JPS62278139A - 光フアイバ−母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ−母材の製造方法Info
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- JPS62278139A JPS62278139A JP11845486A JP11845486A JPS62278139A JP S62278139 A JPS62278139 A JP S62278139A JP 11845486 A JP11845486 A JP 11845486A JP 11845486 A JP11845486 A JP 11845486A JP S62278139 A JPS62278139 A JP S62278139A
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- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/016—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by a liquid phase reaction process, e.g. through a gel phase
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
&発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ゾル−ゲル法による光ファイバー母材の製造
方法に関する。
方法に関する。
本発明は、ゾル−ゲル法による光ファイバー母材の製造
方法において、クラッド原料ゾル、コア原料ゾルのうち
少なくとも一方の原料ゾルとして、アルキルシリケート
の酸性触媒加水分解液中に、ドーパントを担持させたシ
リカ微粒子を分散させたゾルを用いることを特徴とする
光ファイバー母材の製造方法である。
方法において、クラッド原料ゾル、コア原料ゾルのうち
少なくとも一方の原料ゾルとして、アルキルシリケート
の酸性触媒加水分解液中に、ドーパントを担持させたシ
リカ微粒子を分散させたゾルを用いることを特徴とする
光ファイバー母材の製造方法である。
ゾル−ゲル法による光ファイバー母材の製法がいくつか
報告されている。ゾル−ゲル法は原料の精製が容易なこ
と、材料の選択性が広いこと、転移点以下で透明ガラス
体が得られるため製造コストが低いことなどの長所を有
しており、高品質で安価に、しかも大垣に光ファイバー
母材を提供し得る方法として注目を集めている。
報告されている。ゾル−ゲル法は原料の精製が容易なこ
と、材料の選択性が広いこと、転移点以下で透明ガラス
体が得られるため製造コストが低いことなどの長所を有
しており、高品質で安価に、しかも大垣に光ファイバー
母材を提供し得る方法として注目を集めている。
例えば(特開昭57−2:MB2)引き抜き棒を備えた
管状容器中にクラッド用原料であるアルキルシリケート
の加水分解溶液を流し入れゲル化させた後、引き抜き棒
を引き抜き、中空部にドーパントを含むアルキルシリケ
ートの加水分解溶液を入れてゲル化させ、コアークラッ
ド一体化ゲルを作り乾燥、焼結して光ファイバー用母材
とする方法がある。また、円筒容器中に原料液を入れ、
回転させながらゲル化させる方法を用いても、光ファイ
バー母材の製造法が報告されている(特開昭58−99
134)。最近になって、ゾル−ゲル法により、大型の
光ファイバー母材が製造できる画期的な方法が報告され
た(当社特許整理N120671)。この方法を簡単に
説明すると、アルキルシリケートの酸性触媒による加水
分解液と、同じくアルキルシリケートのアンモニア触媒
による加水分解によって得られる微粒子シリカとを混合
したものを原料ゾルとし、PH調整をした後、円筒容器
に流し入れ回転させながらゲル化させた後、中空部に屈
折率調整用のドーパントを含むゾルを流し入れ同様に回
転しながらゲル化させ、必要ならばさらに同様の操作を
行なうことにより、クラッド−コア一体化ゲルを作り、
これを乾燥。
管状容器中にクラッド用原料であるアルキルシリケート
の加水分解溶液を流し入れゲル化させた後、引き抜き棒
を引き抜き、中空部にドーパントを含むアルキルシリケ
ートの加水分解溶液を入れてゲル化させ、コアークラッ
ド一体化ゲルを作り乾燥、焼結して光ファイバー用母材
とする方法がある。また、円筒容器中に原料液を入れ、
回転させながらゲル化させる方法を用いても、光ファイ
バー母材の製造法が報告されている(特開昭58−99
134)。最近になって、ゾル−ゲル法により、大型の
