JPS62273635A - 円盤状記憶媒体の製造方法 - Google Patents
円盤状記憶媒体の製造方法Info
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- JPS62273635A JPS62273635A JP11648686A JP11648686A JPS62273635A JP S62273635 A JPS62273635 A JP S62273635A JP 11648686 A JP11648686 A JP 11648686A JP 11648686 A JP11648686 A JP 11648686A JP S62273635 A JPS62273635 A JP S62273635A
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- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 28
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 47
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
(産業上の利用分野)
本発明は、円盤状記憶媒体の製造方法に関し、特に、光
学的に情報を記録し、もしくは記録された情報の再生・
消去等を行う光メモリ素子の製造に利用される。
学的に情報を記録し、もしくは記録された情報の再生・
消去等を行う光メモリ素子の製造に利用される。
(従来の技術)
近年、光メモリ素子は高密度大容量メモリ装置として注
目されており、磁気テープ等に比べてアクセス時間を短
縮することができるため、特に研究開発が活発に行われ
ている。
目されており、磁気テープ等に比べてアクセス時間を短
縮することができるため、特に研究開発が活発に行われ
ている。
従来より提案されている情報の消去も可能な光メモリ素
子の一部断面構造を第4図に示す。
子の一部断面構造を第4図に示す。
同図において、a、bはそれぞれガラスあるいはアクリ
ル等からなる透明基板、c、dはそれぞれ記録層である
。記録層c、dは、例えば単層磁性膜、あるいは誘電体
膜、磁性体膜、反射膜等が組み合わされた多層膜で構成
されている。また、eは前記両透明基板a、bを一体的
に接着するための紫外線硬化樹脂等の接着層である。
ル等からなる透明基板、c、dはそれぞれ記録層である
。記録層c、dは、例えば単層磁性膜、あるいは誘電体
膜、磁性体膜、反射膜等が組み合わされた多層膜で構成
されている。また、eは前記両透明基板a、bを一体的
に接着するための紫外線硬化樹脂等の接着層である。
このような2枚重ねの構造の光メモリ素子は、表裏二面
にそれぞれ情報を入れることができるため、光メモリ素
子1牧当たりに記憶できる情報量が2倍になるという利
点がある。また、透明基板a、bをアクリル等の樹脂材
料で形成した場合には、基板自体のそり等による形状変
化を抑えることができるという利点もある。
にそれぞれ情報を入れることができるため、光メモリ素
子1牧当たりに記憶できる情報量が2倍になるという利
点がある。また、透明基板a、bをアクリル等の樹脂材
料で形成した場合には、基板自体のそり等による形状変
化を抑えることができるという利点もある。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、2枚の透明基板a、bを接着剤で接合す
る場合、接着層eに厚みむらや気泡の混入が生じるとい
う問題があった。また、この作業中に透明基板a、bの
反対側の面(読取面)にごみ等が付着したり、また、こ
のごみ等による傷付きが発生するという問題もあった。
る場合、接着層eに厚みむらや気泡の混入が生じるとい
う問題があった。また、この作業中に透明基板a、bの
反対側の面(読取面)にごみ等が付着したり、また、こ
のごみ等による傷付きが発生するという問題もあった。
(問題点を解決するための手段)
本発明に係る円盤状記憶媒体の製造方法は、2枚の基板
が重ね合わせられて接合されるとともに、これら基板の
接合側の各面にそれぞれ記録層が形成された構造の円盤
状記憶媒体の製造方法であって、前記2枚の基板の各記
録層が形成された面と反対側の面にそれぞれ保護層を設
けるとともに、これら2枚の基板のうち少なくとも一方
