JPS62283983A - メタクリルオキシおよびアクリルオキシ含有有機シラン類および有機シリコ−ン類の改良された製造方法 - Google Patents
メタクリルオキシおよびアクリルオキシ含有有機シラン類および有機シリコ−ン類の改良された製造方法Info
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- JPS62283983A JPS62283983A JP62120328A JP12032887A JPS62283983A JP S62283983 A JPS62283983 A JP S62283983A JP 62120328 A JP62120328 A JP 62120328A JP 12032887 A JP12032887 A JP 12032887A JP S62283983 A JPS62283983 A JP S62283983A
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-
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- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般的に、ヒドロシル化反応における収率を改
良するための新規な方法に関するものである。特に、本
発明はメタクリルオキシおよびアクリルオキシ含有有機
シラン類および有機シリコーン類をある種の条件下で、
これらの化合物類を含む反応に一般的に伴なわれる望ま
しくない重合すなわちデル化を伴なわずに、製造するた
めの改長方法に関するものである。デル化を避けるのに
必要な特殊な条件のいくつかを回避するために安定剤を
使用する時には、該方法はさらに改良される。
良するための新規な方法に関するものである。特に、本
発明はメタクリルオキシおよびアクリルオキシ含有有機
シラン類および有機シリコーン類をある種の条件下で、
これらの化合物類を含む反応に一般的に伴なわれる望ま
しくない重合すなわちデル化を伴なわずに、製造するた
めの改長方法に関するものである。デル化を避けるのに
必要な特殊な条件のいくつかを回避するために安定剤を
使用する時には、該方法はさらに改良される。
先ｊ」１（
ヒドロシル化反応すなわち不飽和化合物類に対する珪素
水素化物類の添加は、分子の有機位置に官能基を有する
有機珪素化合物類を製造するための最も一般的な方法で
ある。例えばアルケン類、不飽和エーテル類、アミン類
などの種々の不飽和化合物類を用いるヒドロシル化反応
の実施法を教示している文献は多数存在してる。ＩＣ，
ニルボーン（Ｅ ａｒｂｏｒｎ＞およｌ／Ｒ０Ｗ、ポッ
ト（Ｂｏｏｔ）、第■族元素類の有機金属化合物類（１
９６８）。
水素化物類の添加は、分子の有機位置に官能基を有する
有機珪素化合物類を製造するための最も一般的な方法で
ある。例えばアルケン類、不飽和エーテル類、アミン類
などの種々の不飽和化合物類を用いるヒドロシル化反応
の実施法を教示している文献は多数存在してる。ＩＣ，
ニルボーン（Ｅ ａｒｂｏｒｎ＞およｌ／Ｒ０Ｗ、ポッ
ト（Ｂｏｏｔ）、第■族元素類の有機金属化合物類（１
９６８）。
しかしながら、これらの方法はメタクリルオキシ、ＣＨ
２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−１お上り／またはアクリルオ
キシ、ＣＨ，＝ＣＨＣＯＯ−１官能基を含有している化
合物類の製造用には適していない。その理由は、他の有
機珪素化合物類とは異なり、メタクリルオキシおよびア
クリルオキシ含有有機珪素化合物類はメタクリレート二
重結合の反応により製造お上び／または精製中に容易に
重合可能であるからである。そのような重合は廃棄生成
物を生じるだけでなく、内部のデル化された生成物のた
めにたとえ不可能でないとしても精製を非常に困難にす
る。
２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−１お上り／またはアクリルオ
キシ、ＣＨ，＝ＣＨＣＯＯ−１官能基を含有している化
合物類の製造用には適していない。その理由は、他の有
機珪素化合物類とは異なり、メタクリルオキシおよびア
クリルオキシ含有有機珪素化合物類はメタクリレート二
重結合の反応により製造お上び／または精製中に容易に
重合可能であるからである。そのような重合は廃棄生成
物を生じるだけでなく、内部のデル化された生成物のた
めにたとえ不可能でないとしても精製を非常に困難にす
る。
リューデマン（Ｐ １ｕｅｄｄｅ糟ａｎｎ）他の米国特
許番号３，２５８，４７７は、２，５−ツタ−シャリー
−プチルヒドロキ／ン、他のトリメトキシシランおよび
クロロ白金酸溶液の全てを含有している１０５℃のトル
エン：＃液にトリットキシシランおよびアリルメタクリ
レートの両方を同時に充填することによる安定なγ−メ
タクリルオキシプロピルトリメトキシシランの製造を教
示している。しかしながら、大量のｍ媒としてトルエン
を使用するためにこの方法は比較的貸用がががり、経済
的に魅力がない。
許番号３，２５８，４７７は、２，５−ツタ−シャリー
−プチルヒドロキ／ン、他のトリメトキシシランおよび
クロロ白金酸溶液の全てを含有している１０５℃のトル
エン：＃液にトリットキシシランおよびアリルメタクリ
レートの両方を同時に充填することによる安定なγ−メ
タクリルオキシプロピルトリメトキシシランの製造を教
示している。しかしながら、大量のｍ媒としてトルエン
を使用するためにこの方法は比較的貸用がががり、経済
的に魅力がない。
リンドナー（Ｌ １ｎｃｌｎｅｒ）他の米国特許番号４
゜２７６．４２６では、トリクロロシラン、アリルメタ
クリレートおよび白金触媒を管形の反応器中に連続的に
加えそして反応混合物を反応器から連続的に除去しなが
ら反応器中で循環させた時にγ−メタクリルオキシプロ
ピルトリクロロシランデル化を伴なわずに製造された。
゜２７６．４２６では、トリクロロシラン、アリルメタ
クリレートおよび白金触媒を管形の反応器中に連続的に
加えそして反応混合物を反応器から連続的に除去しなが
ら反応器中で循環させた時にγ−メタクリルオキシプロ
ピルトリクロロシランデル化を伴なわずに製造された。
この文献では、方法の改良点は反応混合物を反応器中で
毎分少なくとも１０００ｃｍだけ循環させることからな
っている。反応器の中心が，連続的に循環さ八ない時に
は反応器の中心はデル化し、そのためこの方法はバッチ
方式では実施できないであろう。
毎分少なくとも１０００ｃｍだけ循環させることからな
っている。反応器の中心が，連続的に循環さ八ない時に
は反応器の中心はデル化し、そのためこの方法はバッチ
方式では実施できないであろう。
従って、大量の溶媒の使用または反応生成物混合物の連
続的な循環を必要としないでメタクリルオキシおよびア
クリルオキシ含有有機珪素化合物類により生じる望まし
くない重合を停止さ・せるような方法の教示は先行技術
中にはない。これらの化合物類をより経済的にそしてよ
り簡便に製造する方法に関する要望が当技術にはある，
、さらに、該化合物類の製造、精製または貯蔵中に望ま
しくない重合が確実に生じないようにするための要望も
ある。
続的な循環を必要としないでメタクリルオキシおよびア
クリルオキシ含有有機珪素化合物類により生じる望まし
くない重合を停止さ・せるような方法の教示は先行技術
中にはない。これらの化合物類をより経済的にそしてよ
り簡便に製造する方法に関する要望が当技術にはある，
、さらに、該化合物類の製造、精製または貯蔵中に望ま
しくない重合が確実に生じないようにするための要望も
ある。
目的
従って、本発明の一目的は、メタクリルオキシおよびア
クリルオキシ含有有機珪素化合物類を製造するためのよ
り経済的なそしてより簡便な製造方法を提供することで
ある。 ・ 本発明の他の目的は、これらの化合物類の製造、精Ｖま
たは貯蔵中に望ましくない重合を確実に生じないように
することである。
クリルオキシ含有有機珪素化合物類を製造するためのよ
り経済的なそしてより簡便な製造方法を提供することで
ある。 ・ 本発明の他の目的は、これらの化合物類の製造、精Ｖま
たは貯蔵中に望ましくない重合を確実に生じないように
することである。
本発明のさらに他の目的は、この反応の生成物類を望ま
しくない重合が回Ｎされるようにして処理する方法を提
供することである。
しくない重合が回Ｎされるようにして処理する方法を提
供することである。
本発明の別の目的は、望ましくない重合を減じるために
使用される本発明の特殊な後処理段階を回ｉするために
安定剤を供給することによりさらに改良を与えることで
ある。
使用される本発明の特殊な後処理段階を回ｉするために
安定剤を供給することによりさらに改良を与えることで
ある。
本発明のさらに別の目的は、パンチ式または連続的方法
のいずれでも経済的にそして効果的に実施できる方法を
提供することである。
のいずれでも経済的にそして効果的に実施できる方法を
提供することである。
本発明の他の目的お上り利点は下記の記載から明白とな
るであろう。
るであろう。
Ｌ肌（ｆ） ｊｐ，ｆ３８１
前記の目的を満たし、本発明はメタクリルオキシまたは
アクリルオキシ含有有機珪素化合物類に伴なわれる望ま
しくない重合を回避する新規な方法に関するものである
。該方法は、（１）メタクリルオキシまたはアクリルオ
キシ含有化合物および抑制剤（類）を含有している第一
貯蔵器の内容物と、アルコキシシランまたはＳｉＨ含有
シリコーンおよび白金触媒を含有している第二貯蔵器と
を、適当な条件下で一緒にし、（２）反応生成物をアル
コール用いて後処理し、お上り／または熱処理し、そし
て（３）後処理した生成物を真空蒸留することにより、
この望ましくない重合を回避する。
アクリルオキシ含有有機珪素化合物類に伴なわれる望ま
しくない重合を回避する新規な方法に関するものである
。該方法は、（１）メタクリルオキシまたはアクリルオ
キシ含有化合物および抑制剤（類）を含有している第一
貯蔵器の内容物と、アルコキシシランまたはＳｉＨ含有