光ファイバー母材が製造できる画期的な方法が報告され
た(当社特許整理N120671)。この方法を簡単に
説明すると、アルキルシリケートの酸性触媒による加水
分解液と、同じくアルキルシリケートのアンモニア触媒
による加水分解によって得られる微粒子シリカとを混合
したものを原料ゾルとし、PH調整をした後、円筒容器
に流し入れ回転させながらゲル化させた後、中空部に屈
折率調整用のドーパントを含むゾルを流し入れ同様に回
転しながらゲル化させ、必要ならばさらに同様の操作を
行なうことにより、クラッド−コア一体化ゲルを作り、
これを乾燥。
焼結して光ファイバー母材とするものである。このよう
な方法においては、゛内部に比較的大きい細孔を有しな
がらも、粒子間結合の強いドライゲルを作ることができ
、従って大型の光ファイバー母材を製造することが可能
である。
な方法においては、゛内部に比較的大きい細孔を有しな
がらも、粒子間結合の強いドライゲルを作ることができ
、従って大型の光ファイバー母材を製造することが可能
である。
ところで、これまでの発明においては、ドーパントをド
ープする方法としては、アルキルシリケートとドーパン
トである他の金属アルコキシドとの混合液に水を加えて
、シリカとドーパント金属との混合ゾルを調製したり、
あるいは、予め部分的に加水分解されたフルキルシリケ
ートにドーパントなる金属アルコキシドを添加した後、
さらに水を加えて完全に加水分解するといった手法がと
られていた。
ープする方法としては、アルキルシリケートとドーパン
トである他の金属アルコキシドとの混合液に水を加えて
、シリカとドーパント金属との混合ゾルを調製したり、
あるいは、予め部分的に加水分解されたフルキルシリケ
ートにドーパントなる金属アルコキシドを添加した後、
さらに水を加えて完全に加水分解するといった手法がと
られていた。
ところが、これらのドープ方法においては、混合ゾル中
に含まれろドーパント粒子が非常に小さいことや、ドー
パントのアルコキシドのうち未反応のものができやすい
ことなどから、ドーパントがゲル化後も容易にゲル中を
移動し、急峻な屈折率差を形成することが困難であり、
第2図(α)に示すようにドーパントの分布がいくらか
広がってしまうという欠点があった。
に含まれろドーパント粒子が非常に小さいことや、ドー
パントのアルコキシドのうち未反応のものができやすい
ことなどから、ドーパントがゲル化後も容易にゲル中を
移動し、急峻な屈折率差を形成することが困難であり、
第2図(α)に示すようにドーパントの分布がいくらか
広がってしまうという欠点があった。
また、アルキルシリケートとドーパントなる金属アルコ
キシドとの反応速度の差があるため分子構造的に不均質
になりやすく散乱損失の増大の原因になりやすい。この
ような分子の偏在は、透明ガラス化時のドーパントの収
率や、気泡生成の問題にもかかわりでくる。
キシドとの反応速度の差があるため分子構造的に不均質
になりやすく散乱損失の増大の原因になりやすい。この
ような分子の偏在は、透明ガラス化時のドーパントの収
率や、気泡生成の問題にもかかわりでくる。
そこで、本発明は従来のこのような問題点を解決するも
ので、その目的は、急峻な屈折率差を有し、均質な光フ
ァイバー母材の製造方法を提供することにある。
ので、その目的は、急峻な屈折率差を有し、均質な光フ
ァイバー母材の製造方法を提供することにある。
ラド原料ゾル、コア原料ゾルのうち少なくとも一方の原
料ゾルとして、アルキルシリケートの酸性触媒加水分解
液中にドーパントを担持させたシリカ微粒子を分散させ
たゾルを用いることを特徴とする。
料ゾルとして、アルキルシリケートの酸性触媒加水分解
液中にドーパントを担持させたシリカ微粒子を分散させ
たゾルを用いることを特徴とする。
ドーパントが担持、すなわち固定化されたシリカ微粒子
を、アルキルシリケートの酸性触媒液に分散させたゾル
においては、前述したドーパントの移動は起こり得ない
。のみならず、従来の技術で述べたように大型の母材が
製造できるというメリットも合わせもつことになる。
を、アルキルシリケートの酸性触媒液に分散させたゾル
においては、前述したドーパントの移動は起こり得ない
。のみならず、従来の技術で述べたように大型の母材が
製造できるというメリットも合わせもつことになる。
以下、実施例において本発明の詳細な説明する〔実施例
1〕 ■シリカ微粒子の製造 エチ/L/−7リケート824?、エタノール138R
1i’、アンモニア*(29%)38S’、*285?
を混合12時間攪拌し、4日間静置した後、減圧濃縮器
を用いて粉体状になるまで乾燥させた。
1〕 ■シリカ微粒子の製造 エチ/L/−7リケート824?、エタノール138R
1i’、アンモニア*(29%)38S’、*285?
