JPH02101621A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH02101621A JPH02101621A JP25512488A JP25512488A JPH02101621A JP H02101621 A JPH02101621 A JP H02101621A JP 25512488 A JP25512488 A JP 25512488A JP 25512488 A JP25512488 A JP 25512488A JP H02101621 A JPH02101621 A JP H02101621A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 26
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 13
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 abstract description 8
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 abstract description 8
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 abstract description 8
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 abstract description 8
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 abstract description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 4
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 abstract description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 abstract description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910020598 Co Fe Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910002519 Co-Fe Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 abstract 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical compound FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- ZTSDOGSKTICNPQ-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,18,18,18-pentatriacontafluorooctadecanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZTSDOGSKTICNPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexamethyl-1,3,5,2,4,6-triazatrisilinane Chemical compound C[Si]1(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N1 WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBIQRFDSDXCLFB-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4-tetramethyl-1,3,2,4-diazadisiletidine Chemical compound C[Si]1(C)N[Si](C)(C)N1 BBIQRFDSDXCLFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJKLEAOXCZIMPI-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxyethanamine Chemical compound CCOC(CN)OCC HJKLEAOXCZIMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005997 Calcium carbide Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100481408 Danio rerio tie2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100481410 Mus musculus Tek gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007737 ion beam deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 238000007885 magnetic separation Methods 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-[2-[2-[2-[bis[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]amino]-5-bromophenoxy]ethoxy]-4-methyl-n-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]anilino]acetate Chemical compound CC1=CC=C(N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)C(OCCOC=2C(=CC=C(Br)C=2)N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)=C1 CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体に関する。
気記録層とする磁気記録媒体に関する。
従来の技術
最近の記録技術の進歩により単位面積当りはもとより単
位体積当りの記録密度が著しく向上し、磁気記録媒体は
、表面が極めて平滑で、高密度化に適した強磁性金属薄
膜を磁気記録層とする蒸着テープ等の実用化が強く望ま
れている。従って最近では摺動界面で起る摩擦、摩耗等
に対する理解を深めるトライポロジーに関する研究の重
要性が認識され各方面で開発が進められている〔テレビ
ジ、7学会誌V 01 、40 、 & 6 、 (1
986)472頁〕。第2図は従来の磁気記録媒体の拡
大断面図である。第2図に於て、1はポリエチレンテレ
フタレート、ポリイミド等の高分子フィルムで必要に応
じて、微粒子化した表面を付与したもの等(特開昭69
−207422号公報、特開昭59−121631号公
報)が用いられる。2はCo−Ni−0斜め蒸着膜、C
o−0r 、 Co−0r−Nb等の垂直磁化膜等の磁
気記録層で、3は保護層で、4はバックコート層で、炭
素粉末、炭化カルシウム粉末等の粒子を含んだ樹脂層で
、主として走行性を改善するために保護層だけで不十分
な場合にはよく設けられている。
位体積当りの記録密度が著しく向上し、磁気記録媒体は
、表面が極めて平滑で、高密度化に適した強磁性金属薄
膜を磁気記録層とする蒸着テープ等の実用化が強く望ま
れている。従って最近では摺動界面で起る摩擦、摩耗等
に対する理解を深めるトライポロジーに関する研究の重
要性が認識され各方面で開発が進められている〔テレビ
ジ、7学会誌V 01 、40 、 & 6 、 (1
986)472頁〕。第2図は従来の磁気記録媒体の拡
大断面図である。第2図に於て、1はポリエチレンテレ
フタレート、ポリイミド等の高分子フィルムで必要に応
じて、微粒子化した表面を付与したもの等(特開昭69
−207422号公報、特開昭59−121631号公
報)が用いられる。2はCo−Ni−0斜め蒸着膜、C
o−0r 、 Co−0r−Nb等の垂直磁化膜等の磁
気記録層で、3は保護層で、4はバックコート層で、炭
素粉末、炭化カルシウム粉末等の粒子を含んだ樹脂層で
、主として走行性を改善するために保護層だけで不十分
な場合にはよく設けられている。
従来保護層は特開昭54−113303号公報に開示さ
れている脂肪酸金属塩の蒸着膜による耐摩耗性の改善、
特開昭57−116771号公報に開示されているイミ
ド基を有する高分子のスパッタ膜、ダイアモンド状硬質
炭素膜を用いる例(日本応用磁気学会、第46回研究会
資料)等が知られている。又潤滑目的の層として、蒸着
法。
れている脂肪酸金属塩の蒸着膜による耐摩耗性の改善、
特開昭57−116771号公報に開示されているイミ
ド基を有する高分子のスパッタ膜、ダイアモンド状硬質
炭素膜を用いる例(日本応用磁気学会、第46回研究会
資料)等が知られている。又潤滑目的の層として、蒸着
法。
湿式塗布法等で脂肪酸、脂肪酸アミド等を被着するもの
(例えば特公昭56−30609号公報)は、数多く試
みられている。しかしながら上記した例では、使用環境
条件の拡大、合金系磁気ヘッドに対する実用性の要求の
高度化に対処しきれないことから、組み合わせによる改
善が検討されていて、脂肪酸金属塩の吸着層上にフルオ
ロカーボン系の潤滑層を設けたもの(特開昭61=12
0331号公報)、硬質カーボン層の上に含フツ素潤滑
油層を配したもの(特開昭61−126627号公報)
、5i−N−0系薄膜上に潤滑層を形成したもの(特開
昭61−131231号公報)等があげられる。
(例えば特公昭56−30609号公報)は、数多く試
みられている。しかしながら上記した例では、使用環境
条件の拡大、合金系磁気ヘッドに対する実用性の要求の
高度化に対処しきれないことから、組み合わせによる改
善が検討されていて、脂肪酸金属塩の吸着層上にフルオ
ロカーボン系の潤滑層を設けたもの(特開昭61=12
0331号公報)、硬質カーボン層の上に含フツ素潤滑
油層を配したもの(特開昭61−126627号公報)
、5i−N−0系薄膜上に潤滑層を形成したもの(特開
