JPS623979B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS623979B2 JPS623979B2 JP55162341A JP16234180A JPS623979B2 JP S623979 B2 JPS623979 B2 JP S623979B2 JP 55162341 A JP55162341 A JP 55162341A JP 16234180 A JP16234180 A JP 16234180A JP S623979 B2 JPS623979 B2 JP S623979B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- substrate
- base body
- glass substrate
- protrusion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 25
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Reciprocating Conveyors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば半導体素子製造用のレチクル
又はフオト・マスク等のガラス基板を搬送する装
置に関する。
又はフオト・マスク等のガラス基板を搬送する装
置に関する。
従来のこの種の装置は、焼付又は検査を行なう
ステージに直接手でガラス基板を取り付けたり、
スライダを介してステージに送り込んでいた。後
者の方式はスライダにガラス基板を載置するだけ
で自動的にステージまで搬送される点で有効なも
のであるが、スライダへのガラス基板の載置作業
に難点があつた。即ち、従来のスライダの載置面
はガラス基板と同等の大きさをもつた平坦なもの
であつたので、ガラス基板が載せ難かつたのであ
る。
ステージに直接手でガラス基板を取り付けたり、
スライダを介してステージに送り込んでいた。後
者の方式はスライダにガラス基板を載置するだけ
で自動的にステージまで搬送される点で有効なも
のであるが、スライダへのガラス基板の載置作業
に難点があつた。即ち、従来のスライダの載置面
はガラス基板と同等の大きさをもつた平坦なもの
であつたので、ガラス基板が載せ難かつたのであ
る。
また、搬送装置の高さが高くなりがちな欠点が
あつた。
あつた。
本発明の目的は、上記従来例における欠点を解
消すること、即ちガラス基板等を載置し易くした
基板等の搬送装置であつて、全体の高さが低く抑
えられた搬送装置を提供することにある。
消すること、即ちガラス基板等を載置し易くした
基板等の搬送装置であつて、全体の高さが低く抑
えられた搬送装置を提供することにある。
本発明の目的は、上記欠点を解決するためにガ
ラス基板を載置しやすくしたガラス基板等の搬送
装置を提供することである。
ラス基板を載置しやすくしたガラス基板等の搬送
装置を提供することである。
本発明はこの目的を達成するために本発明は、
レチクル、フオトマスク等の基板の周縁を支持す
る枠状のスライダー９と、このスライダーを支持
するガイドレール１ａ，１ｂを有し、スライダー
９をそのガイドレールに沿つて第１位置（基板の
装置へのセツト位置）と第２位置（加工、又は検
査等の装置のステージ）との間で水平移動可能と
した基体１と、この基体を上下動可能に案内する
ガイド部材３，４と、スライダーが第１位置にあ
るとき、スライダーの枠の内側に位置して、基板
を載置し得る突部１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５
ｄを備えた上下動可能な載置部材１４と、第１位
置において突部１５がスライダーの保持面よりも
上方に位置した状態と、突部がスライダーの保持
面よりも下方に位置した状態とが択一的に得られ
るように基体と載置部材とを逆位相に上下動させ
る駆動手段（モータM1、カム群５、軸６，７、
カム群１６）とを設けることを技術的要点として
いる。
レチクル、フオトマスク等の基板の周縁を支持す
る枠状のスライダー９と、このスライダーを支持
するガイドレール１ａ，１ｂを有し、スライダー
９をそのガイドレールに沿つて第１位置（基板の
装置へのセツト位置）と第２位置（加工、又は検
査等の装置のステージ）との間で水平移動可能と
した基体１と、この基体を上下動可能に案内する
ガイド部材３，４と、スライダーが第１位置にあ
るとき、スライダーの枠の内側に位置して、基板
を載置し得る突部１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５
ｄを備えた上下動可能な載置部材１４と、第１位
置において突部１５がスライダーの保持面よりも
上方に位置した状態と、突部がスライダーの保持
面よりも下方に位置した状態とが択一的に得られ
るように基体と載置部材とを逆位相に上下動させ
る駆動手段（モータM1、カム群５、軸６，７、
カム群１６）とを設けることを技術的要点として