シリコーンおよび白金触媒を含有している第二貯蔵器と
を、適当な条件下で一緒にし、（２）反応生成物をアル
コール用いて後処理し、お上り／または熱処理し、そし
て（３）後処理した生成物を真空蒸留することにより、
この望ましくない重合を回避する。
本発明の別な態様では、メタクリルオキシまたはアクリ
ルオキシ出発反応物および抑制剤（類）を含有している
第一貯蔵器に安定剤を加える。これらの安定剤の使用に
より望ましくない重合がさらに減じら厩、そして使用時
には後処理段階を省略できる。
ルオキシ出発反応物および抑制剤（類）を含有している
第一貯蔵器に安定剤を加える。これらの安定剤の使用に
より望ましくない重合がさらに減じら厩、そして使用時
には後処理段階を省略できる。
本発明はバッチ方法並びに連続的方法で実施できる。
灸」！すＬ綴食ＸＭ、一
本発明に従うと、メタクリルオキシまたはアクリルオキ
シ含有有８！１＠素化合物類中で生じる菫ましくない重
合すなわちデル化を避けるための新規な方法が提供され
る。特に、反応物類であるトリアルコキシシランまたは
ＳｉＨｉ！！ｉ有シリコーン、７リルメタクリレートま
たはアリルアクリレートおよび白金触媒を一緒にすると
きには、例えばγ−メタクリルオキシプロピルトリメト
キシシランホたはγ−アクリルオキシプロピルトリメト
キシシランの如きアクリルオキンプロビルトリアルコキ
シシラン類が重合問題なしに！＋！遣および精製できる
。
シ含有有８！１＠素化合物類中で生じる菫ましくない重
合すなわちデル化を避けるための新規な方法が提供され
る。特に、反応物類であるトリアルコキシシランまたは
ＳｉＨｉ！！ｉ有シリコーン、７リルメタクリレートま
たはアリルアクリレートおよび白金触媒を一緒にすると
きには、例えばγ−メタクリルオキシプロピルトリメト
キシシランホたはγ−アクリルオキシプロピルトリメト
キシシランの如きアクリルオキンプロビルトリアルコキ
シシラン類が重合問題なしに！＋！遣および精製できる
。
本発明の方法は、
（１）第−貯蔵器にメタクリルオキシまたはアクリルオ
キシ官能基含有化合物およ１抑制剤（類）を充填し、 （２）第二貯蔵器にアルコキシシランまたはＳｉＨ含有
シリコーンおよび白金−含有ヒドロシル化用化合物を充
填し、 （３）反応容器中で二個の貯ｉ＆器の内容物を適当な温
度において一緒にし、 （４）粗製反応生成物をアルコールで後処理するか、ま
たは生成物を適当な温度において適当な時間にわたり後
加熱し、そして （５）後処理した生成物を抑制剤の存在下でそして減圧
下で真空蒸留する 段階からなっている。
キシ官能基含有化合物およ１抑制剤（類）を充填し、 （２）第二貯蔵器にアルコキシシランまたはＳｉＨ含有
シリコーンおよび白金−含有ヒドロシル化用化合物を充
填し、 （３）反応容器中で二個の貯ｉ＆器の内容物を適当な温
度において一緒にし、 （４）粗製反応生成物をアルコールで後処理するか、ま
たは生成物を適当な温度において適当な時間にわたり後
加熱し、そして （５）後処理した生成物を抑制剤の存在下でそして減圧
下で真空蒸留する 段階からなっている。
メタクリルオキシおよびアクリルオキシ官能性化合物類
を含有している第一貯蔵器に安定剤を添加することによ
り、本発明はさらに改良できる。
を含有している第一貯蔵器に安定剤を添加することによ
り、本発明はさらに改良できる。
これらの安定剤の添加により後処理段階が省略され、こ
れらの安定剤の使用により系は重合に関して比較的敏感
でなくなり、従って安定剤が存在していないときに重合
を回避するために未反応のＳｉ−Ｈ化合物類または未反
応のアルコキシシラン類と反応させるのに使用さ丸るメ
タクリルオキシおよびアクリルオキシ官能性化合物類の
過剰量が減じられる。
れらの安定剤の使用により系は重合に関して比較的敏感
でなくなり、従って安定剤が存在していないときに重合
を回避するために未反応のＳｉ−Ｈ化合物類または未反
応のアルコキシシラン類と反応させるのに使用さ丸るメ
タクリルオキシおよびアクリルオキシ官能性化合物類の
過剰量が減じられる。
本発明の方法はバッチ式または連続的方法で実施できる
。これは、それが反応物類を一緒にする順序にどのよう
に影響するかに関する以外、本発明の要素に関してはｍ
要ではない。
。これは、それが反応物類を一緒にする順序にどのよう
に影響するかに関する以外、本発明の要素に関してはｍ
要ではない。
例えば、メタクリルオキシ含有有機珪素化合物の製造を
連続的な方法により実施する時には、白金触媒をアルコ
キシシランと一緒に混合しその後メタクリルオキシまた
はアクリルオキシ化合物および抑制剤と一緒にすべきで
ある。従って、連続的方法では白金−触媒をアルコキシ
シラン中に溶解させそして混合物をメタクリルオキシ−
抑制剤混合物中に反応温度において滴下することもでき
、または製造をバッチ式に実施する時には白金触媒をヒ
ドロシル化混合物に量を増加しながら加えることもでき
る。いずれの場合にも白金触媒をメタクリルオキシ−抑
制剤混合物と共に反応温度に加熱しそして次にシランを
白金−メタクリルオキシ−抑制剤混合物に滴下させるこ
とは避けるべきであり、その理由はこの添加方法を使用
するときにはしばしば反応混合物のデル化が生じるため
である。貯蔵器を工程段階により指示されているように
別個に保っている場合には、この後者の工程は生じない
であろう。
連続的な方法により実施する時には、白金触媒をアルコ
キシシランと一緒に混合しその後メタクリルオキシまた
はアクリルオキシ化合物および抑制剤と一緒にすべきで
ある。従って、連続的方法では白金−触媒をアルコキシ
シラン中に溶解させそして混合物をメタクリルオキシ−
抑制剤混合物中に反応温度において滴下することもでき
、または製造をバッチ式に実施する時には白金触媒をヒ
ドロシル化混合物に量を増加しながら加えることもでき
る。いずれの場合にも白金触媒をメタクリルオキシ−抑
制剤混合物と共に反応温度に加熱しそして次にシランを
白金−メタクリルオキシ−抑制剤混合物に滴下させるこ
とは避けるべきであり、その理由はこの添加方法を使用
するときにはしばしば反応混合物のデル化が生じるため
である。貯蔵器を工程段階により指示されているように
別個に保っている場合には、この後者の工程は生じない
であろう。
連続的反応においては望ましくない重合が生じるのを防
止するために反応混合物を常に動かしてお（ことが重要
である点に注意すべきである。連続的ＩＩ！置は各製造
の終了時に例えばトルエンの如き不活性溶媒を用いて洗
浄しなければならない。
止するために反応混合物を常に動かしてお（ことが重要
である点に注意すべきである。連続的ＩＩ！置は各製造
の終了時に例えばトルエンの如き不活性溶媒を用いて洗
浄しなければならない。
この方法で使用されるシラン類は一般式％式％）
［式中、
ＲおよびＲ′は炭素数が１−２０、好適には１−４、の
アル斗ル部分であり、そしてｎは０−１である］ により表わされる。
アル斗ル部分であり、そしてｎは０−１である］ により表わされる。
本発明のＳｉ−Ｈ含有シリコーンは、一般式％式％
［式中、
Ｒは炭素数が１−８の低級アルキル基または炭素数が６
−１０のアリール基、好適にはメチル、であり、 Ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］ を有するポリシロキサン重合体である。
−１０のアリール基、好適にはメチル、であり、 Ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］ を有するポリシロキサン重合体である。
メタクリルオキシまたはアクリルオキシ官能基を含有し
ている反応物類は一般式 ％式％ ［式中、 Ｒ２は水素、炭素数が２−８の低級アルキル基ま・たは
炭素数が６−１０の７リール基であり、 ＸはＣＨ，ＣＨ，ＯもしくはＣＨ２＊たはこれらの２個
の基の岨み合わせであり、そして鋤は０−１０．好適に
は０−５、である］により表わされる。
ている反応物類は一般式 ％式％ ［式中、 Ｒ２は水素、炭素数が２−８の低級アルキル基ま・たは
炭素数が６−１０の７リール基であり、 ＸはＣＨ，ＣＨ，ＯもしくはＣＨ２＊たはこれらの２個
の基の岨み合わせであり、そして鋤は０−１０．好適に
は０−５、である］により表わされる。
メタクリルオキシ含有化合物の量は、安定剤を使用しな
い時には、シランまたはボリシＯキサン重合体と反応す
るのに必要な化学量論的量より常に２−１０モル％過剰
で、好適には３−５モル％過剰で、使用しなければなら
ない、上記の如（、化学量論的必ｌ！量より過剰の７タ
クリレートまたはアクリレート成分蓋を使用すると、粗
製反応生成物中での相当な量の未反応のアルコキシシラ
ン！またはＳｉ−Ｈ含有ポリシロキサン類の存在が防止
されるであろう。
い時には、シランまたはボリシＯキサン重合体と反応す
るのに必要な化学量論的量より常に２−１０モル％過剰
で、好適には３−５モル％過剰で、使用しなければなら
ない、上記の如（、化学量論的必ｌ！量より過剰の７タ
クリレートまたはアクリレート成分蓋を使用すると、粗
製反応生成物中での相当な量の未反応のアルコキシシラ
ン！またはＳｉ−Ｈ含有ポリシロキサン類の存在が防止
されるであろう。
本方法の二段階中に、すなわちヒドロシル化反応中およ
び後処理した生成物の真空蒸留中に、抑制剤が使用され
る。
び後処理した生成物の真空蒸留中に、抑制剤が使用され
る。
本方法のヒドロシル化または真空蒸留中に使用できる抑
制剤類には、フェノール系抑制剤類、例えばヒドロキノ
ンのモノメチルエーテル（ＭＭＨＱ）、イソノックス■
１２９、芳香族アミン双、例えばジフェニレンジアミン
、芳香族硫黄化合物類、例えばフェノチアジン（ＰＴＺ
） 、またはそれらの組み合わせ物が包含される。これ
らの非７エ７−ル系お上Ｖフェノール系抑制剤類はいず
れの段階中でれ使用で島るのだ力（、ヒＶロシルイヒｄ
ｒｇ段階用にはフェノール系抑制剤類、例えばＭＭＨＱ
１イオノールまプこはイソノックス■１２９、だけを使
用することが好ましい、真空蒸留中では、非フェノール
系およびフェノール系抑制剤類の両方の組み合わせが好
