JPS6296339A - 光フアイバ用母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ用母材の製造方法Info
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- JPS6296339A JPS6296339A JP23556485A JP23556485A JPS6296339A JP S6296339 A JPS6296339 A JP S6296339A JP 23556485 A JP23556485 A JP 23556485A JP 23556485 A JP23556485 A JP 23556485A JP S6296339 A JPS6296339 A JP S6296339A
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- dopant
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/016—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by a liquid phase reaction process, e.g. through a gel phase
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は石英系光ファイバ用母材の製造方法に関する。
本発明は石英系光ファイバ用母材の製造方法において、
少なくともアルキルシリケートを原料とする加水分解溶
液に、ガラスの屈折率を下げるためのドーパント１−含
有するシリカ微粒子を添加してなるゾル浴液ヲ、回転容
器に移し入れ、回転させながらゲル化させ、管状ウェッ
トゲルを作る操作を少なくとも一回含むことにより、デ
ジレスト型光ファイバ用母材を従来の方法よりも安価に
製造し得るようにしたものである。
少なくともアルキルシリケートを原料とする加水分解溶
液に、ガラスの屈折率を下げるためのドーパント１−含
有するシリカ微粒子を添加してなるゾル浴液ヲ、回転容
器に移し入れ、回転させながらゲル化させ、管状ウェッ
トゲルを作る操作を少なくとも一回含むことにより、デ
ジレスト型光ファイバ用母材を従来の方法よりも安価に
製造し得るようにしたものである。
従来のデジレスト型光ファイバ用母材は、ＶＡＤ、法り
、ＭＯＶＤ法ＰＯＤ１２Ｅ 、ＭＲＴ 法”等ニヨッ
テ’Ａ造されていた。（１）日中ら、５９年度電子通信
学会光・電波部門全国大会予稿集２−１８４２） Ｌ
ａ５ａｙら、工Ｅ［ｉ、ＱＫ−１８（１９［１２）３）
Ｈ，σ、 ＢＯｎｔ３Ｗｉｌら、工００Ｇ’８３ ２７
Ａ４−２４） ＠谷ら、特開昭５５−１４ｉ９２４〔
発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前述
の従来技術では気相法であるので、反応収率も低く量産
性も低いため、コストが高いという問題点があった。
、ＭＯＶＤ法ＰＯＤ１２Ｅ 、ＭＲＴ 法”等ニヨッ
テ’Ａ造されていた。（１）日中ら、５９年度電子通信
学会光・電波部門全国大会予稿集２−１８４２） Ｌ
ａ５ａｙら、工Ｅ［ｉ、ＱＫ−１８（１９［１２）３）
Ｈ，σ、 ＢＯｎｔ３Ｗｉｌら、工００Ｇ’８３ ２７
Ａ４−２４） ＠谷ら、特開昭５５−１４ｉ９２４〔
発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前述
の従来技術では気相法であるので、反応収率も低く量産
性も低いため、コストが高いという問題点があった。
本発明は以上の問題点を解決するもので、その目的は、
デジレスト型光ファイバ用母材を従来の方法よシも安価
に製造し得る方法を提供することにある。
デジレスト型光ファイバ用母材を従来の方法よシも安価
に製造し得る方法を提供することにある。
本発明の光ファイバ用母材の製造方法は、少なくともア
ルキルシリケートを原料とする加水分解溶液に、ガラス
の屈折率で下げるためのドーパントを含有するシリカ微
