JPS62207721A - 屈折率分布レンズの製造方法 - Google Patents
屈折率分布レンズの製造方法Info
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- JPS62207721A JPS62207721A JP5165386A JP5165386A JPS62207721A JP S62207721 A JPS62207721 A JP S62207721A JP 5165386 A JP5165386 A JP 5165386A JP 5165386 A JP5165386 A JP 5165386A JP S62207721 A JPS62207721 A JP S62207721A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光7アイパ通信に利用される光フアイバ用母材
または複写機等に利用されるセルフォックレンズアレイ
(商品名)用屈折率分布レンズの製造方法に関する。
または複写機等に利用されるセルフォックレンズアレイ
(商品名)用屈折率分布レンズの製造方法に関する。
従来の屈折率分布レンズの製造方法は多成分ガラスのロ
ンド(約2闘φ)を作り、ガラスの組成とは異なる組成
よりなる溶融塩中にロンドを浸漬し、ロッド中と溶融塩
中の金属イオンの相互拡散を起こさせ、ロッド中の高屈
折率付与成分を抜きとるか、溶融塩中の低屈折率付与成
分を拡散によυロッド中に移動させ2乗分布に近い屈折
率分布をつける方法である、□方法1 一方この方法に対してゾル−ケル法による屈折率分布レ
ンズの製造方法が提案された。
ンド(約2闘φ)を作り、ガラスの組成とは異なる組成
よりなる溶融塩中にロンドを浸漬し、ロッド中と溶融塩
中の金属イオンの相互拡散を起こさせ、ロッド中の高屈
折率付与成分を抜きとるか、溶融塩中の低屈折率付与成
分を拡散によυロッド中に移動させ2乗分布に近い屈折
率分布をつける方法である、□方法1 一方この方法に対してゾル−ケル法による屈折率分布レ
ンズの製造方法が提案された。
(ELECTRONIC8LE’r’rgRs 16
thJanuary 19’86 vol 22
.42Pp 99−100)この方法によれは、まず
シリコンアルコキシドトケルマニウムアルコキシドを塩
酸酸性で加水分解液し、ゾル溶液を作る。続いてこのゾ
ル溶液を円筒状の容器にとシケル化させた後、このウェ
ットゲルを容器から取シだし、水中に浸漬し、ゲル中の
ゲルマニウム成分を拡動により抜き去り、屈折率分布を
つけた伊、ゾル−ゲル法に述べられている通常の焼結方
法によlli折半分布レンズを製造する方法である。□
方法2 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、従来の方法においては次のような欠点があった
。方法1においては高温の溶融塩を使用するため危険で
あり、高温において拡散させているのにもかかわらず拡
散速度が遅く製造日数がかかり高価となる。又、拡散距
離を大きくとれないため、大型のロンドを得ることがで
きない。
thJanuary 19’86 vol 22
.42Pp 99−100)この方法によれは、まず
シリコンアルコキシドトケルマニウムアルコキシドを塩
酸酸性で加水分解液し、ゾル溶液を作る。続いてこのゾ
ル溶液を円筒状の容器にとシケル化させた後、このウェ
ットゲルを容器から取シだし、水中に浸漬し、ゲル中の
ゲルマニウム成分を拡動により抜き去り、屈折率分布を
つけた伊、ゾル−ゲル法に述べられている通常の焼結方
法によlli折半分布レンズを製造する方法である。□
方法2 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、従来の方法においては次のような欠点があった
。方法1においては高温の溶融塩を使用するため危険で
あり、高温において拡散させているのにもかかわらず拡
散速度が遅く製造日数がかかり高価となる。又、拡散距
離を大きくとれないため、大型のロンドを得ることがで
きない。
方法2においては方法1の欠点はないものの、通常のゾ
ル−ゲル法により製造された場合、途中のウェットゲル
やドライゲルが割れやすい、焼結がう1くいかない等の
性質のため歩留シが悪く、高価となる。
ル−ゲル法により製造された場合、途中のウェットゲル
やドライゲルが割れやすい、焼結がう1くいかない等の
性質のため歩留シが悪く、高価となる。
本発明は゛このような状況に鋳みなされたものであり、
従来のゾル−ゲル法を改良することにより大型の屈折率
分布レンズを歩留シ良く、簡単に製造する方法を提供す
るためになされたものである。
従来のゾル−ゲル法を改良することにより大型の屈折率
分布レンズを歩留シ良く、簡単に製造する方法を提供す
るためになされたものである。