適である。ヒドロシル化中の抑制剤の使用濃度は、メタ
クリルオキシまたはアクリルオキシを基にして、０．２
−５．０重量％の範囲、好適には０．５−２．０重置％
の範囲、である。真空蒸留用には、使用する生成物の重
量を基にして、非フェノール系抑制剤の濃度は２００−
１０，０００ｐｐｍｆ）範囲で変化するが、７エ／−ル
系抑制剤の濃度は５００−１５．ｏｏｏｐｐ−の範囲で
変化する。
制剤類には、フェノール系抑制剤類、例えばヒドロキノ
ンのモノメチルエーテル（ＭＭＨＱ）、イソノックス■
１２９、芳香族アミン双、例えばジフェニレンジアミン
、芳香族硫黄化合物類、例えばフェノチアジン（ＰＴＺ
） 、またはそれらの組み合わせ物が包含される。これ
らの非７エ７−ル系お上Ｖフェノール系抑制剤類はいず
れの段階中でれ使用で島るのだ力（、ヒＶロシルイヒｄ
ｒｇ段階用にはフェノール系抑制剤類、例えばＭＭＨＱ
１イオノールまプこはイソノックス■１２９、だけを使
用することが好ましい、真空蒸留中では、非フェノール
系およびフェノール系抑制剤類の両方の組み合わせが好
適である。ヒドロシル化中の抑制剤の使用濃度は、メタ
クリルオキシまたはアクリルオキシを基にして、０．２
−５．０重量％の範囲、好適には０．５−２．０重置％
の範囲、である。真空蒸留用には、使用する生成物の重
量を基にして、非フェノール系抑制剤の濃度は２００−
１０，０００ｐｐｍｆ）範囲で変化するが、７エ／−ル
系抑制剤の濃度は５００−１５．ｏｏｏｐｐ−の範囲で
変化する。
本発明で使用される白金−含有ヒドロシル化触媒は、担
持された白金−触媒類、例えばγ−アルミナまたは木炭
上の白金、または均質な可溶性白金錯体、例えばクロロ
白金酸、ビス−（エチレン第一白金）クロライド、ジク
ロロビス（アセト二Ｆリル）白金（ＩＩ）、シス−ジク
ロロビス（トリフェニルホスフィン）白金（ＩＩ）、テ
トラキス（テドラフェニルホスフィン）白金（０）また
は当技術で公知の他の可溶性白金錯体類、からなる群か
ら選択される。可溶性白金錯体類は通常溶媒類、例えば
イソプロパノール、アセトニトリルまたは１．２−ジメ
トキシエタン、中の溶液状である。
持された白金−触媒類、例えばγ−アルミナまたは木炭
上の白金、または均質な可溶性白金錯体、例えばクロロ
白金酸、ビス−（エチレン第一白金）クロライド、ジク
ロロビス（アセト二Ｆリル）白金（ＩＩ）、シス−ジク
ロロビス（トリフェニルホスフィン）白金（ＩＩ）、テ
トラキス（テドラフェニルホスフィン）白金（０）また
は当技術で公知の他の可溶性白金錯体類、からなる群か
ら選択される。可溶性白金錯体類は通常溶媒類、例えば
イソプロパノール、アセトニトリルまたは１．２−ジメ
トキシエタン、中の溶液状である。
白金触媒の必要な濃度は反応温度および時間に依存する
が、一般的にヒドロシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコー
ンおよびアリルメタクリレートの全重量を基にして２−
１００ ｐｐｍの、好適には１０２５ ｐｐｍの、範囲
で使用される。
が、一般的にヒドロシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコー
ンおよびアリルメタクリレートの全重量を基にして２−
１００ ｐｐｍの、好適には１０２５ ｐｐｍの、範囲
で使用される。
反応容器中での粗製生成物の蒸留安定性を改良するため
に、反応混合物を少量のフルフール、例えばメタノール
、で後処理し、および／または約１２０°Ｃにある時間
にわたり加熱しなければならない。そうしないと、真空
蒸留段階中もしくは貯蔵中に別のデル化が生じることが
あったり、または最終生成物の百分率収率が相当減じら
れることがある。後処理により粗製生成物の安定性がな
ぜ改良されるのかという正確な理由はわかっていない。
に、反応混合物を少量のフルフール、例えばメタノール
、で後処理し、および／または約１２０°Ｃにある時間
にわたり加熱しなければならない。そうしないと、真空
蒸留段階中もしくは貯蔵中に別のデル化が生じることが
あったり、または最終生成物の百分率収率が相当減じら
れることがある。後処理により粗製生成物の安定性がな
ぜ改良されるのかという正確な理由はわかっていない。
しかし、後処理の前後に行なったガろクロマトグラフィ
の比較は、両方の処理すなわちアルコール添加または約
１２０℃での加熱が混合物中に残っている未反応のアル
コキシシランまたはＳｉＨ含有シリコーン並びに少量の
副生物を除去したことを示していた。
の比較は、両方の処理すなわちアルコール添加または約
１２０℃での加熱が混合物中に残っている未反応のアル
コキシシランまたはＳｉＨ含有シリコーン並びに少量の
副生物を除去したことを示していた。
後処理用に必要なアルコールの１は、反応混合物中に残
っている未反応のフルフキシシランまたはＳｉＨ含有シ
リコーンの量に依存している。普通の条件下でのヒドロ
シル化の実施完了時には、すなわち未反応の残存アルコ
キシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンがＧＣ分析に
より１％以下である時には、製造された生成物を基にし
て１−３重量％のアルコールで充分であるが、３％以上
約５％までの量も使用できる。いずれのアルコールＲＯ
Ｈ（ここでＲは炭素数が１−２０のアルキルである）で
も使用できるが、メタノールが最も好適である。
っている未反応のフルフキシシランまたはＳｉＨ含有シ
リコーンの量に依存している。普通の条件下でのヒドロ
シル化の実施完了時には、すなわち未反応の残存アルコ
キシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンがＧＣ分析に
より１％以下である時には、製造された生成物を基にし
て１−３重量％のアルコールで充分であるが、３％以上
約５％までの量も使用できる。いずれのアルコールＲＯ
Ｈ（ここでＲは炭素数が１−２０のアルキルである）で
も使用できるが、メタノールが最も好適である。
後処理は反応混合物を抑制剤の存在下で１００−１４０
℃に５−４０分間にわたり、好適には１１０−１３０℃
に２０−３０分間にわたり、加熱することが必要である
。
℃に５−４０分間にわたり、好適には１１０−１３０℃
に２０−３０分間にわたり、加熱することが必要である
。
後処理の後に、１ｉｔａ！！メタクリルオキシお上Ｖア
クリルオキシ含有有機珪素化合物類を上記で定義されて
いる抑制剤類の存在下でそして減圧下で蒸留できる。
クリルオキシ含有有機珪素化合物類を上記で定義されて
いる抑制剤類の存在下でそして減圧下で蒸留できる。
本発明の連続的方法によると、第一貯蔵器のメタクリレ
ート／アクリレート−抑制剤混合物を８ｓ−ｉｏｏ℃、
好適には９０−１００℃、に予備加熱すべきである。メ
タクリレートの予備加熱は温度を二個の貯蔵器からの反
応物類が７０−９０℃、好適には７５−８５℃、で−緒
になるような温度にする。反応容器を保つための油浴温
度は８０−１２０”Ｃ１好適には９０−１１０℃、に最
も良く保たれている。
ート／アクリレート−抑制剤混合物を８ｓ−ｉｏｏ℃、
好適には９０−１００℃、に予備加熱すべきである。メ
タクリレートの予備加熱は温度を二個の貯蔵器からの反
応物類が７０−９０℃、好適には７５−８５℃、で−緒
になるような温度にする。反応容器を保つための油浴温
度は８０−１２０”Ｃ１好適には９０−１１０℃、に最
も良く保たれている。
反応をバッチ式で実施する時には、第一貯蔵器自体が反
応器であってもよく、第二貯蔵器は追加漏斗であること
ができる。漏斗中の反応物類を滴下する前に、反応器中
の反応物類もａｓ−ｉｏ。
応器であってもよく、第二貯蔵器は追加漏斗であること
ができる。漏斗中の反応物類を滴下する前に、反応器中
の反応物類もａｓ−ｉｏ。
℃、好適には５ｏ−ｉ ｏｏ℃、・に加熱される。好適
な反応温度は８０−１２０℃，より好適には９０−１１
０℃１である。８０℃より低い温度も使用できるが、反
応実施時間が長くなりそして反応混合物中に残る未反応
のフルフキシシランも比較的多くなる。反応混合物中に
残っている未反応のアルコキシシランの量が多くなれば
なるほど、後処理しなかった場合に生成物が蒸留および
貯蔵中にデル化する機会が多くなる。ヒドロシル化を１
２５°Ｃより高い反応温度において実施する時には、ヒ
ドロシル化中にデル化が生じることがある。
な反応温度は８０−１２０℃，より好適には９０−１１
０℃１である。８０℃より低い温度も使用できるが、反
応実施時間が長くなりそして反応混合物中に残る未反応
のフルフキシシランも比較的多くなる。反応混合物中に
残っている未反応のアルコキシシランの量が多くなれば
なるほど、後処理しなかった場合に生成物が蒸留および
貯蔵中にデル化する機会が多くなる。ヒドロシル化を１
２５°Ｃより高い反応温度において実施する時には、ヒ
ドロシル化中にデル化が生じることがある。
連続的方法またはバッチ式方法の両者とも、反応混合物
の滞在時間および反応物類の充填速度は反応器の寸法お
よゾ使用する油浴の温度に依存している。ｖｆ定の滞在
時間および／または充填速度の使用は条件ではない。連
続的方法用には、連続的反応器中を通った後の反応混合
物の内容物が未反応のアルコキシシランまたはＳｉ
Ｈ含有シリコーンをほとんどもしくは全く含有していな
いようにししかも反応器中の混合物が全時間にわたり動
いているように調節しなければならないことが重要であ
る。
の滞在時間および反応物類の充填速度は反応器の寸法お
よゾ使用する油浴の温度に依存している。ｖｆ定の滞在
時間および／または充填速度の使用は条件ではない。連
続的方法用には、連続的反応器中を通った後の反応混合
物の内容物が未反応のアルコキシシランまたはＳｉ
Ｈ含有シリコーンをほとんどもしくは全く含有していな
いようにししかも反応器中の混合物が全時間にわたり動
いているように調節しなければならないことが重要であ
る。
本発明の他の面では、第一反応貯蔵器中で例えばジケト
ンおよびケトエステルの如き化合物類を抑制剤と一緒に