いる。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。第
１図において４本のフレームによつて四角形に組
立てられた基体１は、フレームとしてのガイドレ
ール１ａ，１ｂを備えている。基体１は複数のガ
イド部材３によつて上下方向に移動可能に支持さ
れている。基体１とガイド部材３との間にはベア
リング４が介在している。ガイドレール１ａ及び
１ｂはそれぞれ軸６に固定された第１のカム群５
ａ，５ｂ及び軸７に固定された第２のカム群５
ｃ，５ｄ上に担持されている。軸６と軸７はベル
ト８によつて連結されており、モータM1の回転
により互いに逆転する。ここでカム群５ａ，５
ｂ；５ｃ，５ｄは互いに逆転しても基体１を水平
に上下動するように形状が決定されている。また
カム５ａ，５ｂ；５ｃ，５ｄのカム面にはベアリ
ングが取り付けられている。
１図において４本のフレームによつて四角形に組
立てられた基体１は、フレームとしてのガイドレ
ール１ａ，１ｂを備えている。基体１は複数のガ
イド部材３によつて上下方向に移動可能に支持さ
れている。基体１とガイド部材３との間にはベア
リング４が介在している。ガイドレール１ａ及び
１ｂはそれぞれ軸６に固定された第１のカム群５
ａ，５ｂ及び軸７に固定された第２のカム群５
ｃ，５ｄ上に担持されている。軸６と軸７はベル
ト８によつて連結されており、モータM1の回転
により互いに逆転する。ここでカム群５ａ，５
ｂ；５ｃ，５ｄは互いに逆転しても基体１を水平
に上下動するように形状が決定されている。また
カム５ａ，５ｂ；５ｃ，５ｄのカム面にはベアリ
ングが取り付けられている。
スライダ９はガイドレール１ａ，１ｂの溝面と
上下、水平共に四対のベアリング１０ａ，１０
ｂ；１１ａ，１１ｂのみ図示）を介して接触して
おり、水平移動可能に案内されている。ベルト１
２は所定箇所でスライダ９と接続されており、モ
ータM2の回転でスライダ９は水平移動する。ス
ライダ９の四隅には真空チヤツク用の吸気孔（第
１図では１３ａ，１３ｂのみが示されている）が
設けられている。
上下、水平共に四対のベアリング１０ａ，１０
ｂ；１１ａ，１１ｂのみ図示）を介して接触して
おり、水平移動可能に案内されている。ベルト１
２は所定箇所でスライダ９と接続されており、モ
ータM2の回転でスライダ９は水平移動する。ス
ライダ９の四隅には真空チヤツク用の吸気孔（第
１図では１３ａ，１３ｂのみが示されている）が
設けられている。
基体１の下方には四本の突起（第１図では１５
ａ，１５ｂ，１５ｃのみ図示）が植設された基板
１４が配置されている。各突起の上端面にはガラ
ス基板の位置決め用マーク（例えば十字状のマー
ク）が設けられている。軸６の回転を伝達される
四つの第３のカム群（ここではカム１６ａ，１６
ｃのみが示されているが、カム１６ａは軸６に固
定され、カム１６ｃはベルト１７を介して駆動さ
れる。また突起１５ｂの下方にはカム１６ｂがあ
り、突起１５ａの下方にはカム１６ｄがある）
は、基板１４を担持する。また基板１４は上下方
向に可能となるよう支持体（不図示）によつて支
持されている。
ａ，１５ｂ，１５ｃのみ図示）が植設された基板
１４が配置されている。各突起の上端面にはガラ
ス基板の位置決め用マーク（例えば十字状のマー
ク）が設けられている。軸６の回転を伝達される
四つの第３のカム群（ここではカム１６ａ，１６
ｃのみが示されているが、カム１６ａは軸６に固
定され、カム１６ｃはベルト１７を介して駆動さ
れる。また突起１５ｂの下方にはカム１６ｂがあ
り、突起１５ａの下方にはカム１６ｄがある）
は、基板１４を担持する。また基板１４は上下方
向に可能となるよう支持体（不図示）によつて支
持されている。
ここで、第１、第２のカム群５ａ，５ｂ；５
ｃ，５ｄと第３のカム群１６ａ〜１６ｄとは、基
体１と基板１４とが互いに接近する方向あるいは
互いに離れる方向に上下動するようにカム面の位
相関係が定めてある。
ｃ，５ｄと第３のカム群１６ａ〜１６ｄとは、基
体１と基板１４とが互いに接近する方向あるいは
互いに離れる方向に上下動するようにカム面の位
相関係が定めてある。
次に、第２図〜第７図も参照して動作を説明す
る。まず第１図に図示の状態からスライダ９を左
下方に引き戻すようにモータM2を回転させる。
そして、スライダ９が基板１４と対向した位置
（第１位置）でモータM2の回転を停止する。この
とき、モータM1は回転せず、基体１と基板１４
とは互いに垂直方向に離れた位置となるように第
１、２のカム群５ａ，５ｂ；５ｃ，５ｄと第３の
カム群１６ｃ，１６ｄの位相が固定されている。
る。まず第１図に図示の状態からスライダ９を左
下方に引き戻すようにモータM2を回転させる。
そして、スライダ９が基板１４と対向した位置
（第１位置）でモータM2の回転を停止する。この
とき、モータM1は回転せず、基体１と基板１４
とは互いに垂直方向に離れた位置となるように第
１、２のカム群５ａ，５ｂ；５ｃ，５ｄと第３の
カム群１６ｃ，１６ｄの位相が固定されている。
スライダ９と基板１４とが対向した後、モータ
M1を回転して、基体１と基板１４とを互いに接