アルキルシリケートとアルコールの混合溶液に酸性水溶
液を加え、加水分解溶液を作る。続いてこの溶液に金趙
酸化物の微粒子(気相法にて合成される5i02.Al
2O3,TiO2,ZrO2等(デグサ社製)、金属ア
ルコキシドを塩基性触媒にて分散製造されるSiO□、
’rio□、zro2等)を加え良く分散させる。場合
によってはアルキルシリケート以外の金属アルコレート
のアルコール溶液を酸性加水分解して得られる溶VeL
を加えても良いし、適当な屈折率変化付与性を有す金属
塩やイオンを加えても良い。このようにして得られた混
合物をパイプに仕込みゲル化させる。ゲル化したところ
でパイプよりウェットゲルをとりだし溶液中に浸漬し、
ウェットゲル中にある拡散可能な成分をとり去シ、濃度
分布(油接率分布)のついたウェットゲルとする。この
分布のついたウェットゲルを乾燥器にいれ乾燥してドラ
イゲルとする。得られた乾燥ゲルを焼結して目的とする
屈折率分布レンズを得ることができる。
液を加え、加水分解溶液を作る。続いてこの溶液に金趙
酸化物の微粒子(気相法にて合成される5i02.Al
2O3,TiO2,ZrO2等(デグサ社製)、金属ア
ルコキシドを塩基性触媒にて分散製造されるSiO□、
’rio□、zro2等)を加え良く分散させる。場合
によってはアルキルシリケート以外の金属アルコレート
のアルコール溶液を酸性加水分解して得られる溶VeL
を加えても良いし、適当な屈折率変化付与性を有す金属
塩やイオンを加えても良い。このようにして得られた混
合物をパイプに仕込みゲル化させる。ゲル化したところ
でパイプよりウェットゲルをとりだし溶液中に浸漬し、
ウェットゲル中にある拡散可能な成分をとり去シ、濃度
分布(油接率分布)のついたウェットゲルとする。この
分布のついたウェットゲルを乾燥器にいれ乾燥してドラ
イゲルとする。得られた乾燥ゲルを焼結して目的とする
屈折率分布レンズを得ることができる。
方法2においては、金属アルコキシドの塩酸酸性加水分
解物のみを用いているため、結合が強固にできあがり、
外部の衝撃や内部の応力に対して非常に弱く、すぐわれ
る欠点がある。この方法においてはできたとしても高々
直径1cInφ位のウェットゲルができる位いで、しか
も非常に歩留シが悪い。これに対して、本発明の方法は
、上記組成物に金属酸化物の微粒子を加えることにより
、内部の歪を除去し、強固過ぎる結合をフレキシブルな
状態にすることにより外部からの衝撃や内部の応力によ
る破壊を防いでいる。
解物のみを用いているため、結合が強固にできあがり、
外部の衝撃や内部の応力に対して非常に弱く、すぐわれ
る欠点がある。この方法においてはできたとしても高々
直径1cInφ位のウェットゲルができる位いで、しか
も非常に歩留シが悪い。これに対して、本発明の方法は
、上記組成物に金属酸化物の微粒子を加えることにより
、内部の歪を除去し、強固過ぎる結合をフレキシブルな
状態にすることにより外部からの衝撃や内部の応力によ
る破壊を防いでいる。
以上述べた如く、本発明によれは油接率分布レンズを歩
留り良く得ることができる。
留り良く得ることができる。
〔実施例1〕
■ シリカ微粒子の製造
エチルシリケート981.6 t 、無水エタノール5
246プ、アンモニア水(29%)157m。
246プ、アンモニア水(29%)157m。
水559.69を混合し、2時間激しく攪拌した後、冷
暗所にて一晩静置し、シリカ微粒子を含む溶液を合成し
た。この溶液を減圧濃縮した後、溶液中のアルコール分
を水と置換した。その後、希塩酸を用いてPH値を4.
0に調整し、つづいて14μmのメンブレンフィルター
を用いて濾過し、α07μmの平均粒径をもつシリカ微
粒子を含む溶液700Mを得た。 粒子分散液 ■ ゾルの調整 エチルシリケート12A3fに0.2規定の塩酸16f
f加え、激しく攪拌しながら反応させ、溶液が透明にな
ったところでテトラエトキシゲルマニラ4&1fを少し
ずつ加えよく攪拌した。30分反応させた後、この反応
溶液に[L2規定の塩酸2&7fを加え反応させ、さら
に水42.79を加えよく攪拌して加水分解溶液を作っ
た。 ゾル溶液 つぎにゾル溶液と微粒子分散液の5分の1を混合し、Q
、2規定のアンモニア水と水を用いてPH値を4.45
に調整し、この溶液を直径4cIrL、長さ40(mの
円筒容器にいれ垂直に立ててゲル化させた。ゲル化し、
幾分収縮しだしたところで容器から取シ出し、アルコー
ル水溶液中に浸漬した。浸漬を1時間してからアルコー
ル水溶液から取り出し、開孔率(L2%のフタのできる
タッパ容器(商品名)にいれ、温度55℃で20日間乾
燥しドライゲルとした。
暗所にて一晩静置し、シリカ微粒子を含む溶液を合成し
た。この溶液を減圧濃縮した後、溶液中のアルコール分
を水と置換した。その後、希塩酸を用いてPH値を4.