使用するとメタクリルオキシおよびアクリルオキシ含有
有機珪素化合物の安定性をさらに改良できる。使用でさ
る化合物類には、例えばケトン類およびエステル類の如
き２個の酸素官能基を有する化合物のほとんど全てが包
含される。モノケトまたはエステル含有化合物類、例え
ば酸化メシチル、ペンタノン−２お上びメチルプロポー
ショネート、もある程度の安定化効果を示すが、そのよ
うな化合物類がメタクリルオキシ含有有機珪素化合物類
を重合に対して安定化させるのに必要な量はシブトン類
およりケトエステル類に関して必要なものよりはるかに
多い。
ンおよびケトエステルの如き化合物類を抑制剤と一緒に
使用するとメタクリルオキシおよびアクリルオキシ含有
有機珪素化合物の安定性をさらに改良できる。使用でさ
る化合物類には、例えばケトン類およびエステル類の如
き２個の酸素官能基を有する化合物のほとんど全てが包
含される。モノケトまたはエステル含有化合物類、例え
ば酸化メシチル、ペンタノン−２お上びメチルプロポー
ショネート、もある程度の安定化効果を示すが、そのよ
うな化合物類がメタクリルオキシ含有有機珪素化合物類
を重合に対して安定化させるのに必要な量はシブトン類
およりケトエステル類に関して必要なものよりはるかに
多い。
従って、フケトン類、例えばペンタジオン−２゜４お上
りヘキサノオン−２，５、並びにケトエステル類、例え
ば７セト酢酸メチル、が本発明用の安定剤として使用す
るのに好適な化合物であり、より好適にはシブトン類で
ある。
りヘキサノオン−２，５、並びにケトエステル類、例え
ば７セト酢酸メチル、が本発明用の安定剤として使用す
るのに好適な化合物であり、より好適にはシブトン類で
ある。
安定剤の使用量は、出発時のメタクリレートまたはアク
リレートの使用量を基にして２−１０重量％、より好適
には２−５重量％、に変えることができる。
リレートの使用量を基にして２−１０重量％、より好適
には２−５重量％、に変えることができる。
Ｘ１目生
下記の個々の実施例および工程は本発明を説明するため
のものであるが、本発明をそれらに限定しようとするも
のではない。
のものであるが、本発明をそれらに限定しようとするも
のではない。
定１゜
％ 百分率
ｇ グラム
ｈｒ 時間
ＧＣ、ｌｙスクロマトグラフイ
白金 白金
μｍ マイクロリットルｐｐｍ
百万分の一 インソノックス■１２９この商標名で販売されておりそ
して一般的に入手可能 なフェノール系安定剤 ＰＴＺ フェッチ７シンＭＭＨＱ
ヒドロキノンのモノメチルエーテル 叉ＪＬＪＬＬ 油浴で加熱されている反応容器と連結しでいる二個の貯
蔵器ＡおよゾＢからなる研究室用装置を使用して、γ−
メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランを下記の
如くして連続的に製造した。
百万分の一 インソノックス■１２９この商標名で販売されておりそ
して一般的に入手可能 なフェノール系安定剤 ＰＴＺ フェッチ７シンＭＭＨＱ
ヒドロキノンのモノメチルエーテル 叉ＪＬＪＬＬ 油浴で加熱されている反応容器と連結しでいる二個の貯
蔵器ＡおよゾＢからなる研究室用装置を使用して、γ−
メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランを下記の
如くして連続的に製造した。
製造前に、貯蔵器Ａ（アリルメタクリレート）用に使用
されるポンプを予め設置してトルエンを約２．５−３．
０．７分の速度で供給し、モして油浴を１１０℃に加熱
した。２２２ｇのアリルメタクリレートおよび２．２２
ｇのインノックス■１２９を混合し、そして貯蔵器Ａに
充填した。熱電対の温度が約９５℃（混合物が第二の貯
蔵器の反応物類と合う前に、それがアリルメタクリレー
ト−インノックス■１２９の温度を測定した点）に達し
た時に、トルエン供給を停止し、そしてアリルメタクリ
レート−インノックス■１２９の混合物をポンプで反応
容器中に通した。装置中のトルエンのほとんどがアリル
メタクリレートにより置換された時に、１０８ｇのトリ
メトキシシランを約１５ ｐｐｍの白金触媒、Ｈ２Ｐｔ
Ｃ１ｓ、と混合し、そして装置に貯蔵器Ｂを介して充填
した。ポンプで加えられるトリメトキシシランの速度は
最初は、予＠測定されたアリルメタクリレート速度を基
にして確実に３−５モル％過剰１のメタクリレートが存
在するように調節された。集められた生成物の第一留分
の〃スクロマトグラフイ分析が多ｒぎたり少なすぎたり
するトリットキシシランを示した時には、それをさらに
ｍ節した。調節の目的は、トリメトキシ、シランを全く
含まないかまたは非常にわずかだけ含んでおりそして約
３−５モル％過剰量の７リルメタクリレートを含んでい
る粗製γ−メククリルオキシプロビルトリメトキシシラ
ン混合物を得ること゛である。製造は約５時間にわたり
続けられ、そして〃スクロマＦグラフィにより同定され
た１０８７ｇの粗製γ−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシランが集められた。製造の終了時に、トルエ
ンをポンプを通して再び加えて、装置を次の製造用に準
備するために系から有機シランを洗い流した。
されるポンプを予め設置してトルエンを約２．５−３．
０．７分の速度で供給し、モして油浴を１１０℃に加熱
した。２２２ｇのアリルメタクリレートおよび２．２２
ｇのインノックス■１２９を混合し、そして貯蔵器Ａに
充填した。熱電対の温度が約９５℃（混合物が第二の貯
蔵器の反応物類と合う前に、それがアリルメタクリレー
ト−インノックス■１２９の温度を測定した点）に達し
た時に、トルエン供給を停止し、そしてアリルメタクリ
レート−インノックス■１２９の混合物をポンプで反応
容器中に通した。装置中のトルエンのほとんどがアリル
メタクリレートにより置換された時に、１０８ｇのトリ
メトキシシランを約１５ ｐｐｍの白金触媒、Ｈ２Ｐｔ
Ｃ１ｓ、と混合し、そして装置に貯蔵器Ｂを介して充填
した。ポンプで加えられるトリメトキシシランの速度は
最初は、予＠測定されたアリルメタクリレート速度を基
にして確実に３−５モル％過剰１のメタクリレートが存
在するように調節された。集められた生成物の第一留分
の〃スクロマトグラフイ分析が多ｒぎたり少なすぎたり
するトリットキシシランを示した時には、それをさらに
ｍ節した。調節の目的は、トリメトキシ、シランを全く
含まないかまたは非常にわずかだけ含んでおりそして約
３−５モル％過剰量の７リルメタクリレートを含んでい
る粗製γ−メククリルオキシプロビルトリメトキシシラ
ン混合物を得ること゛である。製造は約５時間にわたり
続けられ、そして〃スクロマＦグラフィにより同定され
た１０８７ｇの粗製γ−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシランが集められた。製造の終了時に、トルエ
ンをポンプを通して再び加えて、装置を次の製造用に準
備するために系から有機シランを洗い流した。
集められた＠製生戎物類を一緒にし、そして１０００ｐ
ｐ輸のフェノチアジンお上り５００ｐｐ曽のヒドロキノ
ンのモノメチルエーテルを用いて安定化させた。蒸留デ
ータを基にして計算されたγ−メタクリルオキシプロピ
ルトリメトキシシランの収率はＧ、Ｃ，分析に基ずくと
８３．９％であった。
ｐ輸のフェノチアジンお上り５００ｐｐ曽のヒドロキノ
ンのモノメチルエーテルを用いて安定化させた。蒸留デ
ータを基にして計算されたγ−メタクリルオキシプロピ
ルトリメトキシシランの収率はＧ、Ｃ，分析に基ずくと
８３．９％であった。
ｍζ二」一
実施例１用に使用された工程をさらに５回繰り返した。
滞在時開、反応温度、集められた粗製生成物、お上びγ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの収率
の変化を表１にまとめた。
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの収率
の変化を表１にまとめた。
シル−−一＝
束ノｆ７−１３； 較実施例ＡおよびＢ各実験から集め
られた粗製生成物類を分割し、そして蒸留前にメタノー
ルで後処理し、および／または１２０℃に３０分間加熱
した。後処理の効果を示すために、それらを次に蒸留し
た。得られた結果を表■にまためな。
られた粗製生成物類を分割し、そして蒸留前にメタノー
ルで後処理し、および／または１２０℃に３０分間加熱
した。後処理の効果を示すために、それらを次に蒸留し
た。得られた結果を表■にまためな。
上記のデータから、均一な蒸留安定性を得るためには粗
製生成物を蒸留前に熱またはアルコールを用いて処理す
べきであることがわかる。
製生成物を蒸留前に熱またはアルコールを用いて処理す
べきであることがわかる。
大１目１工」−
アリルメタクリレートを基にして３．４ｇ１１％のペン
タンジオン−２，４をアリルメタクリレートおよびイン
ノックス■１２９の混合物に加えたこと以外は、実施例
１と同じ工程を繰り返した。
タンジオン−２，４をアリルメタクリレートおよびイン
ノックス■１２９の混合物に加えたこと以外は、実施例
１と同じ工程を繰り返した。
製造を３．１時間行い、そして９７７ｇの粗製生成物が
集められた。ＧＣデータに基ずくと反応のγ−メタクリ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン収率は８５．３％
であった。
集められた。ＧＣデータに基ずくと反応のγ−メタクリ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン収率は８５．３％
であった。
采１■ｌ上」−
アリルメタクリレートを基にして３．４重量％のペンタ
ンジオン−２，４をアリルメタクリレート−インノック
ス■１２９の混合物に装置中に充填する前に加えたこと
および使用した白金−触媒がジクロロビス（アセトニト
リル）−白金（ＩＩ）であったこと以外は、実施例１と
同じ工程を繰り返した。ＩＩ造を３．３時間行い、そし
て期凋中に１０３６ｇの粗製生成物が集められた。ＧＣ
データに基ずくと反応の収率は８３．４％であった。