昭61−131231号公報)等があげられる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、近年急激に需要が増大しているカメラ一
体型のビデオは小型軽量化が進み、使用条件が厳しくな
り、湿度範囲、温度範囲が広がることから、従来知られ
る構成の強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒
体では耐久性が不十分であり改善が望まれていた。
体型のビデオは小型軽量化が進み、使用条件が厳しくな
り、湿度範囲、温度範囲が広がることから、従来知られ
る構成の強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒
体では耐久性が不十分であり改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、耐久性の
特に温湿度の厳しい条件でのスチル耐久性、保存特性の
優れた磁気記録媒体を提供するものである。
特に温湿度の厳しい条件でのスチル耐久性、保存特性の
優れた磁気記録媒体を提供するものである。
課題を解決するだめの手段
上記した課題を解決するため本発明の磁気記録媒体は強
磁性金属薄膜を構成する柱状粒子が重合膜で被覆され、
その上にダイアモンド薄膜を配したものである。
磁性金属薄膜を構成する柱状粒子が重合膜で被覆され、
その上にダイアモンド薄膜を配したものである。
作用
本発明の磁気記録媒体は上記した構成により柱状粒子間
が磁気的に良好な分離状態で構成されることで雑音レベ
ルが大幅に改善されるので、ダイアモンド薄膜を厚くし
てスペーシング損失が増えても高密度記録で十分なC/
Nが確保できるので、耐久性を改善できるのと、上記し
た構成により、ヘッドとの高速摺動での応力が重合膜が
かんしょう剤になり局部集中を防ぐことと、柱状粒子が
重合膜で被覆されることで、高湿中でも磁気特性を担う
部分が保護され、変化しないことからも耐久性の改善、
保存特性の改善がなされる。
が磁気的に良好な分離状態で構成されることで雑音レベ
ルが大幅に改善されるので、ダイアモンド薄膜を厚くし
てスペーシング損失が増えても高密度記録で十分なC/
Nが確保できるので、耐久性を改善できるのと、上記し
た構成により、ヘッドとの高速摺動での応力が重合膜が
かんしょう剤になり局部集中を防ぐことと、柱状粒子が
重合膜で被覆されることで、高湿中でも磁気特性を担う
部分が保護され、変化しないことからも耐久性の改善、
保存特性の改善がなされる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について詳
しく説明する。第1図は本発明の磁気記録媒体の実施例
の一例の拡大断面図である。第1図で6はポリエチレン
テレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエ
ーテルエーテルケント、等の高分子フィルムで、下塗り
層をあらかじめ配したものを用いてもよい。6は強磁性
金属、Go。
しく説明する。第1図は本発明の磁気記録媒体の実施例
の一例の拡大断面図である。第1図で6はポリエチレン
テレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエ
ーテルエーテルケント、等の高分子フィルムで、下塗り
層をあらかじめ配したものを用いてもよい。6は強磁性
金属、Go。
Go−Fe、Co−Ni、Co−0r、Go−Ti、G
o−Ta。
o−Ta。
Go−Mo、Co−Ni−0r、Go−Or−Nb。
Co−Ni−0等の柱状粒子で、7は重合膜で、柱状粒
子の高分子フィルムから遠い側の表面や底面になくても
側面にあればよい。重合膜形成に用いることの出来るモ
ノマーガスは、通常用いられるものであれば如何なるも
のでもよく、例えば02F4. CF、 No 、 C
,、H2F2等のフッ素含有化合物、トリメチルアミン
、ラウリルアミン、エチレンイミン、アミノアセタール
等の有機アミン化合物、トリメトキシシラン、アリルト
リエトキシシラン。
子の高分子フィルムから遠い側の表面や底面になくても
側面にあればよい。重合膜形成に用いることの出来るモ
ノマーガスは、通常用いられるものであれば如何なるも
のでもよく、例えば02F4. CF、 No 、 C
,、H2F2等のフッ素含有化合物、トリメチルアミン
、ラウリルアミン、エチレンイミン、アミノアセタール
等の有機アミン化合物、トリメトキシシラン、アリルト
リエトキシシラン。
オルガノシロキサン等の有機ケイ素化合物、シクロヘキ
サノール、スチレン、アニリン、フェノール等の有機不
飽和化合物等が例示される。重合被膜は、磁気的分離を
改善し、雑音を改善するには20八程度でよいが、耐久
性の向上のためには60八〜160人が好ましい。
サノール、スチレン、アニリン、フェノール等の有機不
飽和化合物等が例示される。重合被膜は、磁気的分離を
改善し、雑音を改善するには20八程度でよいが、耐久
性の向上のためには60八〜160人が好ましい。
上記した構成を得るには例えば、プラズマ重合雰囲気と
蒸発源に差圧を設け、強磁性金属をイオンブレーティン
グするなり、クラスターイオンビーム蒸着する方法があ
る。
蒸発源に差圧を設け、強磁性金属をイオンブレーティン
グするなり、クラスターイオンビーム蒸着する方法があ
る。
8はダイアモンド薄膜で、膜厚は150人までで、薄膜