粒子を添加してなるゾル溶液を、回転容器に移し入れ、
回転させながらゲル化させ、管状ウェットゲルを作る操
作を少なくとも一回含むことを特徴とする。前記ドーバ
ンとしては長波長帯で損失の影響の少ないフッ素を選ぶ
ことが望ましいが、光ファイバを短波長で用いる場合に
はホウ素でも良い。
ルキルシリケートを原料とする加水分解溶液に、ガラス
の屈折率で下げるためのドーパントを含有するシリカ微
粒子を添加してなるゾル溶液を、回転容器に移し入れ、
回転させながらゲル化させ、管状ウェットゲルを作る操
作を少なくとも一回含むことを特徴とする。前記ドーバ
ンとしては長波長帯で損失の影響の少ないフッ素を選ぶ
ことが望ましいが、光ファイバを短波長で用いる場合に
はホウ素でも良い。
以下実施例により詳しく説明する。
〔実施例１〕
エチルシリケート６８＆４Ｆにα０２規定の塩酸４７５
、Ｏｆ’を加え、激しく攪拌して加水分解し、クラッド
用加水分解＃液とした。
、Ｏｆ’を加え、激しく攪拌して加水分解し、クラッド
用加水分解＃液とした。
エチルシリケー）１５９．６Ｆに１２規定の塩酸２Ｌ５
ｔを加え、反応溶液を５℃以下に保った状態で激しく攪
拌すると約５０分後反応溶液が均一な透明溶液となった
。この透明溶液を５℃以下に保ったままテトラエトキシ
ゲルマニウムＩＡ９１’ｉ少しずつ加えよく攪拌させな
がら反応させた。
ｔを加え、反応溶液を５℃以下に保った状態で激しく攪
拌すると約５０分後反応溶液が均一な透明溶液となった
。この透明溶液を５℃以下に保ったままテトラエトキシ
ゲルマニウムＩＡ９１’ｉ少しずつ加えよく攪拌させな
がら反応させた。
２０分反応させた後、この反応塔ｇをやはり５℃以下に
保ったままα２規定の塩酸５Ｚ２１と水５９、４９ ｆ
加えよく攪拌させながら反応させるコア用加水分解溶液
とした。
保ったままα２規定の塩酸５Ｚ２１と水５９、４９ ｆ
加えよく攪拌させながら反応させるコア用加水分解溶液
とした。
気相法で合成して得られる平均粒径（Ｌ１８μｍのフッ
素ｆ ５．５ ｍｏｔ％を含有したシリカ微粒子２４２
ｒｉ４８４−の水に徐々に添加し、充分攪拌した。さら
にこの溶液に超音波を４時間照射してよシ均一に分散さ
せた。遠心分離、ｒ過により前記フッ素を５．５ ｍｏ
ｔ％を含有したシリカ微粒子を含むクラッド用シリカ微
粒子分散溶液とした。また気相法で合成して得られる平
均粒径［Ｌ１８μｍのシリカ微粒子６α５Ｐｉ１２１ｔ
ｌｌの水に徐々に添加し、充分攪拌した。さらにこの溶
液に超音波を４時間照射してより均一に分散させた。遠
心分離ｆ過によシ前記シリカ微粒子を含むコア用シリカ
微粒子分散溶液とした。
素ｆ ５．５ ｍｏｔ％を含有したシリカ微粒子２４２
ｒｉ４８４−の水に徐々に添加し、充分攪拌した。さら
にこの溶液に超音波を４時間照射してよシ均一に分散さ
せた。遠心分離、ｒ過により前記フッ素を５．５ ｍｏ
ｔ％を含有したシリカ微粒子を含むクラッド用シリカ微
粒子分散溶液とした。また気相法で合成して得られる平
均粒径［Ｌ１８μｍのシリカ微粒子６α５Ｐｉ１２１ｔ
ｌｌの水に徐々に添加し、充分攪拌した。さらにこの溶
液に超音波を４時間照射してより均一に分散させた。遠
心分離ｆ過によシ前記シリカ微粒子を含むコア用シリカ
微粒子分散溶液とした。
次に前記クラッド用加水分解溶液と、前記クラッド用シ
リカ微粒子分散溶液を混合してクラッド用混合溶液とし
た。同様に前記コア用加水分解溶液と、前記コア用シリ
カ微粒子分散溶液ヲ混合してコア用混合溶液とした。
リカ微粒子分散溶液を混合してクラッド用混合溶液とし
た。同様に前記コア用加水分解溶液と、前記コア用シリ
カ微粒子分散溶液ヲ混合してコア用混合溶液とした。
次にクラッド用混合浴液にＣＬ２規定のアンモニア水と
水を用いてＰＨ値と体積を所定の値に調整しクラッド用
ゾル溶液を作った。該クラッド用ゾルを円筒容器（内径
５０ｔ１１１長さ１０２０ｍ、内容積１９６五５−）に
移し入れた。この円筒容器にフタをして回転装置に取り
付け、２０００ｒｐｍで回転させながらゲル化させ、管
状ウェットゲルを作った。
水を用いてＰＨ値と体積を所定の値に調整しクラッド用