の基板の記録層の上に接着剤を塗布する工程と、接着剤
が塗布された後、記録層同士を重ね合わせて2枚の基板
を両外側から挟持するように押圧しこれら2枚の基板を
一体的に接着する工程と、2枚の基板を一体的に接着し
た後前記保護層を除去する工程とを備えてなるものであ
る。
が重ね合わせられて接合されるとともに、これら基板の
接合側の各面にそれぞれ記録層が形成された構造の円盤
状記憶媒体の製造方法であって、前記2枚の基板の各記
録層が形成された面と反対側の面にそれぞれ保護層を設
けるとともに、これら2枚の基板のうち少なくとも一方
の基板の記録層の上に接着剤を塗布する工程と、接着剤
が塗布された後、記録層同士を重ね合わせて2枚の基板
を両外側から挟持するように押圧しこれら2枚の基板を
一体的に接着する工程と、2枚の基板を一体的に接着し
た後前記保護層を除去する工程とを備えてなるものであ
る。
(作用)
読取面上に保護層を設けた2枚の基板を接着剤によって
一体的に接着し、この接着層を乾燥させた後、前記保護
層を除去して円盤状記録媒体を製造するものであるから
、この製造工程中、各基板の読取面が保護層によって保
護され、読取面へのごみ等の付着や傷付き等の発生を防
止する。
一体的に接着し、この接着層を乾燥させた後、前記保護
層を除去して円盤状記録媒体を製造するものであるから
、この製造工程中、各基板の読取面が保護層によって保
護され、読取面へのごみ等の付着や傷付き等の発生を防
止する。
(実施例)
以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図は、本発明の製造方法によって作製された、保護
層を除去する前の光メモリ素子(円盤状記憶媒体)の構
造の一例を示す一部拡大断面図である。
層を除去する前の光メモリ素子(円盤状記憶媒体)の構
造の一例を示す一部拡大断面図である。
同図において、1,5はそれぞれガラスあるいはアクリ
ル等からなる透明基板、2.4はそれぞれ記録層、3は
両透明基板1.5を一体的に接着固定する接着層である
。記録層2,4は、例えば単層磁性膜、あるいは誘電体
膜、磁性体膜、反射膜等が組み合わされた多層膜で構成
されている。
ル等からなる透明基板、2.4はそれぞれ記録層、3は
両透明基板1.5を一体的に接着固定する接着層である
。記録層2,4は、例えば単層磁性膜、あるいは誘電体
膜、磁性体膜、反射膜等が組み合わされた多層膜で構成
されている。
また、6,7は透明基板1.5の各表面(読取面)を保
護する保護膜であり、この保護膜6,7はR柊的には除
去される膜である。したがって、保護膜6.7は剥ぎ取
り可能なものであればスプレー法、スピンコード法また
は傳布法等、いずれの方法で形成してもよい。この保護
膜6,7は従来のいかなる接着方法に対しても適用可能
であり、光メモリ素子作製時における読取面への接着剤
の付着およびプラスチック基板で特に問題となる圧力を
加える際の基板表面への傷付きを防ぐことができる。
護する保護膜であり、この保護膜6,7はR柊的には除
去される膜である。したがって、保護膜6.7は剥ぎ取
り可能なものであればスプレー法、スピンコード法また
は傳布法等、いずれの方法で形成してもよい。この保護
膜6,7は従来のいかなる接着方法に対しても適用可能
であり、光メモリ素子作製時における読取面への接着剤
の付着およびプラスチック基板で特に問題となる圧力を
加える際の基板表面への傷付きを防ぐことができる。
次に、上記した構造の光メモリ素子の製造方法を説明す
る。
る。
まず、片面に記録層2.4がそれぞれ形成された透明基
板1,5を用意し、これら透明基板1゜5の前記記録層
2.4と反対側の面(読取面)にそれぞれ保護膜6.7
を設ける。
板1,5を用意し、これら透明基板1゜5の前記記録層
2.4と反対側の面(読取面)にそれぞれ保護膜6.7
を設ける。
このように形成された両透明基板1,5をホルダ9で保
持しく第2図参照)、接着剤槽15内に貯溜された接着
剤8内に浸漬する(第3図参照)。
持しく第2図参照)、接着剤槽15内に貯溜された接着
剤8内に浸漬する(第3図参照)。
ホルダ9は、下端部に基板保持部19を有する左アーム
16と、同じく下端部に基板保持部20を有する右アー
ム17とが、その上端部を連結杆18を介してそれぞれ
連結されたものであり、両アーム16.17は、連結杆
18との各連結部18a。
16と、同じく下端部に基板保持部20を有する右アー