ンジオン−２，４をアリルメタクリレート−インノック
ス■１２９の混合物に装置中に充填する前に加えたこと
および使用した白金−触媒がジクロロビス（アセトニト
リル）−白金（ＩＩ）であったこと以外は、実施例１と
同じ工程を繰り返した。ＩＩ造を３．３時間行い、そし
て期凋中に１０３６ｇの粗製生成物が集められた。ＧＣ
データに基ずくと反応の収率は８３．４％であった。
医ｆｆ１
７リルメタクリレートの量を０．９８の７リルメタクリ
レート／）リメＦキシシランモル比に減じたことおよび
アリルメタクリレートを基にして３．４［１％のベンタ
ンクオン−２，４ｔ−７１フルメタクリレート−イソノ
ックス■１２９の混合物に加えたこと以外は、実施例１
と同じ工程を繰り返した。製造を３．５時間行った。最
初の１．７時間中には、約１５ｐｐｍのＣ１□Ｐ Ｌ（
ＣＨ３ＣＮ ） ２を白金触媒として使用しｒ−８次の
１．８時間には、白金触媒を約１５ｐｐｍのＨ２Ｐ ｔ
ＣＩｓに変えた。油浴の反応温度は１０９−１１３℃で
あった。前半の１．７時間に５５５ｇの＠製生放物が集
められ、そして次の１．８時間に５７０ｇが集められた
。
レート／）リメＦキシシランモル比に減じたことおよび
アリルメタクリレートを基にして３．４［１％のベンタ
ンクオン−２，４ｔ−７１フルメタクリレート−イソノ
ックス■１２９の混合物に加えたこと以外は、実施例１
と同じ工程を繰り返した。製造を３．５時間行った。最
初の１．７時間中には、約１５ｐｐｍのＣ１□Ｐ Ｌ（
ＣＨ３ＣＮ ） ２を白金触媒として使用しｒ−８次の
１．８時間には、白金触媒を約１５ｐｐｍのＨ２Ｐ ｔ
ＣＩｓに変えた。油浴の反応温度は１０９−１１３℃で
あった。前半の１．７時間に５５５ｇの＠製生放物が集
められ、そして次の１．８時間に５７０ｇが集められた
。
二種の白金触媒を使用して集められた粗製生成物をＧＣ
分析すると、それぞれ３．９９およＶ２゜８４％部分の
未反応のトリメトキシシランの存在が示された。Ｇ、Ｃ
０分析に基ずきモして主席した蒸留生成物を基にすると
、前半の製造に関する反応の収率は８４．８％でありそ
して後半のは８４．５％であった。
分析すると、それぞれ３．９９およＶ２゜８４％部分の
未反応のトリメトキシシランの存在が示された。Ｇ、Ｃ
０分析に基ずきモして主席した蒸留生成物を基にすると
、前半の製造に関する反応の収率は８４．８％でありそ
して後半のは８４．５％であった。
衷１ＬＬＬニュ」一
実施例１４．１５および１６から得られたＩＩＬ９１生
成物類を、後処理せずに、１０００ｐｐｓ＋のＰＴＺお
よび４０００ ｐｐｓｒのＭＭＨＱの存在下で真空蒸留
した。得られた結果を表■にまとめた。
成物類を、後処理せずに、１０００ｐｐｓ＋のＰＴＺお
よび４０００ ｐｐｓｒのＭＭＨＱの存在下で真空蒸留
した。得られた結果を表■にまとめた。
上記の実施例から、ペンタンジオン−２，４の存在下ｔ
’＊造されたγ−メタクリルオキシプロピルトリメトキ
シシランはペンタンジオン−２，４の不存在下で９１遺
されたものより安定であることがわかる。その結果、ペ
ンタンジオンー２，４の存在下で！ｌｉ！遺された粗製
生成物は化学量論的量の７リルメタクリレートを用いて
も製造できるだけでなく、２−４モル％過剰量のトリメ
トキシシランが存在している時でさ元それを蒸留前に後
処理せずに蒸留することもできるゆ に１形」」シ側施ｊ１ン トリメトキシシランのポンプ供給速度を粗製γ−メタク
リルオキシプロピルトリメトキシシランの最初の二留分
が７−９モル％過剰量の未反応のトリメトキシシランを
含有しておりそして集められた残りの留分が少量または
痕跡量の未反応のトリメトキシシランを含有しているよ
うに調節した。
’＊造されたγ−メタクリルオキシプロピルトリメトキ
シシランはペンタンジオン−２，４の不存在下で９１遺
されたものより安定であることがわかる。その結果、ペ
ンタンジオンー２，４の存在下で！ｌｉ！遺された粗製
生成物は化学量論的量の７リルメタクリレートを用いて
も製造できるだけでなく、２−４モル％過剰量のトリメ
トキシシランが存在している時でさ元それを蒸留前に後
処理せずに蒸留することもできるゆ に１形」」シ側施ｊ１ン トリメトキシシランのポンプ供給速度を粗製γ−メタク
リルオキシプロピルトリメトキシシランの最初の二留分
が７−９モル％過剰量の未反応のトリメトキシシランを
含有しておりそして集められた残りの留分が少量または
痕跡量の未反応のトリメトキシシランを含有しているよ
うに調節した。
留分を、使用した生成物の重量を基にして、１００ｐ１
）曽のＰＴＺおよび５００ｐｐ−のＭ Ｍ ＨＱの存在
窓のトリメトキシシランを含有している両留分（比較χ
尾側Ｃ）は−夜でゲル化したが、少量または痕跡量のト
リットキシシランだけを有する留分〈実施例２１）は非
粘看性の液体のままであった。これらの結果は、＄１１
５１γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキンシラン
の安定性における未反応のトリットキシシランの効果を
示している。
）曽のＰＴＺおよび５００ｐｐ−のＭ Ｍ ＨＱの存在
窓のトリメトキシシランを含有している両留分（比較χ
尾側Ｃ）は−夜でゲル化したが、少量または痕跡量のト
リットキシシランだけを有する留分〈実施例２１）は非
粘看性の液体のままであった。これらの結果は、＄１１
５１γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキンシラン
の安定性における未反応のトリットキシシランの効果を
示している。
Ｆ凪
機械的攪件器、添加漏斗、温度計および冷却器を備えた
１００第１の四首大底フラスコ中に、フラスコに乾燥空
気を流した後に、２． ＧＦｉのイソノックス０１２
９および２５９ｇのアリルメタクリレ−１−を加°えた
。添加漏斗に２４４ｇのトリメトキシシランを加えた。
１００第１の四首大底フラスコ中に、フラスコに乾燥空
気を流した後に、２． ＧＦｉのイソノックス０１２
９および２５９ｇのアリルメタクリレ−１−を加°えた
。添加漏斗に２４４ｇのトリメトキシシランを加えた。
反応混合物を８５°Ｃに加熱し、トリットキシシランを
滴下し、そしてＨ２ＰｔＣＩｓ溶液を加えた。
滴下し、そしてＨ２ＰｔＣＩｓ溶液を加えた。
（ＨｅＯ）ｚＳｉＩＩ Ｈ２ヱ匹±１良添
加中に、混合物を冷水浴または加熱で８５−９５℃に保
った。加えられた全てのトリメトキシシランの全てが反
応したことを反応混合物のＧＣが示した時に、加熱を停
止した。
加中に、混合物を冷水浴または加熱で８５−９５℃に保
った。加えられた全てのトリメトキシシランの全てが反
応したことを反応混合物のＧＣが示した時に、加熱を停
止した。
１００ ｐｐｍのＰＴＺおよ（１５００ｐｐｍのＭＭ
ＨＱを反応混合物に加え、混合物を１２０℃に加熱し、
そしてこの温度を３０分間保った。実験をさらに５回繰
り返したが、どれも不安定性の問題は示さなかった。γ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの収率
％はＣ８Ｃ６分析に基ずくと全て８１−８４％の範囲内
であった。
ＨＱを反応混合物に加え、混合物を１２０℃に加熱し、
そしてこの温度を３０分間保った。実験をさらに５回繰
り返したが、どれも不安定性の問題は示さなかった。γ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの収率
％はＣ８Ｃ６分析に基ずくと全て８１−８４％の範囲内
であった。
衷１ｕｌ主」−
反応を１モルのトリメトキシシラン規模で実施したこと
および白金触媒をトリメトキシシランと混合しそしてア
リルメタクリレートーイソノ７クス■１２９中に９０−
１００℃において滴下したこと以外は、実施例２２用に
使用した工程を繰り返した。ＧＣ分析に基ずいて計算し
たγ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの
収率は８１．３％であった。
および白金触媒をトリメトキシシランと混合しそしてア
リルメタクリレートーイソノ７クス■１２９中に９０−
１００℃において滴下したこと以外は、実施例２２用に
使用した工程を繰り返した。ＧＣ分析に基ずいて計算し
たγ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの
収率は８１．３％であった。
Ｊｉ焚叉１１」−
１１２，６ｇの７リルメタクリレート、１．１２ｇのイ
ソノックス■１２９．１０８ｇのトリメトキシシランお
よび２２０μｍのＨ２ＰｔＣｌｉ溶液（白金＝１５ρｐ
ｓ＋）を使用したことおよび白金触媒をアリルメタクリ
レートーイソノシクス＠１２９混合物と混合しそしてト
リットキシシランの滴下前に９０℃に加熱したこと以外
は、実施例２２の工程をａり返した。
ソノックス■１２９．１０８ｇのトリメトキシシランお
よび２２０μｍのＨ２ＰｔＣｌｉ溶液（白金＝１５ρｐ
ｓ＋）を使用したことおよび白金触媒をアリルメタクリ
レートーイソノシクス＠１２９混合物と混合しそしてト
リットキシシランの滴下前に９０℃に加熱したこと以外
は、実施例２２の工程をａり返した。
実験を５回繰り返した。５回の実験のうち、必要なトリ
メトキシシランの約８０−８５％を反応混合物に加えた
時にはこれらの３回がゲル化した。
メトキシシランの約８０−８５％を反応混合物に加えた
時にはこれらの３回がゲル化した。
ゲル化しなかった他の２回の実験の収率は、反応混合物
のＧＣ分析に従うと６（５−６８％であった。
のＧＣ分析に従うと６（５−６８％であった。
実施例２２お上り比較実施例りの比較は、白金触媒の添
加方法のｌ！３性を示している。デル化変化を相当減少
させるためには、白金触媒をメタクリレート／抑制剤に
添加する前に白金触媒をアルコキシシランと反応させな
ければならない。
加方法のｌ！３性を示している。デル化変化を相当減少
させるためには、白金触媒をメタクリレート／抑制剤に
添加する前に白金触媒をアルコキシシランと反応させな
ければならない。
１１涯１１
３．８ｇのペンタジオン−２，４を７リルメタクリレー