ゾル溶液を作った。該クラッド用ゾルを円筒容器（内径
５０ｔ１１１長さ１０２０ｍ、内容積１９６五５−）に
移し入れた。この円筒容器にフタをして回転装置に取り
付け、２０００ｒｐｍで回転させながらゲル化させ、管
状ウェットゲルを作った。
それと平行してコア用混合溶液に［Ｌ２規定のアンモニ
ア水と水を用いてＰＨ値と体積を所定の値に調整し、コ
ア用ゾル溶液を作シ、前記管状ウェットゲルの中空部に
該コア用ゾルを流し込み、静置させてゲル化させ、同軸
構造をもったコアークラッド一体ウェットゲルを作った
。
ア水と水を用いてＰＨ値と体積を所定の値に調整し、コ
ア用ゾル溶液を作シ、前記管状ウェットゲルの中空部に
該コア用ゾルを流し込み、静置させてゲル化させ、同軸
構造をもったコアークラッド一体ウェットゲルを作った
。
次に該コアークラッド一体ウェットゲル１（Ｌ２％の開
口率をもったポリプロピレン製乾燥容器に移し入れた後
、６０℃で乾燥させたところ、１７日間で、乾燥容器か
ら出しても割れない安定なドライゲルが得られた。
口率をもったポリプロピレン製乾燥容器に移し入れた後
、６０℃で乾燥させたところ、１７日間で、乾燥容器か
ら出しても割れない安定なドライゲルが得られた。
次にこのドライゲルを石英製管状焼結炉に入れ昇温速度
３０℃／ｈｒで３０℃から２００℃まで加熱し、この温
度で５時間保持し、つづいて昇温速度３０℃／ｈｒで２
００℃から５００℃まで加熱し、この温度で５時間保持
して脱吸着水を行なった。
３０℃／ｈｒで３０℃から２００℃まで加熱し、この温
度で５時間保持し、つづいて昇温速度３０℃／ｈｒで２
００℃から５００℃まで加熱し、この温度で５時間保持
して脱吸着水を行なった。
つづいて昇温速度６０℃／ｈｒで３００℃から９２０℃
まで加熱し、この温度で３０分間保持して脱炭素、脱塩
化アンモニウム処理、脱水縮合反応の促進処理を行なっ
た。つづいて８００℃まで降温しＨｅ２１７ｍ、 Ｃ
７０，α２１／ｍの混合ガスを渡しながら１時間保持し
、その後Ｈθのみを流しなから昇温速度６０℃／ｈｒで
１０００℃まで加熱した。ＩＣ１００℃でＨｅ ２ ｔ
／ ｍ、Ｃ１，１ｌＬ２ｔ／ｍ（Ｄ混合ガス’ｔｉしな
がら１時間保持し、脱ＯＨ基処理を行なった。
まで加熱し、この温度で３０分間保持して脱炭素、脱塩
化アンモニウム処理、脱水縮合反応の促進処理を行なっ
た。つづいて８００℃まで降温しＨｅ２１７ｍ、 Ｃ
７０，α２１／ｍの混合ガスを渡しながら１時間保持し
、その後Ｈθのみを流しなから昇温速度６０℃／ｈｒで
１０００℃まで加熱した。ＩＣ１００℃でＨｅ ２ ｔ
／ ｍ、Ｃ１，１ｌＬ２ｔ／ｍ（Ｄ混合ガス’ｔｉしな
がら１時間保持し、脱ＯＨ基処理を行なった。
つづいて、Ｈθ２ｔ／ｍｌに対して０８α４２７ｍの混
合ガスを流しながら昇温速度６０℃／ｈｒで１１００℃
まで加熱し、との湿質で２０時間保持して脱塩素処理を
行なった。つづいてＨθのみを流しなから昇温速度３０
℃／ｈｒで１２５０℃まで加熱し、仁の温度で３０分保
持して開孔化処理を行なった。
合ガスを流しながら昇温速度６０℃／ｈｒで１１００℃
まで加熱し、との湿質で２０時間保持して脱塩素処理を
行なった。つづいてＨθのみを流しなから昇温速度３０
℃／ｈｒで１２５０℃まで加熱し、仁の温度で３０分保
持して開孔化処理を行なった。
つづいて試料を昇温速度６０℃／ｈｒで１５５０℃まで
加熱し、この＠度で１時間保持すると無孔化し、透明な
光ファイバ用母材が得られた。該光ファイバ用母材に石
英製のジャケット管をかぶせて融着し、線引きしたとこ
ろデジレスト型シングルモード用光ファイバが得られ之
。該光ファイバの屈折率分布を測定したところ第１図に
示したような分布を持っておシ、本実施例で作られた光
ファイバがデプレス型であることが確認された。また損
失波長特性を測定したところ、１．５５μｍで１．０ａ
Ｆ１７Ｋｎ＋以下であり、十分低損失であることも確認
した。
加熱し、この＠度で１時間保持すると無孔化し、透明な
光ファイバ用母材が得られた。該光ファイバ用母材に石
英製のジャケット管をかぶせて融着し、線引きしたとこ