ム17とが、その上端部を連結杆18を介してそれぞれ
連結されたものであり、両アーム16.17は、連結杆
18との各連結部18a。
18bを中心としてそれぞれ回動可能に設けられている
。両基板保持部19.20はリング状に形成されており
、その相対向する側の端面には、透明基板1.5をそれ
ぞれ嵌め合わせるための環状の凹み段部19a、20a
が形成されている。
。両基板保持部19.20はリング状に形成されており
、その相対向する側の端面には、透明基板1.5をそれ
ぞれ嵌め合わせるための環状の凹み段部19a、20a
が形成されている。
各透明基板1.5はそれぞれ保護膜6.7が設けられた
読取面側からホルダ9の前記基板保持部19.20の各
凹み段部19a、20aに嵌め合わされ、両アーム16
.17を若干量いた状態で接着剤8内に浸漬される。接
着剤8は紫外線硬化性および嫌気硬化性であって、適当
な粘度(例えば数100cPs)を持っている。接着剤
8内に浸漬後、両アーム16.17を第3図中矢符P、
Q方向にそれぞれ回動じて、記録層2,4間士を重ね合
わせるように両透明基板1.5を押圧し、この押圧状態
で接着剤8内から両透明基板1.5を取り出す。この後
、紫外線を照射して両透明基板1゜5の記録層2.4間
に介在された接着剤8を硬化し、両統取面に設けられて
いた保護膜6.7を除去して(剥ぎ取って)、光メモリ
素子の作製を完了する。
読取面側からホルダ9の前記基板保持部19.20の各
凹み段部19a、20aに嵌め合わされ、両アーム16
.17を若干量いた状態で接着剤8内に浸漬される。接
着剤8は紫外線硬化性および嫌気硬化性であって、適当
な粘度(例えば数100cPs)を持っている。接着剤
8内に浸漬後、両アーム16.17を第3図中矢符P、
Q方向にそれぞれ回動じて、記録層2,4間士を重ね合
わせるように両透明基板1.5を押圧し、この押圧状態
で接着剤8内から両透明基板1.5を取り出す。この後
、紫外線を照射して両透明基板1゜5の記録層2.4間
に介在された接着剤8を硬化し、両統取面に設けられて
いた保護膜6.7を除去して(剥ぎ取って)、光メモリ
素子の作製を完了する。
このように、透明基板1.5の読取面に予め保護膜6.
7を設けて光メモリ素子の作製を行うことにより、透明
基板1,5を接着剤8内に浸漬した状態で両透明基板1
,5を加圧接着するという作業が可能となる。すなわち
、接着剤8の記録層2.4以外への付着は、最終工程に
おいて保護膜6.7を除去することにより、透明基板1
.5からも除去することができるからである。これによ
り、作製時に問題であった記録層2,4間に介在された
接着層3中への気泡の混入を防ぐとともに、光メモリ素
子の作製の高速化および簡略化が可能となる。さらに、
保護膜の剥ぎ取りにより、作製前に読取面に付着してい
たごみ等の除去も行えるという利点もある。
7を設けて光メモリ素子の作製を行うことにより、透明
基板1,5を接着剤8内に浸漬した状態で両透明基板1
,5を加圧接着するという作業が可能となる。すなわち
、接着剤8の記録層2.4以外への付着は、最終工程に
おいて保護膜6.7を除去することにより、透明基板1
.5からも除去することができるからである。これによ
り、作製時に問題であった記録層2,4間に介在された
接着層3中への気泡の混入を防ぐとともに、光メモリ素
子の作製の高速化および簡略化が可能となる。さらに、
保護膜の剥ぎ取りにより、作製前に読取面に付着してい
たごみ等の除去も行えるという利点もある。
なお、上記実施例では、両透明基板1,5を接着剤溶液
中に浸漬した状態で加圧接着するようにしているが、一
方もしくは両方の透明基板1,5の記録層2.4の上に
接着剤8を塗布し、これをホルダ9に嵌合保持した状態
で、大気中で加圧接着するようにしても良いことは当然
である。
中に浸漬した状態で加圧接着するようにしているが、一
方もしくは両方の透明基板1,5の記録層2.4の上に
接着剤8を塗布し、これをホルダ9に嵌合保持した状態
で、大気中で加圧接着するようにしても良いことは当然
である。
また、本発明は保護膜を設けた透明基板を用いて光メモ
リ素子を製造する点に特徴を有するもので、この趣旨の
範囲内において種々の変形が可能である。
リ素子を製造する点に特徴を有するもので、この趣旨の