近させる。つまり、第１、２のカム群の作用によ
つて基体１は下方へ摺動し、第３のカム群の作用
によつて基板１４は上方へ摺動する。そして、第
２図及び第３図に示すようにスライダ９の内側の
空間部を通して突起１５ａ〜１５ｄがスライダ９
の上面よりも所定量突出するとモータM1の回転
は停止する。この状態においては基体１は上下動
範囲の下端にあり、基板１４は上下動範囲の上端
に位置する。
M1を回転して、基体１と基板１４とを互いに接
近させる。つまり、第１、２のカム群の作用によ
つて基体１は下方へ摺動し、第３のカム群の作用
によつて基板１４は上方へ摺動する。そして、第
２図及び第３図に示すようにスライダ９の内側の
空間部を通して突起１５ａ〜１５ｄがスライダ９
の上面よりも所定量突出するとモータM1の回転
は停止する。この状態においては基体１は上下動
範囲の下端にあり、基板１４は上下動範囲の上端
に位置する。
このとき、作業者はガラス基板１８に設けられ
た位置決めマークと突起１５ａ〜１５ｄの上端面
の位置決めマークを参照して、ガラス基板を容易
に設置することができる。次に基板１４はガラス
基板１８をのせて下降し、それと同期してガイ
ド・レール１ａ，１ｂは上昇する。すなわちスラ
イダ９が上昇するので、ガラス基板１８は基板１
４の突起１５ａ〜１５ｄからスライダ９の上面に
移される。スライダ９は上昇時に真空吸着を開始
しており、受け渡し後はスライダ９の上でガラス
基板が動くことはない。
た位置決めマークと突起１５ａ〜１５ｄの上端面
の位置決めマークを参照して、ガラス基板を容易
に設置することができる。次に基板１４はガラス
基板１８をのせて下降し、それと同期してガイ
ド・レール１ａ，１ｂは上昇する。すなわちスラ
イダ９が上昇するので、ガラス基板１８は基板１
４の突起１５ａ〜１５ｄからスライダ９の上面に
移される。スライダ９は上昇時に真空吸着を開始
しており、受け渡し後はスライダ９の上でガラス
基板が動くことはない。
第４図に示すように突起１５ａ〜１５ｄがスラ
イダ９から完全にぬけだした後モータM1は回転
停止し、基体１と基板１４の上下動は停止する。
次にガラス基板１８をのせたスライダ９はモータ
ーM2の回転によつて焼付又は検査ステージ１９
（第２位置）へ向つて水平移動する（第５図参
照）。そして、第６図に図示のようにスライダ９
はステージ１９上方で停止し、真空吸着解除後モ
ータM1の回転による第１、２カム群の作用で下
降し、ステージ１９にガラス基板１８を受け渡
し、さらに下降した状態でモータM1は停止する
（第７図参照）。
イダ９から完全にぬけだした後モータM1は回転
停止し、基体１と基板１４の上下動は停止する。
次にガラス基板１８をのせたスライダ９はモータ
ーM2の回転によつて焼付又は検査ステージ１９
（第２位置）へ向つて水平移動する（第５図参
照）。そして、第６図に図示のようにスライダ９
はステージ１９上方で停止し、真空吸着解除後モ
ータM1の回転による第１、２カム群の作用で下
降し、ステージ１９にガラス基板１８を受け渡
し、さらに下降した状態でモータM1は停止する
（第７図参照）。
焼付又は検査終了後、スライダ９はモータM1
の回転による基体１の上昇によつて上昇し、ガラ
ス基板１８を受け取つた後、第４図〜第５図によ
つて説明した手順を逆に辿つて第３図に図示の状
態になる。
の回転による基体１の上昇によつて上昇し、ガラ
ス基板１８を受け取つた後、第４図〜第５図によ
つて説明した手順を逆に辿つて第３図に図示の状
態になる。
作業者は第３図の状態からガラス基板１８を取
り換えて上述の動作を繰り返す。
り換えて上述の動作を繰り返す。
尚、スライダの上下移動制限をうける場合に
は、第３カム群の偏心量を大きくとることによ
り、突起１５の上下移動量は十分大きくなるの
で、ガラス基板の取り付けは容易である。
は、第３カム群の偏心量を大きくとることによ
り、突起１５の上下移動量は十分大きくなるの
で、ガラス基板の取り付けは容易である。
また本実施例ではカム駆動を１つのモータM1
で行なつているが、それぞれ単独で駆動すると、
任意の相対上下量が得られるし、ガラス基板をス
テージとの間で受け渡しするときには基板１４を
上下動させる必要もなくなる。
で行なつているが、それぞれ単独で駆動すると、
任意の相対上下量が得られるし、ガラス基板をス
テージとの間で受け渡しするときには基板１４を
上下動させる必要もなくなる。
以上のように本発明によれば、ガラス基板等の
受け渡しに際して基板１４に植設された突起１５
がスライダ９（第２の載置部材）の載置面よりも
突出するのでガラス基板等を載置したり、取り外
したりする作業が非常にやり易くなる。
受け渡しに際して基板１４に植設された突起１５
がスライダ９（第２の載置部材）の載置面よりも
突出するのでガラス基板等を載置したり、取り外
したりする作業が非常にやり易くなる。
また、基体と載置部材とを逆位相に上下動させ
るようにしたので、搬送装置全体の高さを低く抑
えることができる。
るようにしたので、搬送装置全体の高さを低く抑
えることができる。