ろデジレスト型シングルモード用光ファイバが得られ之
。該光ファイバの屈折率分布を測定したところ第１図に
示したような分布を持っておシ、本実施例で作られた光
ファイバがデプレス型であることが確認された。また損
失波長特性を測定したところ、１．５５μｍで１．０ａ
Ｆ１７Ｋｎ＋以下であり、十分低損失であることも確認
した。
〔実施例２〕
クラッド用ゾル溶液とコア用ゾル溶液ヲ実施例１と同様
な方法でそれぞれ必要とされるタイミングで作った。
な方法でそれぞれ必要とされるタイミングで作った。
該クラッド用ゾルを実施例１と同じ円筒容器に移し入れ
た。この円筒容器にフタをして回転装置に取り付け、２
０００ｒｐｍで回転させながらゲル化させ、管状ウェッ
トゲルを作った。その後咳管状ウェットゲルの中空部に
前記コア用ゾル溶ｉｋ流し込み、フタをしてもう一度回
転装置に増り付け、５０００ ｒｐｍで回転させながら
ゲル化させたところ、同軸構造をもったコアークランド
一体管状ウェットゲルが得られた。
た。この円筒容器にフタをして回転装置に取り付け、２
０００ｒｐｍで回転させながらゲル化させ、管状ウェッ
トゲルを作った。その後咳管状ウェットゲルの中空部に
前記コア用ゾル溶ｉｋ流し込み、フタをしてもう一度回
転装置に増り付け、５０００ ｒｐｍで回転させながら
ゲル化させたところ、同軸構造をもったコアークランド
一体管状ウェットゲルが得られた。
該コアークラッド一体管状ウェットゲル全実施例１と同
様な方法で乾燥・焼結したところ、透明な管状の光ファ
イバ用母材が得られた。該光ファイバ用母材を中実化し
た後石英型のジャケット管をかぶせて融着し、線引きし
たところデプレスト型シングルモード光ファイバが得ら
れた。
様な方法で乾燥・焼結したところ、透明な管状の光ファ
イバ用母材が得られた。該光ファイバ用母材を中実化し
た後石英型のジャケット管をかぶせて融着し、線引きし
たところデプレスト型シングルモード光ファイバが得ら
れた。
該光ファイバの屈折率分布を測定したところ第１図に示
したような分布を持っており、本実施例で作られた光フ
ァイバがデプレス型であることが確認された。また損失
波長特性を測定したところ、１．５５μｍで１．０ｄＢ
／ら以下であり、十分低損失であることも確認した。
したような分布を持っており、本実施例で作られた光フ
ァイバがデプレス型であることが確認された。また損失
波長特性を測定したところ、１．５５μｍで１．０ｄＢ
／ら以下であり、十分低損失であることも確認した。
〔実施例５〕
エチルシリケート６８６．４５’に１１０２規定の塩酸
４７５．Ｏｒを加え、激しく攪拌して加水分解し、ジャ
ケット用加水分解溶液とした。
４７５．Ｏｒを加え、激しく攪拌して加水分解し、ジャ
ケット用加水分解溶液とした。
気相法で合成して得られる平均粒径［Ｌ１８μｍのシリ
カ微粒子２４２ Ｓ”ｉ４８４ｒｎｔの水に徐々に添加
し、充分攪拌した。さらにこの溶液に超音波を４時間照
射してより均一に分散させた。遠心分離、ｆ過により前
記シリカ微粒子を含むジャケット用シリカ微粒子分散溶
液とした。
カ微粒子２４２ Ｓ”ｉ４８４ｒｎｔの水に徐々に添加
し、充分攪拌した。さらにこの溶液に超音波を４時間照
射してより均一に分散させた。遠心分離、ｆ過により前
記シリカ微粒子を含むジャケット用シリカ微粒子分散溶
液とした。
次に前記ジャケット用加水分解溶液と、前記ジャケット
用シリカ微粒子分散溶准に混合してジャケット用混合溶
液とした。その後該ジャケット用混合浴孜に［Ｌ２規定
のアンモニア水と水音用いてＰＨ値と体積を所定の値Ｖ
ｃｖＩ４整し、ジャケット用ゾル溶液を作った。
用シリカ微粒子分散溶准に混合してジャケット用混合溶
液とした。その後該ジャケット用混合浴孜に［Ｌ２規定
のアンモニア水と水音用いてＰＨ値と体積を所定の値Ｖ
ｃｖＩ４整し、ジャケット用ゾル溶液を作った。
またクラッド用ゾル浴液と、コア用ゾル溶液も実施例１
と同じ組成で、必要なｔ’ｔ−必要なタイミングで作っ
た。
と同じ組成で、必要なｔ’ｔ−必要なタイミングで作っ
た。
次に前記ジャケット用ゾル浴ｆｉｅ実施例と同じ円筒容