範囲内において種々の変形が可能である。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、両面使用の円盤
状記憶媒体(光メモリ素子)の接着を容易かつ迅速に行
うことができ、しかも、媒体表面の汚れ、傷付きを防ぐ
ことができる。また、接着作業を接着剤中に浸漬した状
態で行うことにより、2枚の基板を接着する接着層に気
泡等の混入のない円盤状記憶媒体を製造することができ
る。
状記憶媒体(光メモリ素子)の接着を容易かつ迅速に行
うことができ、しかも、媒体表面の汚れ、傷付きを防ぐ
ことができる。また、接着作業を接着剤中に浸漬した状
態で行うことにより、2枚の基板を接着する接着層に気
泡等の混入のない円盤状記憶媒体を製造することができ
る。
第1図は本発明の製造方法によって製造された保護膜を
除去する前の光メモリ素子の構造の一例を示す一部拡大
断面図、第2図はホルダで基板を嵌合保持した状態の側
面図、第3図はホルダに保持した基板を接着剤槽中の接
着剤に浸漬した状態の縦断面図、第4図は従来の光メモ
リ素子の構造を示す一部拡大断面図である。 1.5・・・透明基板 2.4・・・記録層3・・
・接着層 6.7・・・保護層8・・・接着剤
9・・・ホルダ第7図
除去する前の光メモリ素子の構造の一例を示す一部拡大
断面図、第2図はホルダで基板を嵌合保持した状態の側
面図、第3図はホルダに保持した基板を接着剤槽中の接
着剤に浸漬した状態の縦断面図、第4図は従来の光メモ
リ素子の構造を示す一部拡大断面図である。 1.5・・・透明基板 2.4・・・記録層3・・
・接着層 6.7・・・保護層8・・・接着剤
9・・・ホルダ第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)2枚の基板が重ね合わせられて接合されるとともに
、これら基板の接合側の各面にそれぞれ記録層が形成さ
れた構造の円盤状記憶媒体の製造方法であって、 前記2枚の基板の各記録層が形成された面と反対側の面
にそれぞれ保護層を設けるとともに、これら2枚の基板
のうち少なくとも一方の基板の記録層の上に接着剤を塗
布する工程と、 接着剤が塗布された後、記録層同士を重ね合わせて2枚
の基板を両外側から挟持するように押圧しこれら2枚の
基板を一体的に接着する工程と、 2枚の基板を一体的に接着した後前記保護層を除去する
工程とを備えてなることを特徴とする円盤状記憶媒体の
製造方法。 2)2枚の基板の各記録層の上に接着剤を塗布する工程
、および記録層同士を重ね合わせて2枚の基板を両外側
から挟持するように押圧しこれら2枚の基板を一体的に
接着する工程を接着剤溶液中で行うことを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の円盤状記憶媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11648686A JPS62273635A (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 円盤状記憶媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11648686A JPS62273635A (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 円盤状記憶媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62273635A true JPS62273635A (ja) | 1987-11-27 |
Family
ID=14688308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11648686A Pending JPS62273635A (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 円盤状記憶媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62273635A (ja) |
-
1986
- 1986-05-21 JP JP11648686A patent/JPS62273635A/ja active Pending
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