トーインノツクス■１２９−白金触媒混合物に加えその
後混合物を９０℃に加熱したこと以外は、比１ｆｆｉｆ
ｆ側りの工程を繰り返した。実験を３回繰り返したが、
ヒドロシル化中にそれらのどれもゲル化しなかった。γ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの収率
は８５−７７％であった。さらに、反応混合物を、蒸留
前に１１０００ｐｐのＰＴＺおよＣ／４０００ｐｐｍ）
ＭＭＨＱの存在下で後処理なしに真空蒸留した。ｉ留デ
ータを基にしたγ−メタクリルオキシプロピルトリメト
キシシランの収率は、Ｇ、Ｃ，分析に基ずくと６３−７
４％であった。
トーインノツクス■１２９−白金触媒混合物に加えその
後混合物を９０℃に加熱したこと以外は、比１ｆｆｉｆ
ｆ側りの工程を繰り返した。実験を３回繰り返したが、
ヒドロシル化中にそれらのどれもゲル化しなかった。γ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの収率
は８５−７７％であった。さらに、反応混合物を、蒸留
前に１１０００ｐｐのＰＴＺおよＣ／４０００ｐｐｍ）
ＭＭＨＱの存在下で後処理なしに真空蒸留した。ｉ留デ
ータを基にしたγ−メタクリルオキシプロピルトリメト
キシシランの収率は、Ｇ、Ｃ，分析に基ずくと６３−７
４％であった。
従って、反応混合物に対するペンタジオン−２゜４の添
加はγ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
のデル化傾向を大きく減少させて、該化合物のデル化を
促進させるこれらの条件下でさえすなわち白金触媒をシ
ランの前に加える時またはアルコールもしくは後処理段
階を使用しない時でさえ、該化合物を製造できる。
加はγ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
のデル化傾向を大きく減少させて、該化合物のデル化を
促進させるこれらの条件下でさえすなわち白金触媒をシ
ランの前に加える時またはアルコールもしくは後処理段
階を使用しない時でさえ、該化合物を製造できる。
−２５−２９° 実 ｇＥ−に
種々の化合物類の安定性効果を試駿するために、一連の
実験を下記の如〈実施した。
実験を下記の如〈実施した。
冷却器、温度計および乾燥空気流入−流出管を備えた５
０第１の三首丸底フラスコ中に、１０ｇの蒸留されたγ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、０．
０１７４ＨのＰＴＺ、１．０または３．４ｇのトリメト
キシシランおよび希望する量の試験する化合物を加えた
。混合物を８５℃に加熱し、そして白金触媒を加えた。
０第１の三首丸底フラスコ中に、１０ｇの蒸留されたγ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、０．
０１７４ＨのＰＴＺ、１．０または３．４ｇのトリメト
キシシランおよび希望する量の試験する化合物を加えた
。混合物を８５℃に加熱し、そして白金触媒を加えた。
加熱を続け、そして反応混合物の温度を９５−１００
℃に保った。反応混合物の粘度変化が観られた時間を記
録した。得られた結果を衰■にまとめた。
℃に保った。反応混合物の粘度変化が観られた時間を記
録した。得られた結果を衰■にまとめた。
トリメトキシシランおよび白金触媒の存在下でまたはメ
タクリルオキシ−含有有機珪素化合物類の製造用の条件
下でγ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
を重合に対して安定化するにはジケトン類が最も有効な
化合物類であることがデータかられかる。ケトおよび／
またはエステル基を含有している化合物類も種々の程度
の安定化効果を示したが（例えば比較実施例ＥおよびＦ
対実尾側２８およＩ／２９並びに比較実施例Ｈ−Ｋ）、
これらの化合物類が例えばγ−メタクリルオキシプロピ
ルトリメトキシシランの如きメタクリルオキシ−含有有
機珪素化合吻類の重合を防止するために必要な量は例え
ばペンタジオン−２゜４の如きジケトンを使用した時よ
りはるかに多かった。
タクリルオキシ−含有有機珪素化合物類の製造用の条件
下でγ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
を重合に対して安定化するにはジケトン類が最も有効な
化合物類であることがデータかられかる。ケトおよび／
またはエステル基を含有している化合物類も種々の程度
の安定化効果を示したが（例えば比較実施例ＥおよびＦ
対実尾側２８およＩ／２９並びに比較実施例Ｈ−Ｋ）、
これらの化合物類が例えばγ−メタクリルオキシプロピ
ルトリメトキシシランの如きメタクリルオキシ−含有有
機珪素化合吻類の重合を防止するために必要な量は例え
ばペンタジオン−２゜４の如きジケトンを使用した時よ
りはるかに多かった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、（ａ）第一貯蔵器に （ｉ）官能基含有化合物と有機シランまたはシリコーン
の間で完全な反応を生じるのに必要な化学量論的量のア
ルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンより２−
１０モル％過剰のメタクリルオキシまたはアクリルオキ
シ官能基含有化合物、および （ｉｉ）使用されるメタクリルオキシまたはアクリルオ
キシの量を基にして０．２−５．０重量％の抑制剤 を充填し、 （ｂ）第二貯蔵器に （ｉ）（ａ）で使用されるメタクリルオキシまたはアク
リルオキシ含有化合物との完全な反応を生じるのに必要
な化学量論的量のアルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有
シリコーン、および （ｉｉ）触媒量の白金−含有ヒドロシル化触媒を充填し
、 （ｃ）二個の貯蔵器の内容物を反応容器中で８０−１２
０℃において一緒にし、 （ｄ）粗製反応生成物を生成物を基にして１−５重量％
のアルコールで後処理するか、または反応生成物を１０
０−１４０℃に５−４０分間にわたり後加熱し、そして （ｅ）後処理された生成物を抑制剤の存在下でそして減
圧下で真空蒸留する ことからなる、メタクリルオキシまたはアクリルオキシ
含有有機珪素化合物類を望ましくない重合を伴なわずに
製造する方法。 ２、（ａ）第一貯蔵器に （ｉ）官能基含有化合物と有機シランまたはシリコーン
の間で完全な反応を生じるのに必要な化学量論的量のア
ルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンより２−
１０モル％過剰のメタクリルオキシまたはアクリルオキ
シ官能基含有化合物、（ｉｉ）使用されるメタクリルオ
キシまたはアクリルオキシの量を基にして０．２−５．
０重量％の抑制剤、および （ｉｉｉ）安定剤 を充填し、 （ｂ）第二貯蔵器に （ｉ）（ａ）で使用されるメタクリルオキシまたはアク
リルオキシ含有化合物との完全な反応を生じるのに必要
な化学量論的量のアルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有
シリコーン、および （ｉｉ）触媒量の白金−含有ヒドロシル化触媒を充填し
、 （ｃ）二個の貯蔵器の内容物を反応容器中で８０−１２
０℃において一緒にし、そして （ｄ）生成物を抑制剤の存在下でそして減圧下で真空蒸
留する ことからなる、メタクリルオキシまたはアクリルオキシ
含有有機珪素化合物類を望ましくない重合を伴なわずに
製造する方法。 ３、アルコキシシランが一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 ＲおよびＲ′は炭素数が１−２０の低級アルキル部分で
あり、そして ｎは０−１である］ により表わされる、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４、低級アルキル部分の炭素数が１−４である、特許請
求の範囲第３項記載の方法。 ５、Ｓｉ−Ｈ含有シリコーンが一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒは炭素数が１−８の低級アルキル基または炭素数が６
−１０のアリール基であり、 ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］ を有するポリシロキサン重合体である、特許請求の範囲
第１項記載の方法。 ６、Ｒがメチルである、特許請求の範囲第５項記載の方
法。 ７、メタクリルオキシまたはアクリルオキシ官能基含有
化合物が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＾２は水素、炭素数が２−８の低級アルキル基または
炭素数が６−１０のアリール基であり、 ＸはＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯもしくはＣＨ＿２またはこれら
の２個の基の組み合わせであり、そして ｍは０−１０である］ により表わされる、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ８、ｍが０−５である、特許請求の範囲第７項記載の方
法。 ９、抑制剤がフェノール系抑制剤類、芳香族アミン類、
芳香族硫黄化合物類およびそれらの組み合わせ物からな
る群から選択される、特許請求の範囲第１項記載の方法
。 １０、フェノール系抑制剤がヒドロキノンのモノメチル
エーテル、イソノックス（Ｒ）１２９またはイオノール
である、特許請求の範囲第９項記載の方法。 １１、芳香族アミンがジフェニレンジアミンである、特
許請求の範囲第９項記載の方法。 １２、芳香族硫黄化合物がフェノチアジンである、特許
請求の範囲第９項記載の方法。 １３、抑制剤を後処理段階で使用する、特許請求の範囲
第１項記載の方法。 １４、抑制剤がフェノール系抑制剤類、芳香族アミン類
、芳香族硫黄化合物類およびそれらの組み合わせ物から