器に移し入れ、フタをして回転装置にとυっけ、２００
０ｒｐｍで回転させながらゲル化させ。
器に移し入れ、フタをして回転装置にとυっけ、２００
０ｒｐｍで回転させながらゲル化させ。
管状ウェットゲルを作った。その後該管状ウェットゲル
の中空部に前記クラッド用ゾル溶液を流し込み、フタを
してもう一度回転Ｊｆｃｔａ［取り付け、２０００ｒｐ
ｍで回転させながらゲル化させ、前記管状ウェットゲル
の内側にクラッド部が形成された管状のジャケット−ク
ラッド一体ウェットゲルが得られ九。その後、該ジャケ
ットークラッド一体ウェットゲルの中空部に前記コア用
ゾル溶液を流し込んで製造してゲル化させ、同軸構造を
もったコアークラッド−ジャケット一体ウェットゲルを
作った。
の中空部に前記クラッド用ゾル溶液を流し込み、フタを
してもう一度回転Ｊｆｃｔａ［取り付け、２０００ｒｐ
ｍで回転させながらゲル化させ、前記管状ウェットゲル
の内側にクラッド部が形成された管状のジャケット−ク
ラッド一体ウェットゲルが得られ九。その後、該ジャケ
ットークラッド一体ウェットゲルの中空部に前記コア用
ゾル溶液を流し込んで製造してゲル化させ、同軸構造を
もったコアークラッド−ジャケット一体ウェットゲルを
作った。
該コアークラッド−ジャケット一体ウエットゲルを実施
例１と同様な方法で乾燥・焼結したところ、透明な円柱
状の光ファイバ用母材が得られた。
例１と同様な方法で乾燥・焼結したところ、透明な円柱
状の光ファイバ用母材が得られた。
該光ファイバ用母材をそのまま線引きしたところデプレ
スト型シングルモード光ファイバが得られた。該光ファ
イバの屈折率分布を測定したところ第１図に示したよう
な分布を持っており、本実施例で作られた光ファイバが
デプレス型であることが確認された。また損失波長特性
を測定したところ、１．５５μｍで１．０ ｄＢ／！ｍ
以下であり、十分低損失であることも確認した。
スト型シングルモード光ファイバが得られた。該光ファ
イバの屈折率分布を測定したところ第１図に示したよう
な分布を持っており、本実施例で作られた光ファイバが
デプレス型であることが確認された。また損失波長特性
を測定したところ、１．５５μｍで１．０ ｄＢ／！ｍ
以下であり、十分低損失であることも確認した。
以上の実施例ではコアが純シリカの場合についてしか記
載されていないが、コア部にＧｅ０１等の屈折ｘ２上げ
るためのドーパントをドープすることによって、通常の
マルチモード型光ファイバや大口径高ＮＡ光ファイバも
製造できることは明らかである。またＧｅｍ、ドープに
よってフッ素添加量加減できる。
載されていないが、コア部にＧｅ０１等の屈折ｘ２上げ
るためのドーパントをドープすることによって、通常の
マルチモード型光ファイバや大口径高ＮＡ光ファイバも
製造できることは明らかである。またＧｅｍ、ドープに
よってフッ素添加量加減できる。
また以上の実施例ではジャケット部が純シリカの構造の
例を示したが、ジャケット部とクラッド部がフッ素ドー
グされた同一の石英ガラスであってもよい。（第２図） 〔発明の効果〕 以上述べたように本発明によれば、少なくともアルキル
シリケートを原料とする加水分解溶液に、ガラスの屈折
率を下げるためのドーパントを含有するシリカ微粒子を
添加してなるゾルと溶ｇ、ヲ、回転容器に移し入れ、回
転させながらゲル化させ管状ウェットゲルを作る操作を
少なくとも一回含むことＫよシ、デクレスト型光ファイ
バ用母材を従来の方法よりも安価に製造し得る。また前
記ドーパントをフッ素とすることによって低損失なシン
グルモード光ファイバが容易に実現できる。したがって
本発明は加入者線を含めた光通信網構策のうえで欠かせ
ない技術であると確信する。
例を示したが、ジャケット部とクラッド部がフッ素ドー
グされた同一の石英ガラスであってもよい。（第２図） 〔発明の効果〕 以上述べたように本発明によれば、少なくともアルキル
シリケートを原料とする加水分解溶液に、ガラスの屈折
率を下げるためのドーパントを含有するシリカ微粒子を
添加してなるゾルと溶ｇ、ヲ、回転容器に移し入れ、回
転させながらゲル化させ管状ウェットゲルを作る操作を
