JPS62288162A - 高硬度高強度セラミツクス焼結体及びその製造方法 - Google Patents
高硬度高強度セラミツクス焼結体及びその製造方法Info
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- JPS62288162A JPS62288162A JP61128534A JP12853486A JPS62288162A JP S62288162 A JPS62288162 A JP S62288162A JP 61128534 A JP61128534 A JP 61128534A JP 12853486 A JP12853486 A JP 12853486A JP S62288162 A JPS62288162 A JP S62288162A
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
(産業上の利用分野)
本発明は、高硬度で、室温における強度、高温における
強度、及び耐熱衝撃性にすぐれたセラミックス焼結体で
あり、従来の酸化物系セラミックス焼結体や非酸化物系
セラミックス焼結体の用途である耐摩耗工具、切削工具
、ハサミ又は包丁などの工具部品、耐蝕性部品、装債用
部品並びに自動車、航空機、船舶などのエンジン部品又
はガスタービン部品などの構造用部品喝と部品種の産業
分野で広範囲の領域に適用できる高硬度高強度セラミッ
クス焼結体及びその製造方法に関するものである。
強度、及び耐熱衝撃性にすぐれたセラミックス焼結体で
あり、従来の酸化物系セラミックス焼結体や非酸化物系
セラミックス焼結体の用途である耐摩耗工具、切削工具
、ハサミ又は包丁などの工具部品、耐蝕性部品、装債用
部品並びに自動車、航空機、船舶などのエンジン部品又
はガスタービン部品などの構造用部品喝と部品種の産業
分野で広範囲の領域に適用できる高硬度高強度セラミッ
クス焼結体及びその製造方法に関するものである。
(従来の技術)
セラミックス焼結体は、大別するとアルミナ系セラミッ
クス焼結体やジルコニア系焼結体に代表される酸化物系
セラミックス焼結体と窒化ケイ素系セラミックス焼結体
や炭化物系セラミックス焼結体に代表される非酸化物系
セラミックス焼結体がある。これらのセラミックス焼結
体の内、アルミナ系セラミックス焼結体は、強度が低く
、耐熱衝撃性にも劣るという問題があり、ジルコニア系
セラミックス焼結体は室温における強度がすぐれている
ことからハサミや包丁などの工具部品に利用されている
が、硬度が低いこと、熱伝導率が極端に小さいこと、割
合に比重が高いこと、水及び水蒸気の存在する環境下で
は疲労破壊を起すこと、約2O0℃〜300℃の温度で
著しい強度劣下を生じること並びに金屑との反応拡散性
が著しく大きくて1例えば300℃から鉄と容易に反応
して複酸化物を形成することなどから適用領域が制限さ
れているという問題がある。一方、窒化ケイ素系セラミ
ックス焼結体や炭化ケイ素系セラミックス焼結体は、イ
オン結合性の高い酸化物系セラミックス焼結体に比べて
非常に難焼結性で、しかも窒化ケイ素系セラミックス焼
結体は、tooo℃以上の高温においては強度低下が著
しく、炭化ケイ素系セラミックス焼結体は1500℃の
高温迄強度低下が生じないけれども室温における強度が
低く、又耐熱衝撃性も劣るために適用領域が制限されて
いるという問題がある。
クス焼結体やジルコニア系焼結体に代表される酸化物系
セラミックス焼結体と窒化ケイ素系セラミックス焼結体
や炭化物系セラミックス焼結体に代表される非酸化物系
セラミックス焼結体がある。これらのセラミックス焼結
体の内、アルミナ系セラミックス焼結体は、強度が低く
、耐熱衝撃性にも劣るという問題があり、ジルコニア系
セラミックス焼結体は室温における強度がすぐれている
ことからハサミや包丁などの工具部品に利用されている
が、硬度が低いこと、熱伝導率が極端に小さいこと、割
合に比重が高いこと、水及び水蒸気の存在する環境下で
は疲労破壊を起すこと、約2O0℃〜300℃の温度で
著しい強度劣下を生じること並びに金屑との反応拡散性
が著しく大きくて1例えば300℃から鉄と容易に反応
して複酸化物を形成することなどから適用領域が制限さ
れているという問題がある。一方、窒化ケイ素系セラミ
ックス焼結体や炭化ケイ素系セラミックス焼結体は、イ
オン結合性の高い酸化物系セラミックス焼結体に比べて
非常に難焼結性で、しかも窒化ケイ素系セラミックス焼
結体は、tooo℃以上の高温においては強度低下が著
しく、炭化ケイ素系セラミックス焼結体は1500℃の
高温迄強度低下が生じないけれども室温における強度が
低く、又耐熱衝撃性も劣るために適用領域が制限されて
いるという問題がある。
これらのセラミックス焼結体における問題点の内、酸化
物系セラミックスの強度を向上させることによって適用
領域を拡大させようと試みたものに特開昭58−32O
66号公報があり、この特開昭58−32O66号公報
の強度を、さらに高めたものに特開昭58−12O57
1号公報がある。
物系セラミックスの強度を向上させることによって適用
領域を拡大させようと試みたものに特開昭58−32O
66号公報があり、この特開昭58−32O66号公報
の強度を、さらに高めたものに特開昭58−12O57
1号公報がある。
(発明が解決しようとする問題点)
特開昭58−32O66号公報及び特開昭58−12O
571号公報は、ZrO2を工成分とする高靭性セラミ
ックス焼結体である。これらの内、特開昭58−32O
66号公報の高靭性ジルコニアセラミックス焼結体は、
室温における曲げ強度が約12Okg/ms2.100
0℃における曲げ強度が約40 kg/m膳2と、従来
の酸化物系セラミックス焼結体に比較して、高温におけ
る強度を高めることに成功したものである。また、特開
昭58−12O571号公報の高靭性ジルコニアセラミ
ックス焼結体は、室温における曲げ強度が約160 k
g/濡鳳2,1000℃における曲げ強度が約45 k
g/ms2で、特開昭58−32O86号公報よりも、
さらに強度を高めることに成功したものである。
571号公報は、ZrO2を工成分とする高靭性セラミ
ックス焼結体である。これらの内、特開昭58−32O
66号公報の高靭性ジルコニアセラミックス焼結体は、
室温における曲げ強度が約12Okg/ms2.100
0℃における曲げ強度が約40 kg/m膳2と、従来
の酸化物系セラミックス焼結体に比較して、高温におけ
る強度を高めることに成功したものである。また、特開
昭58−12O571号公報の高靭性ジルコニアセラミ
ックス焼結体は、室温における曲げ強度が約160 k
g/濡鳳2,1000℃における曲げ強度が約45 k
g/ms2で、特開昭58−32O86号公報よりも、
さらに強度を高めることに成功したものである。
しかしながら、特開昭58−32O66号公報及び特開
昭58−12O571号公報の高靭性セラミックス焼結
体は、非酸化物系セラミックス焼結体、特に高温におい
てすぐれた強度を有する炭化ケイ素系セラミックス焼結
体に比較すると、まだ高温における強度が低く、シかも
硬度が従来のジルコニア系セラミックス焼結体と同等で
、低すぎることからエンジン用部品や切削工具のような
7、?酷な領域にまで適用できないという問題がある。
昭58−12O571号公報の高靭性セラミックス焼結
体は、非酸化物系セラミックス焼結体、特に高温におい
てすぐれた強度を有する炭化ケイ素系セラミックス焼結
体に比較すると、まだ高温における強度が低く、シかも
硬度が従来のジルコニア系セラミックス焼結体と同等で
、低すぎることからエンジン用部品や切削工具のような
7、?酷な領域にまで適用できないという問題がある。
本発明は、1述のような問題点を解決したもので、具体
的には、従来のジルコニア系セラミックス焼結体に比較
して硬度が’(::’、 (、室温における強度が同7
で、しかも高温における強度が炭化ケイ麦系セラミック