なる群から選択される、特許請求の範囲第１３項記載の
方法。 １５．フェノール系抑制剤がヒドロキノンのモノメチル
エーテル、イソノックス（Ｒ）１２９またはイオノール
である、特許請求の範囲第１４項記載の方法。 １６、芳香族アミンがジフェニレンジアミンである、特
許請求の範囲第１４項記載の方法。 １７、芳香族硫黄化合物がフェノチアジンである、特許
請求の範囲第１４項記載の方法。 １８、白金−含有ヒドロシル化触媒が担持された白金触
媒類および均質な可溶性白金錯体類からなる群から選択
される、特許請求の範囲第１項記載の方法。 １９、担持された白金触媒がγ−アルミナまたは木炭上
の白金である、特許請求の範囲第１１項記載の方法。 ２０、均質な可溶性白金錯体がクロロ白金酸、ビス−（
エチレン第一白金）クロライド、ジクロロビス（アセト
ニトリル）白金（II）、シス−ジクロロビス（トリフェ
ニルホスフィン）白金（II）およびテトラキス（テトラ
フェニルホスフィン）白金（０）からなる群から選択さ
れる、特許請求の範囲第１８項記載の方法。 ２１、可溶性白金錯体を溶媒中の溶液状で使用する、特
許請求の範囲第２０項記載の方法。 ２２、溶媒がイソプロパノール、アセトニトリルまたは
１，２−ジメトキシエタンである、特許請求の範囲第２
１項記載の方法。 ２３、第一貯蔵器にさらに安定剤も充填する、特許請求
の範囲第１項記載の方法。 ２４、アルコキシシランが一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 ＲおよびＲ′は炭素数が１−２０の低級アルキル部分で
あり、そして ｎは０−１である］ により表わされる、特許請求の範囲第２項記載の方法。 ２５、低級アルキル部分の炭素数が１−４である、特許
請求の範囲第２４項記載の方法。 ２６、Ｓｉ−Ｈ含有シリコーンが一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒは炭素数が１−８の低級アルキル基または炭素数が６
−１０のアリール基であり、 ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］ を有するポリシロキサン重合体である、特許請求の範囲
第２項記載の方法。 ２７、Ｒがメチルである、特許請求の範囲第２６項記載
の方法。 ２８、メタクリルオキシまたはアクリルオキシ官能基含
有化合物が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＾２は水素、炭素数が２−８の低級アルキル基または
炭素数が６−１０のアリール基であり、 ＸはＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯもしくはＣＨ＿２またはこれら
の２個の基の組み合わせであり、そして ｍは０−１０である］ により表わされる、特許請求の範囲第２項記載の方法。 ２９、ｍが０−５である、特許請求の範囲第２８項記載
の方法。 ３０、抑制剤がフェノール系抑制剤類、芳香族アミン類
、芳香族硫黄化合物類およびそれらの組み合わせ物から
なる群から選択される、特許請求の範囲第２項記載の方
法。 ３１、フェノール系抑制剤がヒドロキノンのモノメチル
エーテル、イソノックス（Ｒ）１２９またはイオノール
である、特許請求の範囲第３０項記載の方法。 ３２、芳香族アミンがジフェノレンジアミンである、特
許請求の範囲第３０項記載の方法。 ３３、芳香族硫黄化合物がフェノチアジンである、特許
請求の範囲第３０項記載の方法。 ３４、抑制剤を後処理段階で使用する、特許請求の範囲
第２項記載の方法。 ３５、抑制剤がフェノール系抑制剤類、芳香族アミン類
、芳香族硫黄化合物類およびそれらの組み合わせ物から
なる群から選択される、特許請求の範囲第３４項記載の
方法。 ３６、フェノール系抑制剤がヒドロキノンのモノメチル
エーテル、イソノックス（Ｒ）１２９またはイオノール
である、特許請求の範囲第３５項記載の方法。 ３７、芳香族アミンがジフェノレンジアミンである、特
許請求の範囲第３５項記載の方法。 ３８、芳香族硫黄化合物がフェノチアジンである、特許
請求の範囲第３５項記載の方法。 ３９、白金−含有ヒドロシル化触媒が担持された白金触
媒類および均質な可溶性白金錯体類からなる群から選択
される、特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４０、担持された白金触媒がγ−アルミナまたは木炭上
の白金である、特許請求の範囲第３９項記載の方法。 ４１、均質な可溶性白金錯体がクロロ白金酸、ビス−（
エチレン第−白金）クロライド、ジクロロビス（アセト
ニトリル）白金（II）、シス−ジクロロビス（トリフェ
ノルホスフィン）白金（II）およびテトラキス（テトラ
フェノルホスフィン）白金（０）からなる群から選択さ
れる、特許請求の範囲第３９項記載の方法。 ４２、可溶性白金錯体を溶媒中の溶液状で使用する、特
許請求の範囲第４１項記載の方法。 ４３、溶媒がイソプロパノール、アセトニトリルまたは
１，２−ジメトキシエタンである、特許請求の範囲第４
２項記載の方法。 ４４、安定剤がジケトン類およびケトエステル類からな
る群から選択される、特許請求の範囲第２項記載の方法
。 ４５、ジケトンがペンタジオン−２，４またはヘキサジ
オン−２，５である、特許請求の範囲第４４項記載の方
法。 ４６、ケトエステルがアセト酢酸メチルである、特許請
求の範囲第４４項記載の方法。 ４７、安定剤がさらにモノケトまたはエステル含有化合
物である、特許請求の範囲第４４項記載の方法。 ４８、モノケトまたはエステル含有化合物が酸化メシチ
ル、ペンタノン−２またはメチルプロポーショネートで
ある、特許請求の範囲第４４項記載の方法。 ４９、（ａ）第一貯蔵器に （ｉ）官能基含有化合物と有機シランまたはシリコーン
の間で完全な反応を生じるのに必要な化学量論的量のア
ルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンより２−
１０モル％過剰のメタクリルオキシまたはアクリルオキ
シ官能基含有化合物▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＾２は水素、炭素数が２−８の低級アルキル基または
炭素数が６−１０のアリール基であり、 ＸはＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯもしくはＣＨ＿２またはこれら
の２個の基の組み合わせであり、そして ｍは０−１０である］、 および （ｉｉ）使用されるメタクリルオキシまたはアクリルオ
キシの量を基にして０．２−５．０重量％のヒドロキノ
ンのモノメチルエーテル、イソノックス（Ｒ）１２９ま
たはイオノール を充填し、 （ｂ）第二貯蔵器に （ｉ）（ａ）で使用されるメタクリルオキシまたはアク
リルオキシ含有化合物との完全な反応を生じるのに必要
な化学量論的量のアルコキシシラン▲数式、化学式、表
等があります▼ ［式中、 ＲおよびＲ′は炭素数が１−２０の低級アルキル部分で
あり、そして ｎは０−１である］ または化学量論的量のＳｉ−Ｈ含有シリコーン▲数式、
化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒは炭素数が１−８の低級アルキル基または炭素数が６
−１０のアリール基であり、 ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］、 および （ｉｉ）触媒量の、担持された白金触媒類および均質な
可溶性白金錯体類からなる群から選択される白金−含有
ヒドロシル化触媒 を充填し、 （ｃ）二個の貯蔵器の内容物を反応容器中で８０−１２
０℃において一緒にし、 （ｄ）粗製反応生成物を生成物を基にして１−５重量％
のアルコールで後処理するか、または反応生成物を１０
０−１４０℃に５−４０分間にわたり後加熱し、そして （ｅ）後処理された生成物をフェノール系または非フェ
ノール系抑制剤の存在下でそして減圧下で真空蒸留する ことからなる、メタクリルオキシまたはアクリルオキシ
含有有機珪素化合物類を望ましくない重合を伴なわずに
製造する方法。 ５０、（ａ）第一貯蔵器に （ｉ）官能基含有化合物と有機シランまたはシリコーン
の間で完全な反応を生じるのに必要な化学量論的量のア
ルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンより２−
１０モル％過剰のメタクリルオキシまたはアクリルオキ
シ官能基含有化合物▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＾２は水素、炭素数が２−８の低級アルキル基または
炭素数が６−１０のアリール基であり、 ＸはＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯもしくはＣＨ＿２またはこれら
の２個の基の組み合わせであり、そして ｍは０−１０である］、 および （ｉｉ）使用されるメタクリルオキシまたはアクリルオ
キシの量を基にして０．２−５．０重量％のヒドロキノ
ンのモノメチルエーテル、イソノックス（Ｒ）１２９ま
たはイオノール、および （ｉｉｉ）安定剤 を充填し、 （ｂ）第二貯蔵器に （ｉ）（ａ）で使用されるメタクリルオキシまたはアク
リルオキシ含有化合物との完全な反応を生じるのに必要
な化学量論的量のアルコキシシラン▲数式、化学式、表
等があります▼ ［式中、 ＲおよびＲ′は炭素数が１−２０の低級アルキル部分で
あり、そして ｎは０−１である］ または化学量論的量のＳｉ−Ｈ含有シリコーン▲数式、
化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒは炭素数が１−８の低級アルキル基または炭素数が６
−１０のアリール基であり、 ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］、 および （ｉｉ）触媒量の、担持された白金触媒類および均質な