を混合12時間攪拌し、4日間静置した後、減圧濃縮器
を用いて粉体状になるまで乾燥させた。
これにより、平均粒径が(L16μmのシリカ微粉末が
得られた。(Sin、重普として238F)次に、この
シリカ微粉末を乾燥、窒素気流中。
得られた。(Sin、重普として238F)次に、この
シリカ微粉末を乾燥、窒素気流中。
200℃で5時間処理した。
■コア原料ゾル調製
エチルシリケート173PとQ、02規定塩酸60fを
混合、攪拌し加水分解反応を終了させた。一方、テトラ
エトキシゲルマニウム12りとエタノール549の混合
液に前記シリカ微粉末50?を添加し、攪拌、超音波振
動印加により充分均一な分散液とする。これを上記加水
分解液と混合し、コア原料ゾルとした。
混合、攪拌し加水分解反応を終了させた。一方、テトラ
エトキシゲルマニウム12りとエタノール549の混合
液に前記シリカ微粉末50?を添加し、攪拌、超音波振
動印加により充分均一な分散液とする。これを上記加水
分解液と混合し、コア原料ゾルとした。
■クラッド原料ゾル
エチルシリケート552fと1102規定塩酸1922
を混合、攪拌し加水分解反応を終了させた。この溶液に
エタノール1002を加え、さらに前記シリカ微粉末1
50fを添加し、攪拌超音波振動印加により、充分均一
な分散液としクラッド原料ゾルとした。
を混合、攪拌し加水分解反応を終了させた。この溶液に
エタノール1002を加え、さらに前記シリカ微粉末1
50fを添加し、攪拌超音波振動印加により、充分均一
な分散液としクラッド原料ゾルとした。
■ゲル化
まず、上記クラッド原料ゾルを(L2規定アンモニア水
を用いて、PHを4.80に調整した後塩化ビニル製円
筒パイプ(内径50囚長さ520rran)に、942
mを流し入れ、両端シリコーンゴム栓でフタをして、第
1図に示す回転装置にとりつけ、回転数140Orpm
で回転させた。モニターサンプルが60分後にゲル化し
たことを確認した上で、さらに10分間回転を続けた後
とりはずす。片方の7タをとりはずし、予め(L2規定
アンモニア水でPHを4.30に調整しておいたコア原
料ゾルを中空部に流し入れる。モニターサンプルは20
分後にゲル化し、これにより、クラッド−コア一体型ゲ
ルを作製した。
を用いて、PHを4.80に調整した後塩化ビニル製円
筒パイプ(内径50囚長さ520rran)に、942
mを流し入れ、両端シリコーンゴム栓でフタをして、第
1図に示す回転装置にとりつけ、回転数140Orpm
で回転させた。モニターサンプルが60分後にゲル化し
たことを確認した上で、さらに10分間回転を続けた後
とりはずす。片方の7タをとりはずし、予め(L2規定
アンモニア水でPHを4.30に調整しておいたコア原
料ゾルを中空部に流し入れる。モニターサンプルは20
分後にゲル化し、これにより、クラッド−コア一体型ゲ
ルを作製した。
■乾燥
上記ウェットゲルを開口率2%の7タを有するボリグロ
ビレン製箱を容器に移し替え、60℃に保った恒温室内
で乾燥させた。15日後、室温に放置しても割れない安
定なドライゲル(外径35WI、長さ350闘)が得ら
れた。
ビレン製箱を容器に移し替え、60℃に保った恒温室内
で乾燥させた。15日後、室温に放置しても割れない安
定なドライゲル(外径35WI、長さ350闘)が得ら
れた。
■焼結
次にこのドライゲルを石英製管状焼結炉に入れ昇温速度
30℃/ h rで30℃から200’Oまで加熱し、
この温度で5時間保持し、つづいて昇温速度30℃/
h rで200℃から300℃まで加熱し、この温度で
5時間保持して脱吸層水を行なった。つづいて昇温速度
30℃/ h rで300tlから920℃まで加熱し
、この温度で30分間保持して脱炭素、脱塩化アンモニ
ウム処理、脱水縮合反応の促進処理を行なりた。つづい
て800℃まで降温しHe2t/j!I+I、C120
,2t/−の混合ガスを渡しながら1時間保持し、その
後Heのみを流しなから昇温速度60℃/ h rで1
000℃まで加熱した。1000℃でHe 2 Z /
jth。
30℃/ h rで30℃から200’Oまで加熱し、
この温度で5時間保持し、つづいて昇温速度30℃/
h rで200℃から300℃まで加熱し、この温度で
5時間保持して脱吸層水を行なった。つづいて昇温速度
30℃/ h rで300tlから920℃まで加熱し
、この温度で30分間保持して脱炭素、脱塩化アンモニ
ウム処理、脱水縮合反応の促進処理を行なりた。つづい
て800℃まで降温しHe2t/j!I+I、C120
,2t/−の混合ガスを渡しながら1時間保持し、その
後Heのみを流しなから昇温速度60℃/ h rで1
000℃まで加熱した。1000℃でHe 2 Z /
jth。
01、α2 t/mの混合ガスを流しながら1時間保持
し、脱OH基処理を行なった。つづいて、H62t/l
inに対して0□ a、4t7馴の混合ガスを流しなか
ら昇温速度60℃/ h rで1100℃まで加熱し、
この温度で20時間保持して脱塩素処理を行なった。つ