ス焼結体と同等であるという高硬度で、室温及び高温に
おける強度のすぐれたセラミックス焼結体の提供を目的
とするものである。
的には、従来のジルコニア系セラミックス焼結体に比較
して硬度が’(::’、 (、室温における強度が同7
で、しかも高温における強度が炭化ケイ麦系セラミック
ス焼結体と同等であるという高硬度で、室温及び高温に
おける強度のすぐれたセラミックス焼結体の提供を目的
とするものである。
(問題点を解決するための手段)
未発明者らは、ジルコニア系セラミックス焼結体の短所
である硬度及び高温における強度の両方を高める方向に
ついて検討していた所。
である硬度及び高温における強度の両方を高める方向に
ついて検討していた所。
ZrO2にTiCを多量に添加するに従って、両者、特
にZrO2の反応分解が進行し、ガスの発生やカーケン
ドールボイドを形成するために緻密な焼結体になり難く
なるのに対して、ZrO2とTiC又はTi(C,N)
とA文2O3 を組合わせて、それぞれの化合物の比率
を調整することによって微細組織の緻密な焼結体を得る
ことができ、その焼結体は高硬度で、しかも炭化ケイ素
系セラミックス焼結体と同等の高温強度あるいはそれ以
上の強度になるという知見を得ることにより、本発明を
完成するに至ったものである。
にZrO2の反応分解が進行し、ガスの発生やカーケン
ドールボイドを形成するために緻密な焼結体になり難く
なるのに対して、ZrO2とTiC又はTi(C,N)
とA文2O3 を組合わせて、それぞれの化合物の比率
を調整することによって微細組織の緻密な焼結体を得る
ことができ、その焼結体は高硬度で、しかも炭化ケイ素
系セラミックス焼結体と同等の高温強度あるいはそれ以
上の強度になるという知見を得ることにより、本発明を
完成するに至ったものである。
すなわち、本発明の高硬度高強度セラミックス焼結体は
、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有したジルコニ
ウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化剤を含有し
たハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶体からなる
(A)群の化合物の中の少なくとも1種を30〜70重
量%と、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの酸窒化
物、シリコン台アルミニウムの酸化物、又はシリコン・
アルミニウムの酸窒化物からなる(B)群の化合物の中
の少なくとも1種を8〜38重量%と、周期律表の4a
、5a、Ba族金属の炭化物、窒化物、炭酸化物、窒酸
化物、ホウ化物、ケイ化物及びケイ素の炭化物、窒化物
又はこれらの相互固溶体からなる(C)群の化合物の中
の少なくとも1種を13〜43重量%と不可避不純物と
でなる焼結体であって、この焼結体の室温での硬度がロ
ックウェルAスケールで91.5以上であることを特徴
とするものである。ここで記述している硬度とは、JI
SB7726によるロックウェル硬さ試験機のAスケー
ルを用いてJISZ2245に基づき行なった値を示す
ものである。
、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有したジルコニ
ウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化剤を含有し
たハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶体からなる
(A)群の化合物の中の少なくとも1種を30〜70重
量%と、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの酸窒化
物、シリコン台アルミニウムの酸化物、又はシリコン・
アルミニウムの酸窒化物からなる(B)群の化合物の中
の少なくとも1種を8〜38重量%と、周期律表の4a
、5a、Ba族金属の炭化物、窒化物、炭酸化物、窒酸
化物、ホウ化物、ケイ化物及びケイ素の炭化物、窒化物
又はこれらの相互固溶体からなる(C)群の化合物の中
の少なくとも1種を13〜43重量%と不可避不純物と
でなる焼結体であって、この焼結体の室温での硬度がロ
ックウェルAスケールで91.5以上であることを特徴
とするものである。ここで記述している硬度とは、JI
SB7726によるロックウェル硬さ試験機のAスケー
ルを用いてJISZ2245に基づき行なった値を示す
ものである。
本発明の高硬度高強度セラミックス焼結体は、(A)群
の化合物の相とCB)群の化合物の相と(C)群の化合
物の相からなる混和である。この混和の内、(A)群の
化合物の相は、(B)群の化合物と(C)群の化合物と
の両相により変態を抑制され、結晶学的に相境界で結晶
格子が整合関係をなしており、しかも配列様式が原子配
列の如く規制正しく配列されるように狙ったものである
。このために、(A)群の化合物の相に対する(B)群
の化合物と(C)群の化合物の両相の合計量及び(B)
群の化合物の相対(C)群の化合物の相との比率が強度
を高めるだめの重要な役割をしており、さらに後述する
熟間静水圧(HIP)処理を施すことによって高硬度及
び高強度を一層高めた焼結体にしているものである。
の化合物の相とCB)群の化合物の相と(C)群の化合
物の相からなる混和である。この混和の内、(A)群の
化合物の相は、(B)群の化合物と(C)群の化合物と
の両相により変態を抑制され、結晶学的に相境界で結晶
格子が整合関係をなしており、しかも配列様式が原子配
列の如く規制正しく配列されるように狙ったものである
。このために、(A)群の化合物の相に対する(B)群
の化合物と(C)群の化合物の両相の合計量及び(B)
群の化合物の相対(C)群の化合物の相との比率が強度
を高めるだめの重要な役割をしており、さらに後述する
熟間静水圧(HIP)処理を施すことによって高硬度及
び高強度を一層高めた焼結体にしているものである。
この焼結体の組織構造は、500八〜5000人の一次
粒子からなる微細組織を主体にしたもの又はこの微細結
晶粒子に針状晶の混在したものである。
粒子からなる微細組織を主体にしたもの又はこの微細結
晶粒子に針状晶の混在したものである。
本発明の高硬度高強度セラミックス焼結体において、(
A)群の化合物が30重量%未満だと相対的にCB)群
と(C)群の両化合物の合計が70重量%を越えるため
に焼結し難くなり、緻密な焼結体を得るのが困難である
。逆に、(A)群の化合物が70重量%を越えると相対
的に(B)群と(C)群の両化合物の合計が30重量%
未満となるため、硬度低下及び高温における強度低下が
著しくなる。従うて、(A)群の化合物は、30重量%
以上から70重量%以下と定めたものである。この(A
)群の化合物は、焼結工程で体積変化が生じるような変
態を抑えられる安定化剤を含有したジルコニウムの酸化
物が、特に好ましく、その量は、(A)群の化合物対(
B)群と(C)nの両化合物との体積比が1対1近傍に
なるようにすると強度を箸しく高める効果があることか
ら、特に45玉量%以上から65屯量%以下が好ましい
、安定化剤としては、C:aO。
A)群の化合物が30重量%未満だと相対的にCB)群
と(C)群の両化合物の合計が70重量%を越えるため
に焼結し難くなり、緻密な焼結体を得るのが困難である
。逆に、(A)群の化合物が70重量%を越えると相対
的に(B)群と(C)群の両化合物の合計が30重量%
未満となるため、硬度低下及び高温における強度低下が
著しくなる。従うて、(A)群の化合物は、30重量%
以上から70重量%以下と定めたものである。この(A
)群の化合物は、焼結工程で体積変化が生じるような変
態を抑えられる安定化剤を含有したジルコニウムの酸化
物が、特に好ましく、その量は、(A)群の化合物対(