少なくとも一回含むことＫよシ、デクレスト型光ファイ
バ用母材を従来の方法よりも安価に製造し得る。また前
記ドーパントをフッ素とすることによって低損失なシン
グルモード光ファイバが容易に実現できる。したがって
本発明は加入者線を含めた光通信網構策のうえで欠かせ
ない技術であると確信する。
第１図、第２図は本発明で得られた光ファイバ用母材を
線引きして製造されたデプレスト型光ファイバの屈折率
分布図。 １・・・・・・純シリカの屈折率 ２・・・・・・フッ素ドープトシリカの屈折率。 光ファイ１、・・０忌が−レ分ル０ 第１図 光−ｈイＩ＼・の風子’Ｔ＊Ａ？ｔＡ弔じ弓第２図
線引きして製造されたデプレスト型光ファイバの屈折率
分布図。 １・・・・・・純シリカの屈折率 ２・・・・・・フッ素ドープトシリカの屈折率。 光ファイ１、・・０忌が−レ分ル０ 第１図 光−ｈイＩ＼・の風子’Ｔ＊Ａ？ｔＡ弔じ弓第２図
Claims (2)
- （１）少なくともアルキルシリケートを原料とする加水
分解溶液に、ガラスの屈折率を下げるためのドーパント
を含有するシリカ微粒子を添加してなるゾル溶液を、回
転容器に移し入れ、回転させながらゲル化させ、管状ウ
ェットゲルを作る操作を少なくとも一回含むことを特徴
とする光ファイバ用母材の製造方法。 - （２）前記ドーパントがフッ素であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の光ファイバ用母材の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23556485A JPS6296339A (ja) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23556485A JPS6296339A (ja) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6296339A true JPS6296339A (ja) | 1987-05-02 |
Family
ID=16987857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23556485A Pending JPS6296339A (ja) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6296339A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4968339A (en) * | 1990-01-02 | 1990-11-06 | At&T Bell Laboratories | Method of fluorine doped modified chemical vapor deposition |
| US5039325A (en) * | 1990-01-02 | 1991-08-13 | At&T Bell Laboratories | Method for consolidating doped glass using an encapsulating structure |
| US5076824A (en) * | 1990-05-14 | 1991-12-31 | At&T Bell Laboratories | Method of making fiber optical preform with pyrolytic coated mandrel |
| KR100383590B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2003-05-14 | 삼성전자주식회사 | 압출을 이용한 플루오린이 도핑된 실리카 글래스 제조 방법 |
-
1985
- 1985-10-22 JP JP23556485A patent/JPS6296339A/ja active Pending
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