とする液を挙げること
ができる。
さらに気相において前記ガラスの屈折率を低下させる原
子を多孔質ガラス体に拡散させる場合においては、前記
原子を含む気相雰囲気に多孔質ガラス体を曝すことによ
り行う。このような気相雰囲気は本発明において、基本
的に限定されるものではなく、前記原子を含む気相雰囲
気であればいかなるものであってもよい。たとえば前述
のテトラボラン、ペンタボラン、デカボラン等を主成分
とする液をバブラーを用いて気体化した雰囲気などであ
ることができる。
子を多孔質ガラス体に拡散させる場合においては、前記
原子を含む気相雰囲気に多孔質ガラス体を曝すことによ
り行う。このような気相雰囲気は本発明において、基本
的に限定されるものではなく、前記原子を含む気相雰囲
気であればいかなるものであってもよい。たとえば前述
のテトラボラン、ペンタボラン、デカボラン等を主成分
とする液をバブラーを用いて気体化した雰囲気などであ
ることができる。
次ぎに本発明の先導波路の製造方法を図面に基づきさら
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明による光導波路の製造方法の一具体例を
示す概略図であり、図中１は多孔質ガラス体、２はマス
ク、３はドーパント溶液、４はガラスの屈折率を低下さ
せうる原子を含む溶液を示す。
示す概略図であり、図中１は多孔質ガラス体、２はマス
ク、３はドーパント溶液、４はガラスの屈折率を低下さ
せうる原子を含む溶液を示す。
この第１図より明らかなように、本発明による光導波路
の製造方法にあっては、まず少なくとも一種以上の金属
アルコレート、水、有機溶媒を主成分とする金属アルコ
レート溶液をゲル化させ、多孔質ガラス体１を形成させ
る（第１図（ａ））。
の製造方法にあっては、まず少なくとも一種以上の金属
アルコレート、水、有機溶媒を主成分とする金属アルコ
レート溶液をゲル化させ、多孔質ガラス体１を形成させ
る（第１図（ａ））。
次ぎにこの多孔質ガラス体１に所望パターンが形成され
たマスク２を積層するとともに、このマスク２を積層し
た多孔質ガラス体１をドーパント溶液３に浸漬し、前記
ドーパント溶液３中に含まれるガラスの屈折率を上昇さ
せる原子をガラス１中に拡散させる（第１図（ｂ））。
たマスク２を積層するとともに、このマスク２を積層し
た多孔質ガラス体１をドーパント溶液３に浸漬し、前記
ドーパント溶液３中に含まれるガラスの屈折率を上昇さ
せる原子をガラス１中に拡散させる（第１図（ｂ））。
このときのドープ部のＡ線に沿った屈折率分布を第３図
に示す。
に示す。
次ぎにマスク２を除去した前記ガラス体１を前記ガラス
体１の屈折率を低下させうる原子を含む溶液４中に浸漬
し、前記多孔質ガラス体１の表面近くに前記原子を拡散
させる（第１図（Ｃ））。このときのドープ部のＢ線に
沿った屈折率分布は第４図に示すようになっており、そ
の断面は円形に近い形状になる（第１図（ｄ））。次ぎ
にこれを乾燥させ、光導波路を製造する。この導波路を
再度加熱し、穴のないガラスまで焼結することも可能で
ある。
体１の屈折率を低下させうる原子を含む溶液４中に浸漬
し、前記多孔質ガラス体１の表面近くに前記原子を拡散
させる（第１図（Ｃ））。このときのドープ部のＢ線に
沿った屈折率分布は第４図に示すようになっており、そ
の断面は円形に近い形状になる（第１図（ｄ））。次ぎ
にこれを乾燥させ、光導波路を製造する。この導波路を
再度加熱し、穴のないガラスまで焼結することも可能で
ある。
第２図は本発明による光導波路の第２の具体例を説明す
るためのものである。この具体例によれば多孔質ガラス
体１ （第２図（ａ））を用意し、この多孔質ガラス体
１に所定パターンのマスク２を被せるとともにガラスの
屈折率を挙げうる原子を含む気体５中に入れる（第２図
（ｂ））。次ぎにマスク２を除去したのち、ガラスの屈
折率を低下させうる原子を含む気体６中に入れ、前記原
子を多孔質ガラス体１の表面に拡散させる（第２図（Ｃ
））。このように製造された多孔質ガラ、ス体１を乾燥
し、導波路とするものである。第２図において、Ａおよ
びＢ線に沿った屈折率分布は前述の液相において製造し
たものと同様である（第３図および第４図参照）。
るためのものである。この具体例によれば多孔質ガラス
体１ （第２図（ａ））を用意し、この多孔質ガラス体
１に所定パターンのマスク２を被せるとともにガラスの
屈折率を挙げうる原子を含む気体５中に入れる（第２図
（ｂ））。次ぎにマスク２を除去したのち、ガラスの屈
折率を低下させうる原子を含む気体６中に入れ、前記原
子を多孔質ガラス体１の表面に拡散させる（第２図（Ｃ
））。このように製造された多孔質ガラ、ス体１を乾燥
し、導波路とするものである。第２図において、Ａおよ
びＢ線に沿った屈折率分布は前述の液相において製造し
たものと同様である（第３図および第４図参照）。
次ぎに実施例について説明する。
実施例１
テトラメトキシシラン、水、メチルアルコールＦｌ ：
４ ： ４モルで混合した金属アルコレート溶液を３
０℃でゲル化乾燥後、７００°Ｃまで加熱し、多孔質ガ
ラス体を得た。これに４０μｍ幅の導波路パターンマス
クを装着せしめ、二塩化ゲルマン中に２５℃で３時間浸
漬した。次ぎにデカボランの０．１モル／１メチルアル
コール溶液に１時間浸漬したのち、取り出し、乾燥させ
た。
４ ： ４モルで混合した金属アルコレート溶液を３
０℃でゲル化乾燥後、７００°Ｃまで加熱し、多孔質ガ
ラス体を得た。これに４０μｍ幅の導波路パターンマス
クを装着せしめ、二塩化ゲルマン中に２５℃で３時間浸
漬した。次ぎにデカボランの０．１モル／１メチルアル
コール溶液に１時間浸漬したのち、取り出し、乾燥させ
た。
この結果太さ約５０μｍの円形に近い断面を有する先導
波路を得た。屈折率差は１．１％で導波損失は約１．５
ｄＢ／ｃｍであった。
波路を得た。屈折率差は１．１％で導波損失は約１．５
ｄＢ／ｃｍであった。
実施例２
テトラメトキシシラン、水、メチルアルコールヲｌ ：
４ ： ４モルで混合した金属アルコレート溶液をで