づいてEleのみを流しなから昇温速度30℃/ h
rで1250℃まで加熱し、この温度で30分保持して
開孔化処理を行なった、つづいて試料を昇温速度60℃
/ h rで1350℃まで加熱し、この温度で1時間
保持すると無孔化し、透明な光ファイバー用母材(外径
2&2■、長さ262fflI11)が得られた。
し、脱OH基処理を行なった。つづいて、H62t/l
inに対して0□ a、4t7馴の混合ガスを流しなか
ら昇温速度60℃/ h rで1100℃まで加熱し、
この温度で20時間保持して脱塩素処理を行なった。つ
づいてEleのみを流しなから昇温速度30℃/ h
rで1250℃まで加熱し、この温度で30分保持して
開孔化処理を行なった、つづいて試料を昇温速度60℃
/ h rで1350℃まで加熱し、この温度で1時間
保持すると無孔化し、透明な光ファイバー用母材(外径
2&2■、長さ262fflI11)が得られた。
■分析
第2図(b)に本実施例によって得られた光ファイバー
母材の径方向におけるゲルマニウムの分布状態を示した
。従来のものに比べ、クラッド−コア界面におけるゲル
マニウム分布の立上りが急峻になっていることがわかる
。
母材の径方向におけるゲルマニウムの分布状態を示した
。従来のものに比べ、クラッド−コア界面におけるゲル
マニウム分布の立上りが急峻になっていることがわかる
。
■光損失評価
前記、透明光ファイバー母材に、内径28M。
外径66 rtm’ +長さ270r1r!nの石英ガ
ラス管をジャケットした後、外径125μmに線引きし
、カットバック法により光損失評価を行なったところ、
[185μm帯で4dB/Kmと充分低損失であった〔
実施例2〕 実施例1におけるシリカ微粒子として、市販の高純度シ
リカ微粉末(例えばAeroail ox 50 ;d
egussa社製)を泪いて同様な方法により1光ファ
イバー母材を作り光損失評価を行なったところ、118
5μm帯で95dB/に、1.39μm帯で50dB/
Kmとかなり高損失で、シリカ微粉末中に不純物を含ん
でいるものと思われる。
ラス管をジャケットした後、外径125μmに線引きし
、カットバック法により光損失評価を行なったところ、
[185μm帯で4dB/Kmと充分低損失であった〔
実施例2〕 実施例1におけるシリカ微粒子として、市販の高純度シ
リカ微粉末(例えばAeroail ox 50 ;d
egussa社製)を泪いて同様な方法により1光ファ
イバー母材を作り光損失評価を行なったところ、118
5μm帯で95dB/に、1.39μm帯で50dB/
Kmとかなり高損失で、シリカ微粉末中に不純物を含ん
でいるものと思われる。
〔実施例3〕
〔コア原料ゾル調製〕
エチルシリケート173?とテトラブトキシゲルマニウ
ム192とエタノール4 a s f ヲa合シ、攪拌
しながらアンモニア水(29%)1stと水60fとエ
タノール300tの混合溶液をゆっくり滴下していった
ところ、徐々に溶液が白濁していった。滴下終了後も3
時間攪拌し、3日間静置した。透過型電子顕微鏡により
、この溶液を観察したところ、α20μ鴇程度の粒子が
ほぼ単分散に近い状態で存在していた。この溶液を全体
積が135dになるまで減圧濃縮した後、α2規定のア
ンそニア水でPHt−五5oに調整した。
ム192とエタノール4 a s f ヲa合シ、攪拌
しながらアンモニア水(29%)1stと水60fとエ
タノール300tの混合溶液をゆっくり滴下していった
ところ、徐々に溶液が白濁していった。滴下終了後も3
時間攪拌し、3日間静置した。透過型電子顕微鏡により
、この溶液を観察したところ、α20μ鴇程度の粒子が
ほぼ単分散に近い状態で存在していた。この溶液を全体
積が135dになるまで減圧濃縮した後、α2規定のア
ンそニア水でPHt−五5oに調整した。
一方、エチルシリケート1732と(12規定の#1r
R60?を混合、攪拌し加水分解が終了した後、上記微
粒子分散液を加°え、充分攪拌しコア原料ゾルとした。
R60?を混合、攪拌し加水分解が終了した後、上記微
粒子分散液を加°え、充分攪拌しコア原料ゾルとした。
エチルシリケート520F、エタノール890f 、
7ン%=7水C29%)24f、水180Pを混合2時
間攪拌し3日間静置した後、減圧濃縮により全体量が4
00mになるまで濃縮した。この溶液中には、平均粒径
[L16μmのシリカ微粒子が単分散に近い状態で存在
していた。これを、[L2規定アンモニア水でPHを4
.00にN整した一方、工゛チルシリク−)552Pと
αo2規定塩酸を混合、攪拌し加水分解を終了させた後
ミ上記シリカ微粒子分散液と混合、充分攪拌しクラッド
原料ゾルとした。
7ン%=7水C29%)24f、水180Pを混合2時
間攪拌し3日間静置した後、減圧濃縮により全体量が4
00mになるまで濃縮した。この溶液中には、平均粒径
[L16μmのシリカ微粒子が単分散に近い状態で存在
していた。これを、[L2規定アンモニア水でPHを4