可溶性白金錯体類からなる群から選択される白金−含有
ヒドロシル化触媒 を充填し、 （ｃ）二個の貯蔵器の内容物を反応容器中で８０−１２
０℃において一緒にし、そして （ｄ）生成物をフェノール系または非フェノール系抑制
剤の存在下でそして減圧下で真空蒸留することからなる
、メタクリルオキシまたはアクリルオキシ含有有機珪素
化合物類を望ましくない重合を伴なわずに製造する方法
。 ５１、安定剤がジケトン類およびケトエステル類からな
る群から選択される、特許請求の範囲第５０項記載の方
法。 ５２、ジケトンがペンタジオン−２，４またはヘキサジ
オン−２，５である、特許請求の範囲第５０項記載の方
法。 ５３、ケトエステルがアセト酢酸メチルである、特許請
求の範囲第５０項記載の方法。 ５４、安定剤がさらにモノケトまたはエステル含有化合
物である、特許請求の範囲第５１項記載の方法。 ５５、モノケトまたはエステル含有化合物が酸化タンチ
ル、ペンタノン−２またはメチルプロポーショネートで
ある、特許請求の範囲第５４項記載の方法。 ５６、（ａ）第一貯蔵器に （ｉ）官能基含有化合物と有機シランまたはシリコーン
の間で完全な反応を生じるのに必要な化学量論的量のア
ルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンより３−
５モル％過剰のメタクリルオキシまたはアクリルオキシ
官能基含有化合物▲数式、化学式、表等があります▼ および （ｉｉ）使用されるメタクリルオキシまたはアクリルオ
キシの量を基にして０．５−２．０重量％のヒドロキノ
ンのモノメチルエーテル、フェノチアジン、またはジフ
ェノレンジアミン抑制剤 を充填し、 （ｂ）第二貯蔵器に （ｉ）（ａ）で使用されるメタクリルオキシまたはアク
リルオキシ含有化合物との完全な反応を生じるのに必要
な化学量論的量のアルコキシシラン▲数式、化学式、表
等があります▼ ［式中、 ＲおよびＲ′は炭素数が１−４の低級アルキル部分であ
り、そして ｎは０−１である］ または化学量論的量のＳｉ−Ｈ含有シリコーン▲数式、
化学式、表等があります▼ ［式中、 ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］、 および （ｉｉ）２−２０ｐｐｍの、Ｙ−アルミナまたは木炭上
の白金 を充填し、 （ｃ）二個の貯蔵器の内容物を反応容器中で８０一１２
０℃において一緒にし、 （ｄ）粗製反応生成物を生成物を基にして１−３重量％
のアルコールで後処理するか、または反応生成物を１０
０−１４０℃に２０−３０分間にわたり後加熱し、そし
て （ｅ）後処理された生成物をフェノール系もしくは非フ
ェノール系抑制剤またはジフェノレンジアミンの存在下
でそして減圧下で真空蒸留することからなる、メタクリ
ルオキシまたはアクリルオキシ含有有機珪素化合物類を
望ましくない重合を伴なわずに製造する方法。 ５７、（ａ）第一貯蔵器に （ｉ）官能基含有化合物と有機シランまたはシリコーン
の間で完全な反応を生じるのに必要な化学量論的量のア
ルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンより３−
５モル％過剰のメタクリルオキシまたはアクリルオキシ
官能基含有化合物▲数式、化学式、表等があります▼ および （ｉｉ）使用されるメタクリルオキシまたはアクリルオ
キシの量を基にして０．２−２．０重量％のヒドロキノ
ンのモノメチルエーテル、イソノックス（Ｒ）１２９ま
たはイオノール抑制剤 を充填し、 （ｂ）第二貯蔵器に （ｉ）（ａ）で使用されるメタクリルオキシまたはアク
リルオキシ含有化合物との完全な反応を生じるのに必要
な化学量論的量のアルコキシシラン▲数式、化学式、表
等があります▼ ［式中、 ＲおよびＲ′は炭素数が１−４の低級アルキル部分であ
り、そして ｎは０−１である］ または化学量論的量のＳｉ−Ｈ含有シリコーン▲数式、
化学式、表等があります▼ ［式中、 ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］、 および （ｉｉ）２−１００ｐｐｍの、クロロ白金酸、ビス−（
エチレン第一白金）クロライド、ジクロロビス（アセト
ニトリル）白金（II）、シス−ジクロロビス（トリフェ
ノルホスフィン）白金（II）およびテトラキス（テトラ
フェノルホスフィン）白金（０）からなる群から選択さ
れる均質な可溶性白金錯体 を充填し、 （ｃ）二個の貯蔵器の内容物を反応容器中で９０−１２
０℃において一緒にし、 （ｄ）粗製反応生成物を生成物を基にして１−３重量％
のアルコールで後処理するか、または反応生成物を１１
０−１３０℃に２０−３０分間にわたり後加熱し、そし
て （ｅ）後処理された生成物をフェノール系もしくは非フ
ェノール系抑制剤の存在下でそして減圧下で真空蒸留す
る ことからなる、メタクリルオキシまたはアクリルオキシ
含有有機珪素化合物類を望ましくない重合を伴なわずに
製造する方法。 ５８、可溶性白金錯体を溶媒中の溶液状で使用する、特
許請求の範囲第５７項記載の方法。 ５９、溶媒がイソプロパノール、アセトニトリルまたは
１，２−ジメトキシエタンである、特許請求の範囲第５
８項記載の方法。 ６０、（ａ）第一貯蔵器に （ｉ）官能基含有化合物と有機シランまたはシリコーン
の間で完全な反応を生じるのに必要な化学量論的量のア
ルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンより３−
５モル％過剰のメタクリルオキシまたはアクリルオキシ
官能基含有化合物▲数式、化学式、表等があります▼ および （ｉｉ）使用されるメタクリルオキシまたはアクリルオ
キシの量を基にして０．２−２．０重量％のヒドロキノ
ンのモノメチルエーテル、イソノックス（Ｒ）１２９ま
たはイオノール抑制剤、および（ｉｉｉ）安定剤 を充填し、 （ｂ）第二貯蔵器に （ｉ）（ａ）で使用されるメタクリルオキシまたはアク
リルオキシ含有化合物との完全な反応を生じるのに必要
な化学量論的量のアルコキシシラン▲数式、化学式、表
等があります▼ ［式中、 ＲおよびＲ′は炭素数が１−４の低級アルキル部分であ
り、そして ｎは０−１である］ または化学量論的量のＳｉ−Ｈ含有シリコーン▲数式、
化学式、表等があります▼ ［式中、 ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］、 および （ｉｉ）２−２０ｐｐｍの、Ｙ−アルミナまたは木炭上
の白金 を充填し、 （ｃ）二個の貯蔵器の内容物を反応容器中で８０−１２
０℃において一緒にし、そして （ｄ）生成物をフェノール系もしくは非フェノール系抑
制剤であるヒドロキノンのモノメチルエーテル、フェノ
チアノン、またはジフェノレンジアミンの存在下でそし
て減圧下で真空蒸留することからなる、メタクリルオキ
シまたはアクリルオキシ含有有機珪素化合物類を望まし
くない重合を伴なわずに製造、精製および／または貯蔵
する方法。 ６１、安定剤がジケトン類およびケトエステル類からな
る群から選択される、特許請求の範囲第６０項記載の方
法。 ６２、ジケトンがペンタジオン−２，４またはヘキサジ
オン−２，５である、特許請求の範囲第６１項記載の方
法。 ６３、ケトエステルがアセト酢酸メチルである、特許請
求の範囲第６１項記載の方法。 ６４、安定剤がさらにモノケトまたはエステル含有化合
物である、特許請求の範囲第６１項記載の方法。 ６５、モノケトまたはエステル含有化合物が酸化タンチ
ル、ペンタノン−２またはメチルプロポーショネートで
ある、特許請求の範囲第６４項記載の方法。 ６６、（ａ）第一貯蔵器に （ｉ）官能基含有化合物と有機シランまたはシリコーン
の間で完全な反応を生じるのに必要な化学量論的量のア
ルコキシシランまたはＳｉ−Ｈ含有シリコーンより３−
５モル％過剰のメタクリルオキシまたはアクリルオキシ
官能基含有化合物▲数式、化学式、表等があります▼ および （ｉｉ）使用されるメタクリルオキシまたはアクリルオ
キシの量を基にして０．５−２．０重量％のヒドロキノ
ンのモノメチルエーテル、イソノックス（Ｒ）１２９ま
たはイオノール抑制剤 を充填し、 （ｂ）第二貯蔵器に （ｉ）（ａ）で使用されるメタクリルオキシまたはアク
リルオキシ含有化合物との完全な反応を生じるのに必要
な化学量論的量のアルコキシシラン▲数式、化学式、表
等があります▼ ［式中、 ＲおよびＲ′は炭素数が１−４の低級アルキル部分であ
り、そして ｎは０−１である］ または化学量論的量のＳｉ−Ｈ含有シリコーン▲数式、
化学式、表等があります▼ ［式中、 ｘは０−１００の範囲であり、そして ｙは０−３０の範囲である］、 および （ｉｉ）２−２０ｐｐｍの、クロロ白金酸、ビス−（エ
チレン第一白金）クロライド、ジクロロビス（アセトニ
トリル）白金（II）、シス−ジクロロビス（トリフェノ
ルホスフィン）白金（II）およびテトラキズ（ テトラ
フェニルホスフィン）白金（０）からなる群から選択さ
れる均質な可溶性白金錯体を充填し、 （ｃ）二個の貯蔵器の内容物を反応容器中で９０−１２
０℃において一緒にし、そして （ｄ）生成物をフェノール系もしくは非フェノール系抑
制剤の存在下でそして減圧下で真空蒸留する ことからなる、メタクリルオキシまたはアクリルオキシ
含有有機珪素化合物類を望ましくない重合を伴なわずに
製造、精製および／または貯蔵する方法。 ６７、安定剤がジケトン類およびケトエステル類からな
る群から選択される、特許請求の範囲第６６項記載の方
法。 ６８、ジケトンがペンタジオン−２，４またはヘキサジ
オン−２，５である、特許請求の範囲第６７項記載の方
法。 ６９、ケトエステルがアセト酢酸メチルである、特許請
求の範囲第６７項記載の方法。 ７０、安定剤がさらにモノケトまたはエステル含有化合
物である、特許請求の範囲第６７項記載の方法。 ７１、モノケトまたはエステル含有化合物が酸化タンチ
ル、ペンタノン−２またはメチルプロポーショネートで
ある、特許請求の範囲第７０項記載の方法。
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