B)群と(C)nの両化合物との体積比が1対1近傍に
なるようにすると強度を箸しく高める効果があることか
ら、特に45玉量%以上から65屯量%以下が好ましい
、安定化剤としては、C:aO。
Y2O:+、MgO及び希土類元素の酸化物の中の少な
くとも1種であればよいが、特にMgO。
くとも1種であればよいが、特にMgO。
CaO,Y2O3、Er2O3 、Yb2Ozの中の
少なくとも1種が安定に焼結できることから好ましく、
その量は、ジルコニウムの酸化物中に1〜7モル%含有
していることが結晶粒子を微細にできる傾向になること
から好ましい。
少なくとも1種が安定に焼結できることから好ましく、
その量は、ジルコニウムの酸化物中に1〜7モル%含有
していることが結晶粒子を微細にできる傾向になること
から好ましい。
また、(B)群の化合物は、焼結性を高める効果及び室
温における強度を高める効果があり、その量が8重1%
未満になると焼結性を高める効果が弱く、逆に38重量
%を越えると室温における強度低下が著しくなる。従っ
て、(B)群の化合物は、8重量%以上から38重量%
以下と定めたものである。この(B)群の化合物の量は
、(C)群の化合物の量との比率によって、室温及び高
温における強度に影響を及ぼし、(B)群の化合物とし
ては、特にアルミニウムの酸化物が10fflff1%
以上から28重蛋%以下であることが強度を高めるため
に好ましいものである。
温における強度を高める効果があり、その量が8重1%
未満になると焼結性を高める効果が弱く、逆に38重量
%を越えると室温における強度低下が著しくなる。従っ
て、(B)群の化合物は、8重量%以上から38重量%
以下と定めたものである。この(B)群の化合物の量は
、(C)群の化合物の量との比率によって、室温及び高
温における強度に影響を及ぼし、(B)群の化合物とし
ては、特にアルミニウムの酸化物が10fflff1%
以上から28重蛋%以下であることが強度を高めるため
に好ましいものである。
さらに、(C)IIの化合物は、硬度を高める効果と高
温における強度を高める効果があり、その量が131i
1%未満では硬度及び高温における強度が低く、逆に4
3重量%を越えて多くなると焼結し難くなって、室温及
び高温における強度も低下する。従って、(C)群の化
合物は、13重量%以とから43重量%以下と定めたも
のである。
温における強度を高める効果があり、その量が131i
1%未満では硬度及び高温における強度が低く、逆に4
3重量%を越えて多くなると焼結し難くなって、室温及
び高温における強度も低下する。従って、(C)群の化
合物は、13重量%以とから43重量%以下と定めたも
のである。
この(C)群の化合物は、焼結の容易性とCB)群の化
合物の粒成長抑制効果と高温における強度を高める効果
から、特に周期律表の4a族金居の炭化物、窒化物、炭
酸化物、窒酸化物及びこれらの相互固溶体の中の少なく
とも1種が18重量務以上から38重量%以下であるこ
とが好ましい。
合物の粒成長抑制効果と高温における強度を高める効果
から、特に周期律表の4a族金居の炭化物、窒化物、炭
酸化物、窒酸化物及びこれらの相互固溶体の中の少なく
とも1種が18重量務以上から38重量%以下であるこ
とが好ましい。
以上のような組成範囲にある焼結体であって、その焼結
体の硬度がロックウェルAスケールで91.5未満と低
くなると、耐摩耗性の低下と、室温及び高温における強
度の低下も著しいことから本発明の硬度は、ロックウェ
ルAスケールで91.5以上と定めたものである。
体の硬度がロックウェルAスケールで91.5未満と低
くなると、耐摩耗性の低下と、室温及び高温における強
度の低下も著しいことから本発明の硬度は、ロックウェ
ルAスケールで91.5以上と定めたものである。
本発明の高硬度高強度セラミックス焼結体における(A
)nの化合物は、具体的には、例えばZrO2、(Zr
、M)Ox 、I(fo2 。
)nの化合物は、具体的には、例えばZrO2、(Zr
、M)Ox 、I(fo2 。
(Hf 、M)Oy、(Zr、Hf)02 。
(Zr、I(f、M)Ozの中の少なくとも1種からな
るものである。(ただし1Mは、Mg。
るものである。(ただし1Mは、Mg。
Ca、Sc、Y及びランタノイド元素の中の少なくとも
1種を示し、x、y、zは各々共2以下である。)また
、(B)群の化合物は、具体的には、例えばA12O3
、Al (ON)、サイアロン、3A見2O3
壷2SiO2(ムライト)の中の少なくとも1種からな
るものである。さらに、(C)群の化合物は、具体的に
は1例えばTiC,ZrC,HfC,TaC,VC。
1種を示し、x、y、zは各々共2以下である。)また
、(B)群の化合物は、具体的には、例えばA12O3
、Al (ON)、サイアロン、3A見2O3
壷2SiO2(ムライト)の中の少なくとも1種からな
るものである。さらに、(C)群の化合物は、具体的に
は1例えばTiC,ZrC,HfC,TaC,VC。
NbC、Cr ff Cz 、WC、Mo2
G 、’Ti N 。
G 、’Ti N 。
ZrN、HfN、TaN、VN、NbN。
CrN、Ti (C,O)、Zr (C,O)。
Ta (C,O)、TE (N、O)。
Zr (N、O) 、Ta (N、O) 、T
iB2 。
iB2 。
TaB2 、TiSi2 、TaSi2 、WSi
z 。
z 。
SiC,5ixN4及びこれらの相互固溶体としテノ(
Ti 、W) C、(Ti 、 Ta 、W) C。
Ti 、W) C、(Ti 、 Ta 、W) C。
Ti((:、N、Q) 。
(Ti、Ta)(C,N)。
(Ti 、Zr)(C,O)。
(Ti 、Zr、Ta、W)(C,N、O)などを代表
例として挙げることができる。これらの化合物は、化学
量論的化合物又は非化学量論的化合物からなっている場
合でもよい。
例として挙げることができる。これらの化合物は、化学
量論的化合物又は非化学量論的化合物からなっている場
合でもよい。
本発明の高硬度高強度セラミックス焼結体は、従来の各
種粉末冶金法で行なわれている製造方法によって焼結体
とした後、後述するような1(IP無処理施すことによ
って作成することを特徴とするものである。
種粉末冶金法で行なわれている製造方法によって焼結体
とした後、後述するような1(IP無処理施すことによ
って作成することを特徴とするものである。
すなわち1本発明の高硬度高強度セラミックス焼結体の
製造方法は、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有し
たジルコニウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化
剤を含有したハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶
体からなる(A)群の化合物粉末の中の少なくとも1種
を30〜70屯量5%と、アルミニウムの酸化物、アル
ミニウムの酸窒化物、シリコン・アルミニウムの酸化物
。
製造方法は、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有し
たジルコニウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化
剤を含有したハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶
体からなる(A)群の化合物粉末の中の少なくとも1種
を30〜70屯量5%と、アルミニウムの酸化物、アル
ミニウムの酸窒化物、シリコン・アルミニウムの酸化物
。
シリコン・アルミニウムのfI#窒化物からなる(B)
群の化合物の粉末及び/又はウィスカーの中の少なくと
も1種を8〜38重量%と、周期律表の4a、5a、6
a族金属の炭化物、窒化物。
群の化合物の粉末及び/又はウィスカーの中の少なくと