0に調整し、つづいて14μmのメンブレンフィルター
を用いて濾過し、α07μmの平均粒径をもつシリカ微
粒子を含む溶液700Mを得た。 粒子分散液 ■ ゾルの調整 エチルシリケート12A3fに0.2規定の塩酸16f
f加え、激しく攪拌しながら反応させ、溶液が透明にな
ったところでテトラエトキシゲルマニラ4&1fを少し
ずつ加えよく攪拌した。30分反応させた後、この反応
溶液に[L2規定の塩酸2&7fを加え反応させ、さら
に水42.79を加えよく攪拌して加水分解溶液を作っ
た。 ゾル溶液 つぎにゾル溶液と微粒子分散液の5分の1を混合し、Q
、2規定のアンモニア水と水を用いてPH値を4.45
に調整し、この溶液を直径4cIrL、長さ40(mの
円筒容器にいれ垂直に立ててゲル化させた。ゲル化し、
幾分収縮しだしたところで容器から取シ出し、アルコー
ル水溶液中に浸漬した。浸漬を1時間してからアルコー
ル水溶液から取り出し、開孔率(L2%のフタのできる
タッパ容器(商品名)にいれ、温度55℃で20日間乾
燥しドライゲルとした。
■ 焼結
次にこのドライゲルを石英製管状焼結炉にいれ昇温速度
30℃/時間で30℃から200℃まで加熱し、この温
度で5時間保持し、つづいて昇温速度60℃/時間で2
00℃から300℃まで加熱し、この温度で5時間保持
して脱吸着水を行なった。つづいて昇温速度30℃/時
間で300℃から950℃まで加熱し、この温度で2時
間保持して、脱炭素、脱塩化ア/モニウ処理、脱水縮合
反応の促進処理を行なった。つづいて800℃1で降温
し、ヘリウムガス21/分、塩素ガス0.21/分の混
合ガスを流しながら60分間保持し、その後、昇温速度
60℃/時間で900℃まで加熱し、その温度で1時間
保持し、さらに昇温速度60℃/時間で1000℃まで
加熱し、その温度で3時間保持し、脱水酸基処理を行な
った。つづいてヘリウムガス2!/分に対して酸素ガス
α41/分の混合ガスを流しなから昇温速度60℃/時
間で1100℃まで加熱し、この温度で20時間保持し
て脱塩素処理を行なった。つづいてヘリウムガスのみを
流しなから昇温速度30℃/時間で1250℃まで加熱
し、この温度で60分保持して閉孔化処理を行なった。
30℃/時間で30℃から200℃まで加熱し、この温
度で5時間保持し、つづいて昇温速度60℃/時間で2
00℃から300℃まで加熱し、この温度で5時間保持
して脱吸着水を行なった。つづいて昇温速度30℃/時
間で300℃から950℃まで加熱し、この温度で2時
間保持して、脱炭素、脱塩化ア/モニウ処理、脱水縮合
反応の促進処理を行なった。つづいて800℃1で降温
し、ヘリウムガス21/分、塩素ガス0.21/分の混
合ガスを流しながら60分間保持し、その後、昇温速度
60℃/時間で900℃まで加熱し、その温度で1時間
保持し、さらに昇温速度60℃/時間で1000℃まで
加熱し、その温度で3時間保持し、脱水酸基処理を行な
った。つづいてヘリウムガス2!/分に対して酸素ガス
α41/分の混合ガスを流しなから昇温速度60℃/時
間で1100℃まで加熱し、この温度で20時間保持し
て脱塩素処理を行なった。つづいてヘリウムガスのみを
流しなから昇温速度30℃/時間で1250℃まで加熱
し、この温度で60分保持して閉孔化処理を行なった。
つづいて試料を1250℃から昇温速度60℃/時間で
1400℃まで加熱し、この温度で1時間保持し透明ガ
ラス化した。
1400℃まで加熱し、この温度で1時間保持し透明ガ
ラス化した。
得られたガラスの両端を光学研磨してその特性を調べた
ところほぼ放物面に近い屈折率分布を示すことが確認で
きた。また適当な長さに切断して結像作用を調べたとこ
ろ、結像効果が確認できた。
ところほぼ放物面に近い屈折率分布を示すことが確認で
きた。また適当な長さに切断して結像作用を調べたとこ
ろ、結像効果が確認できた。
(中心軸の屈折率は1.48であった。)〔実施例2〕
無水エタノール400m1.エチルシリケート12A3
f、テトラエトキシゲルマニウム4′5.12をフラス
コにとり混合した後、[1,1規定塩酸溶液を85f加
え良く攪拌し加水分解した。つづいてこの溶液に、50
0m1の水にシリカ微粉末(アエロジルOX−50商品
名)f60f分散させた分散液を加えた。両液を混合後
、0.2規定アンモニア水を用いてPH値−1i4.4
0に調整し、この溶液を直径4crrL、長さ’4oc
mの円筒容器にいれ垂直に立ててゲル化させた。ゲル化
し、幾分収縮しだしたところで容器から取り出し、アル
コール水溶液中に浸漬した。浸漬を1時間してからアル
コール水溶液からとり出し、開孔率[lL2%のフタの
できるタッパ容器(商品名)にいれ、温度55℃で20
日間乾燥しドライゲルとした。
f、テトラエトキシゲルマニウム4′5.12をフラス
コにとり混合した後、[1,1規定塩酸溶液を85f加
え良く攪拌し加水分解した。つづいてこの溶液に、50
0m1の水にシリカ微粉末(アエロジルOX−50商品
名)f60f分散させた分散液を加えた。両液を混合後
