JPS62270020A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 磁気ディスク面に硬質炭素膜（以下カーボン膜と呼ぶ）
を形成し粗面化することが、潤滑性、耐久性の点で有効
であり、本発明はカーボン膜面に気化性物質を含む熱硬
化性樹脂を塗布後、熱処理して気化性物質を気化、除去
して熱硬化性樹脂を多孔質のものとし、熱硬化性樹脂の
多くの小孔を通してカーボン膜をエツチングした後に、
熱硬化性樹脂を除去することにより、カーボン膜に一様
な粗面形状を与えるものである。

〔産業上の利用分汗〕

本発明は、潤滑性、耐久性が共に優れた磁気記録媒体の
製造方法に関する。

磁気ディスク装置は、近年高記録密度化が進み、その磁
気ヘッドの低浮上化は、極限的な所まで進められている
。

このため、ディスク面上の僅かなキズ、塵埃、滑り不良
等がきっかけとなり、ヘッド及び記録媒体の回復不能な
破壊が発生し易い状況にある。そのため、潤滑性、耐久
性が共に優れている記録媒体の開発が急務となっている
。

〔従来の技術〕

第３図は従来の磁気記録媒体を示す。図において、磁気
記録媒体上は非磁性基板（アルミ等）２上に記録層とな
る連続磁性層３が形成され、その表面には、通常フロロ
カーボン系の液体潤滑剤４が塗布されている。この液体
潤滑剤４は、過少に用いた場合は潤滑性が悪く、過多に
用いた場合は磁気ヘッドが媒体表面に吸着し易くなり、
潤滑剤の塗布■の適性化が問題であった。

特に、近年その利用の伸びが予想される連続薄膜媒体に
おいては、その問題が深刻である。その理由は、連続薄
膜媒体では高記録密度化のため、従来の酸化鉄粉塗布型
媒体に比べて、媒体面をより平滑化して低浮上化をはか
っており、この結果、少量の潤滑剤でも吸着を生じやす
＜、Ｋ２滑剤の通景範囲が非常に挟まり、適ｉ塗布が困
難になっているからである。

ところで、ヘッドの吸着のない潤滑性のある材料として
、カーボン膜が注目されているが、潤滑性が不足してお
り、これを改善するかめ液体潤滑剤との併用を考えざる
を得ない状況にある。ヘッド吸着を防ぐ為には、機械的
にダイヤモンド砥粒（砥粒０．５〜１．０　μｍ）によ
る研磨紙で、カーボン膜面を粗化する方法が提案されて
いるのが現状である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来のカーボン膜面の粗化のため、前述したような機械
的な方法で行った場合、ディスク面にスクラノチギズが
入ったりして磁性媒体を傷つけたり、叉ディスク面全面
に一様な粗化を行うことが困難であるという問題点があ
る。

〔問題点を解決するための手段〕

第１図（イ）（ロ）は、本発明におけるカーボン膜の粗
化方法の原理図である。

木問題点は、非磁性基板２上に連続磁性層３、更にカー
ボン膜５が形成されている。該カーボン膜５上に微粒子
の気化性物質６を含む熱硬化性物質７を塗布し、気化性
物質６の気化温度以上の温度で熱処理を行い、さらに熱
処理後にカーボン膜５を酸素（０２）プラズマ等でエツ
チングする本発明の方法により解決される。

〔作用〕

即ち、気化性物質６の気化温度以上の温度で熱処理を行
なうと、第１図（ロ）のようにカーボン膜５がところど
ころ顔を出す。即ち小孔８が多数発生する。この状態で
カーボン膜５をエツチングすると、小孔８の部分でのみ
カーボン膜５がエツチングされる。この後熱硬化性物質
７を除去することにより、粗面化されたカーボン膜５が
得られる。

〔実施例〕

第２図は本発明の実施例である。

第１図（イ）（ロ）の粗面状カーボン膜の形成法を、実
際のディスクに行なう場合のプロセスを、順を追って第
２図（ａ）〜（ｇ）で説明する。

まず、γ−Ｆｅ□０３磁性体からなる記録層（連続磁性
層３）を有する磁気ディスク基板（非磁性基板２）上に
〔第２図（ａ））、グラファイトをターゲットとしてカ
ーボン膜５を、４００〜６００　人の厚さに１０〜３０
ｍ　ＴｏｒｒのＡｒ　（アルゴン）圧の丁で、スパッタ
リングにより形成する〔第２図（ｂ））。