も1種を8〜38重量%と、周期律表の4a、5a、6
a族金属の炭化物、窒化物。
炭酸化物、窒酸化物、ホウ化物、ケイ化物及びケイ二に
の炭化物、窒化物又はこれらの相互固溶体からなる(C
)群の化合物の粉末及び/又はウィスカーの中の少なく
とも1種を13〜43重呈%との混合成形体を非酸化性
雰囲気中、1600℃以上の温度で焼結した後、窒素ガ
ス又は不活性ガス雰囲気中、1500気圧以上の圧力、
1400℃以上の温度で)(IP無処理ることを特徴と
するものである。
の炭化物、窒化物又はこれらの相互固溶体からなる(C
)群の化合物の粉末及び/又はウィスカーの中の少なく
とも1種を13〜43重呈%との混合成形体を非酸化性
雰囲気中、1600℃以上の温度で焼結した後、窒素ガ
ス又は不活性ガス雰囲気中、1500気圧以上の圧力、
1400℃以上の温度で)(IP無処理ることを特徴と
するものである。
さらに1本発明の高硬度高強度セラミックス焼結体の製
造方法について、具体的に述べると、まず、出発原料粉
末としては、金属又は水素化金属を各種の雰囲気中で焼
成して得ることができる酸化物、炭化物及び窒化物など
を用いることができ、特に(&)群の化合物は、500
人〜5000人の超微粒子粉末を出発原料にすると緻密
な焼結体を容易に得ることができることから好ましいこ
とである。500人〜5000人の超微粒子粉末は、気
相法、溶液法、固体反応法などによって得ることができ
、特に高純度、均−粒度及び低廉価で大量生産が可能な
溶液法により作製したものが好ましい、溶液法としては
、共沈法、水中アーク法、水熱酸化法、アルコキシド法
、界面更新法又は加水分解法などがあるが、経済性と焼
結性から共沈法が望ましい、また、(B)群及び(C)
群の両化合物は、従来から用いられている粉末の内、例
えば平均粒径2pm以下のできるだけ微細な粉末及び/
又はウィスカー状のものを用いることが望ましい。
造方法について、具体的に述べると、まず、出発原料粉
末としては、金属又は水素化金属を各種の雰囲気中で焼
成して得ることができる酸化物、炭化物及び窒化物など
を用いることができ、特に(&)群の化合物は、500
人〜5000人の超微粒子粉末を出発原料にすると緻密
な焼結体を容易に得ることができることから好ましいこ
とである。500人〜5000人の超微粒子粉末は、気
相法、溶液法、固体反応法などによって得ることができ
、特に高純度、均−粒度及び低廉価で大量生産が可能な
溶液法により作製したものが好ましい、溶液法としては
、共沈法、水中アーク法、水熱酸化法、アルコキシド法
、界面更新法又は加水分解法などがあるが、経済性と焼
結性から共沈法が望ましい、また、(B)群及び(C)
群の両化合物は、従来から用いられている粉末の内、例
えば平均粒径2pm以下のできるだけ微細な粉末及び/
又はウィスカー状のものを用いることが望ましい。
このような出発原料を混合又は混合粉砕する場合は、ス
テンレス製容器、超硬合金を内張すした容器、ウレタン
ゴムを内張すした容器又はプラスチック製容器の中で超
硬合金製ポール、ステンレス製ポール又はセラミックス
製ポールと出発原料を入れて、さらに必要ならばグリセ
リン、ポリエチレングリコール、ポリブチルアルコール
、パラフィン又はカンファーなどの成形助剤を添加して
乾式混合する方法、もしくはアセトン、ベンゼン、アル
コールなどの有機溶媒を加えて湿式混合する方法がある
。
テンレス製容器、超硬合金を内張すした容器、ウレタン
ゴムを内張すした容器又はプラスチック製容器の中で超
硬合金製ポール、ステンレス製ポール又はセラミックス
製ポールと出発原料を入れて、さらに必要ならばグリセ
リン、ポリエチレングリコール、ポリブチルアルコール
、パラフィン又はカンファーなどの成形助剤を添加して
乾式混合する方法、もしくはアセトン、ベンゼン、アル
コールなどの有機溶媒を加えて湿式混合する方法がある
。
混合粉末を混合成形体にするには、混合粉末を黒鉛モー
ルドに充填して混合成形体とし、後非酸化性雰囲気中で
ホットプレス(H−P)して焼結する方法、又は成形助
剤を添加した混合粉末、さらに必要ならば混合粉末を顆
粒状に造粒して、それを金型モールドに充填した後、加
圧して混合成形体とする方法、もしくはラテックスゴム
などで混合粉末を包囲した後、静水圧加圧により外圧を
加えて混合成形体とする方法、あるいは従来から用いら
れている熱可塑性樹脂と可塑剤と潤滑剤などを混合粉末
に加えて射出成形機などで混合成形体にする方法などが
適用できる。このような混合成形体を直接焼結する方法
、又は混合成形体を焼結温度よりも低い温度で予備焼結
した後、切断。
ルドに充填して混合成形体とし、後非酸化性雰囲気中で
ホットプレス(H−P)して焼結する方法、又は成形助
剤を添加した混合粉末、さらに必要ならば混合粉末を顆
粒状に造粒して、それを金型モールドに充填した後、加
圧して混合成形体とする方法、もしくはラテックスゴム
などで混合粉末を包囲した後、静水圧加圧により外圧を
加えて混合成形体とする方法、あるいは従来から用いら
れている熱可塑性樹脂と可塑剤と潤滑剤などを混合粉末
に加えて射出成形機などで混合成形体にする方法などが
適用できる。このような混合成形体を直接焼結する方法
、又は混合成形体を焼結温度よりも低い温度で予備焼結
した後、切断。
研削、切削などの加工を施してから非酸化性雰囲気中で
焼結する方法がある。
焼結する方法がある。
焼結温度は、無加圧焼結(減圧状態も含む大気圧以下の
圧力中での焼結条件)の場合が1650℃以上の温度で
、加圧焼結の場合が1550℃以上の温度によって焼結
することができる。このようにして焼結したものを窒素
ガス又は不活性ガス雰囲気中、tsoo気圧以上の圧力
、1400℃以上の温度でHIP処理を施すことによっ
て本発明の焼結体を得ることがでさる。
圧力中での焼結条件)の場合が1650℃以上の温度で
、加圧焼結の場合が1550℃以上の温度によって焼結
することができる。このようにして焼結したものを窒素
ガス又は不活性ガス雰囲気中、tsoo気圧以上の圧力
、1400℃以上の温度でHIP処理を施すことによっ
て本発明の焼結体を得ることがでさる。
(作用)
本発明の高硬度高強度セラミックス焼結体は、(A)群
の化合物に対する(B)群の化合物と(C)群の化合物
との合計の比率を一定の範囲にすると共に、(B)群の
化合物対(C)群の化合物の比率をも調整することによ
って(A)群の化合物相中にCB)群の化合物と(C)
群の化合物との両化合物相を均一に分散させて、(A)
群の化合物相を拘束しているものである。従って、(A
)群の化合物相は、CB)群の化合物相と(C)群の化
合物相とに拘束されることによってケ方晶−正方品→斜
方品もしくは正方晶→斜方晶への変態が抑制され、しか
も粒成長も抑制されて正方品を主体にした微細組織を形
成しているものである。このように(A)群の化合物と
(B)群の化合物と(C)群の化合物の各々の作用によ
って得た焼結体を、さらにHIP処理ることにより、本
発明の焼結体は、室温及び高温においてすぐれた強度を
有すると共に高硬度になっているものである。
の化合物に対する(B)群の化合物と(C)群の化合物
との合計の比率を一定の範囲にすると共に、(B)群の
化合物対(C)群の化合物の比率をも調整することによ
って(A)群の化合物相中にCB)群の化合物と(C)
群の化合物との両化合物相を均一に分散させて、(A)
群の化合物相を拘束しているものである。従って、(A
)群の化合物相は、CB)群の化合物相と(C)群の化
合物相とに拘束されることによってケ方晶−正方品→斜
方品もしくは正方晶→斜方晶への変態が抑制され、しか
も粒成長も抑制されて正方品を主体にした微細組織を形
成しているものである。このように(A)群の化合物と
(B)群の化合物と(C)群の化合物の各々の作用によ
って得た焼結体を、さらにHIP処理ることにより、本
発明の焼結体は、室温及び高温においてすぐれた強度を
有すると共に高硬度になっているものである。