、0.2規定アンモニア水を用いてPH値−1i4.4
0に調整し、この溶液を直径4crrL、長さ’4oc
mの円筒容器にいれ垂直に立ててゲル化させた。ゲル化
し、幾分収縮しだしたところで容器から取り出し、アル
コール水溶液中に浸漬した。浸漬を1時間してからアル
コール水溶液からとり出し、開孔率[lL2%のフタの
できるタッパ容器(商品名)にいれ、温度55℃で20
日間乾燥しドライゲルとした。
ドライゲルを実施例1と1WlvRな条件で焼結したと
ころ、実施例1とほぼ同じ屈折率分布のついたロッドが
得られた。
ころ、実施例1とほぼ同じ屈折率分布のついたロッドが
得られた。
実施例2と同様にして、テトラエトキシゲルマニラの代
わりにテトラエトキシチタニウム(5a761)を用い
て行なったところほぼ同様な結果が得られた。(中心軸
の屈折率は1.51であった)〔効果〕 本発明は微粒子を添加することにより、容易に歩留シ良
く屈折率分布レンズを作製でき、延伸操作を施こすこと
によシ、セルフォックレンズアレイやセルフォックレン
ズに応用できるものであり、工業的に非常に価値のある
ものである。
わりにテトラエトキシチタニウム(5a761)を用い
て行なったところほぼ同様な結果が得られた。(中心軸
の屈折率は1.51であった)〔効果〕 本発明は微粒子を添加することにより、容易に歩留シ良
く屈折率分布レンズを作製でき、延伸操作を施こすこと
によシ、セルフォックレンズアレイやセルフォックレン
ズに応用できるものであり、工業的に非常に価値のある
ものである。
以上
Claims (1)
- 2種以上の成分を含有するウェットゲルを溶媒に浸漬し
て濃度分布を形成せしめた後、乾燥、焼結することによ
りガラス体とする屈折率分布レンズの製造方法において
ウェットゲル中に微粒子状成分を含有することを特徴と
する屈折率分布レンズの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5165386A JPS62207721A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 屈折率分布レンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5165386A JPS62207721A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 屈折率分布レンズの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62207721A true JPS62207721A (ja) | 1987-09-12 |
Family
ID=12892828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5165386A Pending JPS62207721A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 屈折率分布レンズの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62207721A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3776020A4 (en) * | 2018-06-22 | 2022-03-09 | Lawrence Livermore National Security, LLC | SYSTEM AND METHOD FOR ABLATION-ASSISTED NANOSTRUCTURE FORMATION FOR GRADIENT INDEX SURFACES FOR OPTICS |
-
1986
- 1986-03-10 JP JP5165386A patent/JPS62207721A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3776020A4 (en) * | 2018-06-22 | 2022-03-09 | Lawrence Livermore National Security, LLC | SYSTEM AND METHOD FOR ABLATION-ASSISTED NANOSTRUCTURE FORMATION FOR GRADIENT INDEX SURFACES FOR OPTICS |
US11525945B2 (en) | 2018-06-22 | 2022-12-13 | Lawrence Livermore National Security, Llc | System and method for ablation assisted nanostructure formation for graded index surfaces for optics |
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