ゲル化乾燥後、９００℃まで加熱し、多孔質ガラス体を
得た。この多孔質ガラスに１＝２のカップラーのマスク
を装着し、窒素でバブリングした四塩化チタンの雰囲気
中に３０℃で８時間放置し、次ぎに窒素でバブリングし
たペンタボランの雰囲気中に２時間置いた。このガラス
体を１２００℃まで加熱し、完全にガラス化した。これ
に５０μｍφコアの光ファイバを接続し、光を２つに分
配させたところ、過剰損失は１．３ｄＢ、分配むら０．
３ｄＢであった。
４ ： ４モルで混合した金属アルコレート溶液をで
ゲル化乾燥後、９００℃まで加熱し、多孔質ガラス体を
得た。この多孔質ガラスに１＝２のカップラーのマスク
を装着し、窒素でバブリングした四塩化チタンの雰囲気
中に３０℃で８時間放置し、次ぎに窒素でバブリングし
たペンタボランの雰囲気中に２時間置いた。このガラス
体を１２００℃まで加熱し、完全にガラス化した。これ
に５０μｍφコアの光ファイバを接続し、光を２つに分
配させたところ、過剰損失は１．３ｄＢ、分配むら０．
３ｄＢであった。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明による先導波路の製造方法
によれば、高温の熔融塩に長時間浸漬したり、電界を印
加するための装置を必要としたりすることがなく、簡便
な装置で、しかも円形に近い断面を有する光導波路が得
られるため、光ファイバと接続損失の少ない光導波路が
安価に、かつ容易に製造できるという利点がある。
によれば、高温の熔融塩に長時間浸漬したり、電界を印
加するための装置を必要としたりすることがなく、簡便
な装置で、しかも円形に近い断面を有する光導波路が得
られるため、光ファイバと接続損失の少ない光導波路が
安価に、かつ容易に製造できるという利点がある。
第１図は本発明による光導波路の製造方法の一具体例の
説明図、第２図は本発明による先導波路の製造方法の他
の具体例の説明図、第３図は第１図および第２図におけ
る断面Ａにおける屈折率分布を示す図、第４図は第１図
および第２図における断面Ｂにおける屈折率分布を示す
図である。 １・・・多孔質ガラス体、２・・・マスク、３・・・ド
ーパント溶液、４・・・ガラスの屈折率を低下させうる
原子を含む溶液、５・・・ガラスの屈折率を上昇させう
る原子を含む気体、６・・・ガラスの屈折率を低下させ
うる原子を含む気体。 出願人代理人 雨 宮 正 季第１図 第
２図
説明図、第２図は本発明による先導波路の製造方法の他
の具体例の説明図、第３図は第１図および第２図におけ
る断面Ａにおける屈折率分布を示す図、第４図は第１図
および第２図における断面Ｂにおける屈折率分布を示す
図である。 １・・・多孔質ガラス体、２・・・マスク、３・・・ド
ーパント溶液、４・・・ガラスの屈折率を低下させうる
原子を含む溶液、５・・・ガラスの屈折率を上昇させう
る原子を含む気体、６・・・ガラスの屈折率を低下させ
うる原子を含む気体。 出願人代理人 雨 宮 正 季第１図 第
２図
Claims (1)
- （１）少なくとも一種の金属アルコレートを含む金属ア
ルコレート溶液をゲル化乾燥させて多孔質ガラス体を形
成せしめるとともに、この多孔質ガラス体にマスクを装
着させた後、前記ガラスの屈折率を上昇させうる原子を
含む雰囲気に前記多孔質ガラス体を浸漬して前記多孔質
ガラス体のマスクを装着していないドープ部に前記原子
を拡散せしめ、次いで前記ガラスの屈折率を下降させる
原子を含む雰囲気に一定時間浸漬し、乾燥させることを
特徴とする光導波路の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59279015A JPS61156007A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59279015A JPS61156007A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 光導波路の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61156007A true JPS61156007A (ja) | 1986-07-15 |
Family
ID=17605201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59279015A Pending JPS61156007A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61156007A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02259607A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光導波路の製造方法 |
| JP2007269599A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | 金属とセラミックの複合体及びその製造方法、並びに、電子注入型屈折率変化素子及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-12-27 JP JP59279015A patent/JPS61156007A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02259607A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光導波路の製造方法 |
| JP2007269599A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | 金属とセラミックの複合体及びその製造方法、並びに、電子注入型屈折率変化素子及びその製造方法 |
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