(実施例)
実施例1
平均粒径が1.0ルm以下の各種の出発原料を用いて、
第1表に示した配合組成の各試料に4〜10wt%のパ
ラフィンを添加して、アセトン湿式中にてボールミル混
合、乾燥、X&形及び予備焼結による脱パラフイン後、
各試料を第1表の条件で焼結した。焼結後、第1表に併
記した条件で各試料をHIP処理して得た本発明の焼結
体の諸特・性値を測定し、第2表に示した。比較として
、第1表に併記した配合組成の各試料を混合及び屹燥後
、黒鉛モールドに充填して、窒素ガス雰囲気中、圧力2
O0 kg/c層2、温度1800℃、保持時間1時間
でホットプレスにより焼結して比較量とした。こうして
得た比較量も本発明品と同様に諸特性値を測定し、その
結果を第2表に併記した。
第1表に示した配合組成の各試料に4〜10wt%のパ
ラフィンを添加して、アセトン湿式中にてボールミル混
合、乾燥、X&形及び予備焼結による脱パラフイン後、
各試料を第1表の条件で焼結した。焼結後、第1表に併
記した条件で各試料をHIP処理して得た本発明の焼結
体の諸特・性値を測定し、第2表に示した。比較として
、第1表に併記した配合組成の各試料を混合及び屹燥後
、黒鉛モールドに充填して、窒素ガス雰囲気中、圧力2
O0 kg/c層2、温度1800℃、保持時間1時間
でホットプレスにより焼結して比較量とした。こうして
得た比較量も本発明品と同様に諸特性値を測定し、その
結果を第2表に併記した。
第2表の結果、本発明品は、本発明の組成から外れて、
しかもホット少レスで焼結して得た比較量に比べて、硬
度がロックウェルAスケールで約2.0〜3.0高く、
室温及び1400℃の高温における曲げ強度(JISB
4104の抗折力試験方法に基づく)が約2倍〜3倍高
い傾向を示し、破壊靭性値もすぐれているものであった
。
しかもホット少レスで焼結して得た比較量に比べて、硬
度がロックウェルAスケールで約2.0〜3.0高く、
室温及び1400℃の高温における曲げ強度(JISB
4104の抗折力試験方法に基づく)が約2倍〜3倍高
い傾向を示し、破壊靭性値もすぐれているものであった
。
これらの各試料の内、本発明品2と比較量3については
、各温度における曲げ強度を測定し、その結果を第1図
に示した。尚、参考として、従来の代表的な炭化ケイ素
系セラミックス焼結体について測定されている各温度に
おける曲げ強度の関係も併記した。
、各温度における曲げ強度を測定し、その結果を第1図
に示した。尚、参考として、従来の代表的な炭化ケイ素
系セラミックス焼結体について測定されている各温度に
おける曲げ強度の関係も併記した。
以下余白
実施例2
実施例1の各試料の内、本発明品2,6゜10と比較量
3及び市販のA交2O〕−Tic系セラミックス焼結体
を用いて、下記の条件により切削試験を行った。
3及び市販のA交2O〕−Tic系セラミックス焼結体
を用いて、下記の条件により切削試験を行った。
切削試験条件
旋削試験
被 削 材 54BC(HB240)切削速
度 300 m/+sin 切り込み量 1.51層 送り速度 0.3 am/rev 丁具形状 SNP 432 切削方式 湿 式 この切削試験の結果を第3表に示した。第3表の結果、
本発明品は、比較量3及びA立2Ox−TiC系に比べ
て約2倍の寿命向上がみられた。
度 300 m/+sin 切り込み量 1.51層 送り速度 0.3 am/rev 丁具形状 SNP 432 切削方式 湿 式 この切削試験の結果を第3表に示した。第3表の結果、
本発明品は、比較量3及びA立2Ox−TiC系に比べ
て約2倍の寿命向上がみられた。
以下余白
′〕!施例3
モ均粒径が1.0牌m以下の各種の出発原料を用いて、
第4表に示した配合組成の各試料を実施例1と同様にし
て焼結した。このときの焼結条件及びHfF条件を第4
表に併記した。このようにして焼結して得た本発明の焼
結体の諸特性値を婁施例1と同様にして求め、その結果
を第5表に示した。
第4表に示した配合組成の各試料を実施例1と同様にし
て焼結した。このときの焼結条件及びHfF条件を第4
表に併記した。このようにして焼結して得た本発明の焼
結体の諸特性値を婁施例1と同様にして求め、その結果
を第5表に示した。
范5表の結果、7(発明品は、硬度、破壊靭性値並びに
室温及び1400 ’Oにおける強度が著しく高いこと
が確認できた。
室温及び1400 ’Oにおける強度が著しく高いこと
が確認できた。
以下余白
(発明の効果)
以りの結果、本発明の高硬度高強度セラミックス焼結体
は、高硬度、高破壊靭性値で、室温及び高温での強度も
高く、しかも耐摩耗性、耐欠損性及び耐熱性にすぐれて
いるものである。このために1本発明の焼結体は、例え
ば高硬度及び高温での高強度を利用して、旋削工具部品
又は回転工具部品などの切削工具部品に有効であり、高
硬度、耐摩耗性笈び高強度を利用して磁気テープスリッ
ターに代表される各種のスリッターナイフ。
は、高硬度、高破壊靭性値で、室温及び高温での強度も
高く、しかも耐摩耗性、耐欠損性及び耐熱性にすぐれて
いるものである。このために1本発明の焼結体は、例え
ば高硬度及び高温での高強度を利用して、旋削工具部品
又は回転工具部品などの切削工具部品に有効であり、高
硬度、耐摩耗性笈び高強度を利用して磁気テープスリッ
ターに代表される各種のスリッターナイフ。
裁断刃、ポールベアリングに代表される各種のポール、
ハサミ、包丁、ダイス並びにセラミックス焼結体の有し
ている耐蝕性及び高硬度、耐摩耗性を利用して、メカニ
カルシール、ノズルなどの各種の耐摩耗工具部品に有効
である。また、本発明の焼結体は、耐蝕性、耐スクラッ
チ性及び黒色系の色調を利用して1時計用ケース、ネク
タイピン、ブローチ及びカフスボタンなどの装飾用部品
にも有効である。さらに、本発明の焼結体は、高硬度、
高温での高強度性及び耐酸化性を利用して各種のエンジ
ン部品、ガスタービン部品などの構造用部品から各種の
エレクトロニクス部品にと各種の産業分野で有用な材料
である。
ハサミ、包丁、ダイス並びにセラミックス焼結体の有し
ている耐蝕性及び高硬度、耐摩耗性を利用して、メカニ
カルシール、ノズルなどの各種の耐摩耗工具部品に有効
である。また、本発明の焼結体は、耐蝕性、耐スクラッ
チ性及び黒色系の色調を利用して1時計用ケース、ネク
タイピン、ブローチ及びカフスボタンなどの装飾用部品
にも有効である。さらに、本発明の焼結体は、高硬度、
高温での高強度性及び耐酸化性を利用して各種のエンジ
ン部品、ガスタービン部品などの構造用部品から各種の
エレクトロニクス部品にと各種の産業分野で有用な材料
である。
第1図は、実施例1で得た本発明品2と比較品3と従来
の炭化ケイ素系セラミックス焼結体の温度と曲げ強度と
の関係を示す図である。 第1図で縦軸は1曲げ強度を表わし、横軸は、測定時の
温度を表わす0図中、lの線は、本発明品2の測定結果
を表わし、2の線は、比較品3の測定結果を表わし、3
の線は、従来の炭化ケイ素系セラミックス焼結体の結果
を表わす。 特許出願人 東芝タンガロイ株式会社 に補正する。 手 続 補 正 書(自発) 1、事件の表示 特願昭61−128534号 2、発明の名称 高硬度高強度セラミックス焼結体及びその製造方法 3、補正をする者 喜件との関係 特許出願人 神奈川県用崎市幸区塚越1丁目7fi地5、補正により
増加する発明の数 なし6、補正の対象 明細書の特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の各欄 7、補正の内容 (A ’l M蓼/7−I11/A> ルーrT=
m t+ al HA F す * a L+イアt
E 能f<りに補正する。 (1) 明細書第8頁2O行目に記載のrTfc又は
Ti(C,N)・・・・・・」をrTiCとA交2O3
又はZrO2とTi(C,N)・・・・・・」と補正す
る。 (2) 明細書第9頁1行目に記載の「せて、それぞ