.00にN整した一方、工゛チルシリク−)552Pと
αo2規定塩酸を混合、攪拌し加水分解を終了させた後
ミ上記シリカ微粒子分散液と混合、充分攪拌しクラッド
原料ゾルとした。
上記、クラッド原料ゾルとコア原料ゾルを用いて、実施
例1と同様にしてクラッド−コア一体化ゲルを作り、そ
れを乾燥、焼結して透明光ファイバー母材を得た。
例1と同様にしてクラッド−コア一体化ゲルを作り、そ
れを乾燥、焼結して透明光ファイバー母材を得た。
ゲルマニウム分布状態、光損失値等は、実施例1により
て得られたものとほぼ同等であった。
て得られたものとほぼ同等であった。
以上説明したように、アルキルシリケートの酸性触媒加
水分解液にドーパントを担持させたシリカ微粒子を分散
させたゾルを用いることにより、クラッド−コア間にお
ける屈折率分布が急峻となることがわかった。これは、
クラッド原料ゾル中に屈折率低下用ドーパントを担持さ
せた微粒子シリカを用いても同様であることは言うまで
もなく、光ファイバーのみならず、他の光結合素子、光
分波素子等の光部品として導波構造を形成する際に有効
である。
水分解液にドーパントを担持させたシリカ微粒子を分散
させたゾルを用いることにより、クラッド−コア間にお
ける屈折率分布が急峻となることがわかった。これは、
クラッド原料ゾル中に屈折率低下用ドーパントを担持さ
せた微粒子シリカを用いても同様であることは言うまで
もなく、光ファイバーのみならず、他の光結合素子、光
分波素子等の光部品として導波構造を形成する際に有効
である。
第1図は本発明の光ファイバー母材作成に使用する回転
装置の概略図。 第2図(α)は従来の方法による光ファイバー母材のG
oの径方向における濃度分布図。 第2図<b>は本発明による光ファイバー母材のGeの
径方向における濃度分布図。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士最上7務(他1名) イ、 ド1葡a*シビ1ト ら、 p′A ト”レール 6、 支、謬(1台ヤ 第1図 ’f’+打薗距粧−帳) 嘉2図(ロ)) #−桂方句聾劾(匍− 第2区(b2
装置の概略図。 第2図(α)は従来の方法による光ファイバー母材のG
oの径方向における濃度分布図。 第2図<b>は本発明による光ファイバー母材のGeの
径方向における濃度分布図。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士最上7務(他1名) イ、 ド1葡a*シビ1ト ら、 p′A ト”レール 6、 支、謬(1台ヤ 第1図 ’f’+打薗距粧−帳) 嘉2図(ロ)) #−桂方句聾劾(匍− 第2区(b2
Claims (2)
- (1)ゾル−ゲル法による光ファイバー母材の製造方法
において、クラッド原料ゾル、コア原料ゾルのうち、少
なくとも一方の原料ゾルとして、アルキルシリケートの
酸性触媒加水分解液中にドーパントを担持させたシリカ
微粒子を分散させたゾルを用いることを特徴とする光フ
ァイバー母材の製造方法。 - (2)上記シリカ微粒子は、平均粒径が0.01μm〜
100μmの範囲であることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の光ファイバー母材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11845486A JPS62278139A (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 | 光フアイバ−母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11845486A JPS62278139A (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 | 光フアイバ−母材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62278139A true JPS62278139A (ja) | 1987-12-03 |
Family
ID=14737043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11845486A Pending JPS62278139A (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 | 光フアイバ−母材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62278139A (ja) |
-
1986
- 1986-05-23 JP JP11845486A patent/JPS62278139A/ja active Pending
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