第１図は本発明の実施例の斜視図、第２図は、
上記実施例においてガラス基板を取りつけるとき
の相対位置を表わした斜視図、第３図〜第７図
は、ガラス基板がステージに運ばれるまでの過程
を示した断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕、１……基体、３…
…ガイド部材、９……スライダ、１４……基板、
１５……突起。
上記実施例においてガラス基板を取りつけるとき
の相対位置を表わした斜視図、第３図〜第７図
は、ガラス基板がステージに運ばれるまでの過程
を示した断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕、１……基体、３…
…ガイド部材、９……スライダ、１４……基板、
１５……突起。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基板を設置する第１位置と、前記基板を用い
て加工、検査等を行なうステージが位置する第２
位置との間で前記基板を搬送する装置において、 前記基板の周辺を支持する支持面を有する枠状
のスライダーと；該スライダーを支持し、前記ス
ライダーを前記第１位置と第２位置との間で水平
移動可能とするガイドレールを有する基体と；該
基体を上下動可能に案内するガイド部材と；上下
動可能であり、前記スライダーが第１位置にある
とき上昇して前記スライダーの枠の内側に位置
し、前記基板を支持し得る突部を備えた載置部材
と；前記スライダーが第１位置にあるとき、前記
載置部材の突部が前記スライダーの基板支持面よ
りも上方に位置した状態と、前記突部が前記スラ
イダーの基体支持面よりも下方に位置した状態と
が択一的に得られるように、前記基体と前記載置
部材とを逆位相に上下動させる駆動手段とを設け
たことを特徴とする基板の搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55162341A JPS5785236A (en) | 1980-11-18 | 1980-11-18 | Carrier device for glass substrate or the like |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55162341A JPS5785236A (en) | 1980-11-18 | 1980-11-18 | Carrier device for glass substrate or the like |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5785236A JPS5785236A (en) | 1982-05-27 |
| JPS623979B2 true JPS623979B2 (ja) | 1987-01-28 |
Family
ID=15752708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55162341A Granted JPS5785236A (en) | 1980-11-18 | 1980-11-18 | Carrier device for glass substrate or the like |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5785236A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63263102A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-31 | ベーベーエス・クラフトファールツオイグテクニク・アクチェンゲゼルシャフト | 自動車用ホイールのロック装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS513743U (ja) * | 1974-06-25 | 1976-01-12 |
-
1980
- 1980-11-18 JP JP55162341A patent/JPS5785236A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS513743U (ja) * | 1974-06-25 | 1976-01-12 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63263102A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-31 | ベーベーエス・クラフトファールツオイグテクニク・アクチェンゲゼルシャフト | 自動車用ホイールのロック装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5785236A (en) | 1982-05-27 |
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