れの化合物の比率を調整する・・・・・・」を「せて。 ZrO2の結晶構造の調整及びそれぞれの化合物の比率
を調整する・・・・・・」と補正する。 (3) 明細書第10頁2行目に記載の「・・・・・
・であって、この焼結体・・・・・・」を「・・・・・
・であって、この内、(A)群の化合物は少なくとも9
5%が正方品からなり、この焼結体・・・・・・」と補
正する。 (4) 明細書第10頁11行目〜13行目に記載の
r (A)Wの化合物の相は、(B)群の化合物と(C
)群の化合物との両相により変態を抑制され、結晶学的
に・・・・・・」を「(A)群の化合物の相と(C)群
の化合物の相との熱膨張率の差により(A ) セモ
Vノ 1[,1τデv!I v) 4日 i五 フ1
ツ窯 ん ツノ て ス リ (及 芯 〃1の化
合物は結晶学的に・・・・・・」と補正する6(5)
明細書第10頁14行目〜15行目に記載の「しかも
配列様式が原子配列の如く規制正しく配列・・・・・・
」を「しかも(A)群、(B)群及び(C)群の化合物
が交互に均一に規則正しく配列・・・・・・」と補正す
る。 (8) 明細書第10頁18行目に記載の「(B)群
の化合物の相対(C)群の化合」をr (B)群の化合
物の相と(C)群の化合」と補正する。 (7) 明細書第11頁1行目〜2行目に記載のr高
硬度及び高強度」を「硬度及び強度」と補正する。 (8) 明細書第14頁2行目に記載のr91.5以
上と定めたものである。」をr91 、5以上と定めた
ものである。また、(A)群の化合物は、(A)群の化
合物中の95%未満が正方晶になると室温及び高温にお
ける強度の低下が著しくなることから少なくとも95%
が正方品、好ましくは少なくとも98%が正方晶からな
っているものである。(ただし、(A)群の化合物中の
正方晶の量は、焼肌状態における値であって、研摩など
の表面加工を施した場合は表面加工層中の正方晶の1が
異なってくる。)」と補正する。 (8) 明細書筒14頁10行目に記載の「x。 y、zは各々共2以下」をrX 、 y 、 zはいず
れも2以下」と補正する。 (10)明細書筒15頁11行目に記載の「からなって
いる場合でもよい、」を「であってもよい、」と補正す
る。 (11)明細書筒2O頁6行目に記載の「正方晶を主体
にした微細組織」を「(A)群の化合物相中の少なくと
も95%が正方晶からなる微細組織」と補正する。 (12)明細書第24頁8行目に記載の「その結果を第
2表に併記した。」を「その結果を第2表に併記した。 (ただし、(A)群の化合物中の正方晶の量はx!1回
折線から求めたものである。)」と補正する。 (13)明細書第24頁の第2表を下記の第2表に補正
する。 (14)明細書第29頁の第5表を下記の第5表に補正
する。 以下余白 2、特許請求の範囲 (1) 下記(A)群の化合物の少なくとも1種を3
0〜70重量%と(B)群の化合物の少なくとも1種を
8〜38重星%と(C)群の化合物の少なくとも1種を
13〜43重量%と不可避不純物からなる焼結体であっ
て、前記(A)群の化合物は少なくとも95%が正方晶
からなり、該焼結体の室温での硬度がロックウェルAス
ケールで91.5以上であることを特徴とする高硬度高
強度セラミックス焼結体。 (A)群、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有した
ジルコニウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化剤
を含有したハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶体
、 (B)群、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの酸窒
化物、シリコン・アルミニウムの酸化物又はシリコン・
アルミニウムの酸窒化物、(C)群、周期律表の4a、
5a、6a族金属の炭化物、窒化物、炭酸化物、窒酸化
物、ホウ化物、ケイ化物及びケイ素の炭化物、窒化物又
はこれらの相互固溶体、 (2) 上記(A)群の化合物は、MgO。 CaO,Y2O3、Er2O3、Yb2O3(7)中の
少なくとも1種の安定化剤を1〜7モル%含有したジル
コニウムの酸化物が45〜65重量%からなることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の高硬度高強度セラ
ミックス焼結体。 (3) 上記(B)群の化合物は、アルミニウムの酸
化物が10〜28重量%からなることを特徴とする特許
請求の範囲第1項又は第2項記載の高硬度高強度セラミ
ックス焼結体。 (4) 上記(C)群の化合物は、周期律表の4a族
金属の炭化物、窒化物、炭酸化物、窒酸化物及びこれら
の相互固溶体の中の少なくとも1種が18〜38重量%
からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項、第2
項又は第3項記載の高硬度高強度セラミックス焼結体。 (5) 上記焼結体は、1400℃における曲げ強度
が50 kg/mm2以上であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項、:52項、第3項又は第4項記・成
の?:5硬度高強度セラミックス焼結体。 (6) 下記(A)群の化合物粉末の少なくとも1種
を30〜70重帽%と(B)群の化合物粉末及び/又は
CB)群の化合物ウィスカーの少なくとも1種を8〜3
8重量%と(C)群の化合物粉末及び/又は(C)群の
化合物ウィスカーの少なくとも1種を13〜43 m
bL 96からなる混合成形体を非酸化性雰囲気中、1
600″C以上の温度で焼結した後、窒素ガス又は不活
性ガス雰囲気中、1500気圧以上の圧力、1400℃
以上の温度で熱間1り水圧処理することを特徴とする高
硬度高強度セラミックス焼結体の製造方法。 (A)群、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有した
ジルコニウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化剤
を含有したハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶体
、 (B)群、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの酸窒
化物、シリコーン・アルミニウムの酸化物、シリコーン
・アルミニウムの酸窒化物、(C)群、岡期律表のaa
、sa、sa族金属の炭化物、窒化物、炭酸化物、窒酸
化物、ホウ化物、ケイ化物及びケイ素の炭化物、窒化物
又はこれらの相互固溶体、 (7) 上記(A)群の化合物粉末は、粉末の粒径が
500人〜5000人であることを特徴とする特許請求
の範囲第6項記載の高硬度高強度セラミックス焼結体の
製造方法。
の炭化ケイ素系セラミックス焼結体の温度と曲げ強度と
の関係を示す図である。 第1図で縦軸は1曲げ強度を表わし、横軸は、測定時の
温度を表わす0図中、lの線は、本発明品2の測定結果
を表わし、2の線は、比較品3の測定結果を表わし、3
の線は、従来の炭化ケイ素系セラミックス焼結体の結果
を表わす。 特許出願人 東芝タンガロイ株式会社 に補正する。 手 続 補 正 書(自発) 1、事件の表示 特願昭61−128534号 2、発明の名称 高硬度高強度セラミックス焼結体及びその製造方法 3、補正をする者 喜件との関係 特許出願人 神奈川県用崎市幸区塚越1丁目7fi地5、補正により
増加する発明の数 なし6、補正の対象 明細書の特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の各欄 7、補正の内容 (A ’l M蓼/7−I11/A> ルーrT=
m t+ al HA F す * a L+イアt
E 能f<りに補正する。 (1) 明細書第8頁2O行目に記載のrTfc又は