該カーボン膜５上にパラフィン（気化性物Ｍ６）で懸濁
処理された有機溶剤（例えばフォトレジスト液やポリイ
ミド液等の熱硬化性物質７）を塗布する〔第２図（Ｃ）
〕。

この後８０〜１２０℃で３０〜６０分熱処理すると、パ
ラフィン６の微粒子が気化して、有機樹脂膜７′に数多
くの微細な小孔８が発生する〔第２図（ｄ）〕。さらに
高温で熱処理してもよいが、後工程での有機樹脂膜７′
の除去を、より容易にするためには８０〜１２０℃が望
ましい。

この状態で、酸素ガスにより例えば０２ガス圧０゜５Ｔ
ｏｒｒ−、プラズマ電力０．０５〜０．２　ＩＩ　７ｃ
ｍ”　にて数分間処理する条件で、プラズマエツチング
を行なうと、カーボン膜５は小孔８の部分で酸素のプラ
ズマと反応して除去される〔第２図（ｅ）〕。

この後、カーボン［５上に残った有機樹脂膜７′は、ア
セトンやヒドラジン溶液に浸すことにより容易に除去さ
れる〔第２図（ｒ）〕。なお、超音波洗浄器を使用した
り、ガーゼなどで擦りとれば、さらに簡単に除去できる
。さらに有機樹脂膜７′の厚さを調節することにより、
カーボン膜５の０２（酸素）プラズマエツチングと同時
に除去することも可能である。

この後のフロロカーボン系の液体潤滑剤４を塗布すれば
〔第２図（ｇ））　、動摩擦係数が０．２〜０．２４と
小さく、かつヘッド吸着の発生しない潤滑膜が得られる
。

なお、ここではγ−Ｆｅ２０３磁性体からなる記録層を
持つ磁気ディスクを例にして示したが、Ｃｏ−ＮｉやＣ
ｏ−Ｎｉ　−Ｃｒ、　Ｃｏ−Ｃｒなどの金属磁性体から
なる記録層を有する磁気ディスクについても、本発明が
成立することは云うまでもない。叉硬い基板を用いた磁
気ディスクだけでな（、磁気テープやフレキシブルディ
スクについても本発明は適用できる。さらにカーボン膜
の作成法は、ＣＶＤ法（気相成長法）等で形成してもよ
く、スパッタリング法に限定されない。

叉、本実施例では有機樹脂膜７′をカーボン膜５上に用
いたが、熱硬化性の物質であって懸濁させた物質の気化
する温度に耐えるものであれば、本発明が示す方法に適
用できる。叉、懸濁させた物質として、パラフィン６を
用いたが、これも粒径が１〜ｌＯμ彌の大きさで、多数
の小粒に分散しかつ、用いる熱硬化性物質７が耐久でき
る温度下で飛散、消失するものであれば良く、本発明に
通用することができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、磁性媒体上に形成
したカーボン膜の粗面化を、機械的な粗化方法を用いる
ことなく行えるので、磁性媒体に傷をつけずに、潤滑性
、耐久性が共に優れた媒体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（イ）（ロ）は本発明の詳細な説明する図、 第２図（ａ）〜（ｇ）は本発明の詳細な説明する図、 第３図は従来例を説明する図である。 図において、 ２は非磁性基板、 ３は連続磁性層、 ５はカーボン膜、 ６は気化性物質、 ７は熱硬化性物質、 ８は小孔、 ｊは液体潤滑剤を示す。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基板（２）上に、連続磁性層（３）と硬質
   炭素膜（５）とフロロカーボン系潤滑剤を有する磁気記
   録媒体の製造方法であって、 上記硬質炭素膜（５）を成膜する工程と、該硬質炭素膜
   （５）上に熱硬化性物質（７）と蒸発性物質（６）の混
   合物を塗布する工程と、該蒸発性物質（６）を加熱して
   蒸発させ、穴のあいた熱硬化性樹脂膜（７′）を残存さ
   せる工程と、該熱硬化性樹脂膜（７′）をマスクにして
   、前記硬質炭素膜（５）をエッチングする工程と、残存
   する熱硬化性樹脂膜（７′）を除去した後、フロロカー
   ボン系潤滑剤を塗布する工程を合わせ持つことを特徴と
   する磁気記録媒体の製造方法。
2. （２）上記熱硬化性物質（７）は有機樹脂であり、該有
   機樹脂のエッチングを酸素（Ｏ＿２）プラズマで行うこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒
   体の製造方法。