Ti(C,N)・・・・・・」をrTiCとA交2O3
又はZrO2とTi(C,N)・・・・・・」と補正す
る。 (2) 明細書第9頁1行目に記載の「せて、それぞ
れの化合物の比率を調整する・・・・・・」を「せて。 ZrO2の結晶構造の調整及びそれぞれの化合物の比率
を調整する・・・・・・」と補正する。 (3) 明細書第10頁2行目に記載の「・・・・・
・であって、この焼結体・・・・・・」を「・・・・・
・であって、この内、(A)群の化合物は少なくとも9
5%が正方品からなり、この焼結体・・・・・・」と補
正する。 (4) 明細書第10頁11行目〜13行目に記載の
r (A)Wの化合物の相は、(B)群の化合物と(C
)群の化合物との両相により変態を抑制され、結晶学的
に・・・・・・」を「(A)群の化合物の相と(C)群
の化合物の相との熱膨張率の差により(A ) セモ
Vノ 1[,1τデv!I v) 4日 i五 フ1
ツ窯 ん ツノ て ス リ (及 芯 〃1の化
合物は結晶学的に・・・・・・」と補正する6(5)
明細書第10頁14行目〜15行目に記載の「しかも
配列様式が原子配列の如く規制正しく配列・・・・・・
」を「しかも(A)群、(B)群及び(C)群の化合物
が交互に均一に規則正しく配列・・・・・・」と補正す
る。 (8) 明細書第10頁18行目に記載の「(B)群
の化合物の相対(C)群の化合」をr (B)群の化合
物の相と(C)群の化合」と補正する。 (7) 明細書第11頁1行目〜2行目に記載のr高
硬度及び高強度」を「硬度及び強度」と補正する。 (8) 明細書第14頁2行目に記載のr91.5以
上と定めたものである。」をr91 、5以上と定めた
ものである。また、(A)群の化合物は、(A)群の化
合物中の95%未満が正方晶になると室温及び高温にお
ける強度の低下が著しくなることから少なくとも95%
が正方品、好ましくは少なくとも98%が正方晶からな
っているものである。(ただし、(A)群の化合物中の
正方晶の量は、焼肌状態における値であって、研摩など
の表面加工を施した場合は表面加工層中の正方晶の1が
異なってくる。)」と補正する。 (8) 明細書筒14頁10行目に記載の「x。 y、zは各々共2以下」をrX 、 y 、 zはいず
れも2以下」と補正する。 (10)明細書筒15頁11行目に記載の「からなって
いる場合でもよい、」を「であってもよい、」と補正す
る。 (11)明細書筒2O頁6行目に記載の「正方晶を主体
にした微細組織」を「(A)群の化合物相中の少なくと
も95%が正方晶からなる微細組織」と補正する。 (12)明細書第24頁8行目に記載の「その結果を第
2表に併記した。」を「その結果を第2表に併記した。 (ただし、(A)群の化合物中の正方晶の量はx!1回
折線から求めたものである。)」と補正する。 (13)明細書第24頁の第2表を下記の第2表に補正
する。 (14)明細書第29頁の第5表を下記の第5表に補正
する。 以下余白 2、特許請求の範囲 (1) 下記(A)群の化合物の少なくとも1種を3
0〜70重量%と(B)群の化合物の少なくとも1種を
8〜38重星%と(C)群の化合物の少なくとも1種を
13〜43重量%と不可避不純物からなる焼結体であっ
て、前記(A)群の化合物は少なくとも95%が正方晶
からなり、該焼結体の室温での硬度がロックウェルAス
ケールで91.5以上であることを特徴とする高硬度高
強度セラミックス焼結体。 (A)群、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有した
ジルコニウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化剤
を含有したハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶体
、 (B)群、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの酸窒
化物、シリコン・アルミニウムの酸化物又はシリコン・
アルミニウムの酸窒化物、(C)群、周期律表の4a、
5a、6a族金属の炭化物、窒化物、炭酸化物、窒酸化
物、ホウ化物、ケイ化物及びケイ素の炭化物、窒化物又
はこれらの相互固溶体、 (2) 上記(A)群の化合物は、MgO。 CaO,Y2O3、Er2O3、Yb2O3(7)中の
少なくとも1種の安定化剤を1〜7モル%含有したジル
コニウムの酸化物が45〜65重量%からなることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の高硬度高強度セラ
ミックス焼結体。 (3) 上記(B)群の化合物は、アルミニウムの酸
化物が10〜28重量%からなることを特徴とする特許
請求の範囲第1項又は第2項記載の高硬度高強度セラミ
ックス焼結体。 (4) 上記(C)群の化合物は、周期律表の4a族
金属の炭化物、窒化物、炭酸化物、窒酸化物及びこれら
の相互固溶体の中の少なくとも1種が18〜38重量%
からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項、第2
項又は第3項記載の高硬度高強度セラミックス焼結体。 (5) 上記焼結体は、1400℃における曲げ強度
が50 kg/mm2以上であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項、:52項、第3項又は第4項記・成
の?:5硬度高強度セラミックス焼結体。 (6) 下記(A)群の化合物粉末の少なくとも1種
を30〜70重帽%と(B)群の化合物粉末及び/又は
CB)群の化合物ウィスカーの少なくとも1種を8〜3
8重量%と(C)群の化合物粉末及び/又は(C)群の
化合物ウィスカーの少なくとも1種を13〜43 m
bL 96からなる混合成形体を非酸化性雰囲気中、1
600″C以上の温度で焼結した後、窒素ガス又は不活
性ガス雰囲気中、1500気圧以上の圧力、1400℃
以上の温度で熱間1り水圧処理することを特徴とする高
硬度高強度セラミックス焼結体の製造方法。 (A)群、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有した
ジルコニウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化剤
を含有したハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶体
、 (B)群、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの酸窒
化物、シリコーン・アルミニウムの酸化物、シリコーン
・アルミニウムの酸窒化物、(C)群、岡期律表のaa
、sa、sa族金属の炭化物、窒化物、炭酸化物、窒酸
化物、ホウ化物、ケイ化物及びケイ素の炭化物、窒化物
又はこれらの相互固溶体、 (7) 上記(A)群の化合物粉末は、粉末の粒径が
500人〜5000人であることを特徴とする特許請求
の範囲第6項記載の高硬度高強度セラミックス焼結体の
製造方法。
Claims (7)
- (1)下記(A)群の化合物の少なくとも1種を30〜
70重量%と(B)群の化合物の少なくとも1種を8〜
38重量%と(C)群の化合物の少なくとも1種を13
〜43重量%と不可避不純物からなる焼結体であって、
該焼結体の室温での硬度がロックウェルAスケールで9
1.5以上であることを特徴とする高硬度高強度セラミ
ックス焼結体。 (A)群、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有した
ジルコニウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化剤
を含有したハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶体
、 (B)群、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの酸窒
化物、シリコン・アルミニウムの酸化物又はシリコン・
アルミニウムの酸窒化物、 (C)群、周期律表の4a、5a、6a族金属の炭化物
、窒化物、炭酸化物、窒酸化物、ホウ化物、ケイ化物及
びケイ素の炭化物、窒化物又はこれらの相互固溶体、 - (2)上記(A)群の化合物は、MgO、 CaO、Y_2O_3、Er_2O_3、Yb_2O_
3の中の少なくとも1種の安定化剤を1〜7モル%含有
したジルコニウムの酸化物が45〜65重量%からなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の高硬度高
強度セラミックス焼結体。 - (3)上記(B)群の化合物は、アルミニウムの酸化物
が10〜28重量%からなることを特徴とする特許請求
の範囲第1項又は第2項記載の高硬度高強度セラミック
ス焼結体。 - (4)上記(C)群の化合物は、周期律表の4a族金属
の炭化物、窒化物、炭酸化物、窒酸化物及びこれらの相
互固溶体の中の少なくとも1種が18〜38重量%から
なることを特徴とする特許請求の範囲第1項、第2項又
は第3項記載の高硬度高強度セラミックス焼結体。 - (5)上記焼結体は、1400℃における曲げ強度が5
0kg/mm^2以上であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項、第2項、第3項又は第4項記載の高硬度
高強度セラミックス焼結体。 - (6)下記(A)群の化合物粉末の少なくとも1種を3
0〜70重量%と(B)群の化合物粉末及び/又は(B
)群の化合物ウィスカーの少なくとも1種を8〜38重
量%と(C)群の化合物粉末及び/又は(C)群の化合
物ウィスカーの少なくとも1種を13〜43重量%から
なる混合成形体を非酸化性雰囲気中、1600℃以上の
温度で焼結した後、窒素ガス又は不活性ガス雰囲気中、
1500気圧以上の圧力、1400℃以上の温度で熱間
静水圧処理することを特徴とする高硬度高強度セラミッ
クス焼結体の製造方法。 (A)群、ジルコニウムの酸化物、安定化剤を含有した
ジルコニウムの酸化物、ハフニウムの酸化物、安定化剤
を含有したハフニウムの酸化物及びこれらの相互固溶体
、 (B)群、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの酸窒
化物、シリコーン・アルミニウムの酸化物、シリコーン
、アルミニウムの酸窒化物、 (C)群、周期律表の4a、5a、6a族金属の炭化物
、窒化物、炭酸化物、窒酸化物、ホウ化物、ケイ化物及
びケイ素の炭化物、窒化物又はこれらの相互固溶体、 - (7)上記(A)群の化合物粉末は、粉末の粒径が50
0Å〜5000Åであることを特徴とする特許請求の範
囲第6項記載の高硬度高強度セラミックス焼結体の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61128534A JP2759084B2 (ja) | 1986-06-03 | 1986-06-03 | 高硬度高強度セラミツクス焼結体及びその製造方法 |
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---|---|---|---|
JP61128534A JP2759084B2 (ja) | 1986-06-03 | 1986-06-03 | 高硬度高強度セラミツクス焼結体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62288162A true JPS62288162A (ja) | 1987-12-15 |
JP2759084B2 JP2759084B2 (ja) | 1998-05-28 |
Family
ID=14987132
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---|---|---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01286960A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Toray Ind Inc | ジルコニア系焼結体とその製造法 |
JPH0350154A (ja) * | 1989-04-10 | 1991-03-04 | Nippon Tungsten Co Ltd | セラミックス焼結体とその製造法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6066404A (ja) * | 1983-09-21 | 1985-04-16 | Hitachi Metals Ltd | 薄膜磁気ヘッド用基板及びその製造方法 |
JPS60103078A (ja) * | 1983-11-09 | 1985-06-07 | 日本タングステン株式会社 | 導電性ジルコニア基焼結材料及びその製造方法 |
JPS6197163A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-15 | 三菱マテリアル株式会社 | 刃物工具用酸化ジルコニウム基セラミツクスの製造方法 |
JPS6246959A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-28 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 耐熱安定性に優れた高靭性セラミツク焼結体及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-06-03 JP JP61128534A patent/JP2759084B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6066404A (ja) * | 1983-09-21 | 1985-04-16 | Hitachi Metals Ltd | 薄膜磁気ヘッド用基板及びその製造方法 |
JPS60103078A (ja) * | 1983-11-09 | 1985-06-07 | 日本タングステン株式会社 | 導電性ジルコニア基焼結材料及びその製造方法 |
JPS6197163A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-15 | 三菱マテリアル株式会社 | 刃物工具用酸化ジルコニウム基セラミツクスの製造方法 |
JPS6246959A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-28 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 耐熱安定性に優れた高靭性セラミツク焼結体及びその製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01286960A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Toray Ind Inc | ジルコニア系焼結体とその製造法 |
JPH0350154A (ja) * | 1989-04-10 | 1991-03-04 | Nippon Tungsten Co Ltd | セラミックス焼結体とその製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2759084B2 (ja) | 1998-05-28 |
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