形成手段は、スパッタリング法、イオンビームデポジシ
ョン法、プラズマ加速法等、例えばエレクトロニク・セ
ラミクス1987.9月号。
形成手段は、スパッタリング法、イオンビームデポジシ
ョン法、プラズマ加速法等、例えばエレクトロニク・セ
ラミクス1987.9月号。
46〜66頁を参照して実施すればよい。尚ここでいう
ダイアモンド薄膜とは、ダイアモンド状の硬質炭素膜も
含んだものでよい。9は脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸
エステル、パーフルオロポリエーテル等の潤滑剤層であ
る。本発明を磁気テープとして実施する場合は高分子フ
ィルムの反対面にバックコート層を配し、磁気ディスク
として実施する場合は、上記した構成を反対側にも同様
に配する等は適宜実施できるものである。
ダイアモンド薄膜とは、ダイアモンド状の硬質炭素膜も
含んだものでよい。9は脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸
エステル、パーフルオロポリエーテル等の潤滑剤層であ
る。本発明を磁気テープとして実施する場合は高分子フ
ィルムの反対面にバックコート層を配し、磁気ディスク
として実施する場合は、上記した構成を反対側にも同様
に配する等は適宜実施できるものである。
以下更に具体的に本発明の実施例について比較例との対
比で詳しく説明する。
比で詳しく説明する。
厚み9μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
、直径160人のTie2微粒子を16ケ/ (/ls
)2配し、その上に直径6Qcrnの円筒キャンに沿
わせて、斜め蒸着を行った。最小入射角66度で、キャ
ン表面から3cm離して高周波コイルを配し、13.6
6(MHz)、560(W)の高周波を投入し、モノマ
ーガスとしてテトラメチルシクロジシラザンを用い、プ
ラズマ重合雰囲気を形成し、Go−Ni(Go:sow
t%)をクラスターイオンビーム蒸着した。重合被膜は
80人で、表面粒径は400人であった。膜厚ば140
0人とした。斜め蒸着にひきつづき同一キャンに沿った
状態で、グラファイトをターゲットにして、Ar−4−
H2グロー放電(ムr−1−H2=0.09TOrr。
、直径160人のTie2微粒子を16ケ/ (/ls
)2配し、その上に直径6Qcrnの円筒キャンに沿
わせて、斜め蒸着を行った。最小入射角66度で、キャ
ン表面から3cm離して高周波コイルを配し、13.6
6(MHz)、560(W)の高周波を投入し、モノマ
ーガスとしてテトラメチルシクロジシラザンを用い、プ
ラズマ重合雰囲気を形成し、Go−Ni(Go:sow
t%)をクラスターイオンビーム蒸着した。重合被膜は
80人で、表面粒径は400人であった。膜厚ば140
0人とした。斜め蒸着にひきつづき同一キャンに沿った
状態で、グラファイトをターゲットにして、Ar−4−
H2グロー放電(ムr−1−H2=0.09TOrr。
ムr:H2=1:3,40MH2,380W)でスパッ
タリングを行って、ダイアモンド状硬質炭素膜を80人
配し、別室の第2の円筒キャン(直径30t7n)に沿
わせて、パーフルオロステアリン酸を60人真空蒸着し
、8ミリ幅の磁気テープに加工した。このテープを人と
し、テープBは、モノマーガスをアセチレンとし重合被
覆60八とした以外はテープ人と同様な製造条件で構成
したもので、テープCは、モノマーガスとしてアニリン
を用い、重合被膜を70人とし、表面側をスパンタエソ
チングにより、重合被膜を除去し、ダイアモンド薄膜を
12020人配以外はテープ人と同じにした。
タリングを行って、ダイアモンド状硬質炭素膜を80人
配し、別室の第2の円筒キャン(直径30t7n)に沿
わせて、パーフルオロステアリン酸を60人真空蒸着し
、8ミリ幅の磁気テープに加工した。このテープを人と
し、テープBは、モノマーガスをアセチレンとし重合被
覆60八とした以外はテープ人と同様な製造条件で構成
したもので、テープCは、モノマーガスとしてアニリン
を用い、重合被膜を70人とし、表面側をスパンタエソ
チングにより、重合被膜を除去し、ダイアモンド薄膜を
12020人配以外はテープ人と同じにした。
比較例は、斜め蒸着を直径1mの円筒キャンに沿わせて
、esXl 0−5(Torr) の酸素中で、最小入
射角46度でGo−Ni(Co:80wt係)を140
0人電子ビーム蒸着し、その上にヘキサメチルシクロト
リシラザンをモノマーガスとして100人のプラズマ重
合膜を配し更にその上に60人のパーフルオロステアリ
ン酸蒸着膜を配したものである。
、esXl 0−5(Torr) の酸素中で、最小入
射角46度でGo−Ni(Co:80wt係)を140
0人電子ビーム蒸着し、その上にヘキサメチルシクロト
リシラザンをモノマーガスとして100人のプラズマ重
合膜を配し更にその上に60人のパーフルオロステアリ
ン酸蒸着膜を配したものである。
これらのテープをスチル特性により比較した。
尚、8ミリビデオをハイバンド仕様に改造して輝度信号
のC/Nを初期に比較した所、比較例をO(dB )と
すると、テープA、B、Cは夫々+2.1 、 +2.
2 、 +3.5 (dB ) と良好であった。
のC/Nを初期に比較した所、比較例をO(dB )と
すると、テープA、B、Cは夫々+2.1 、 +2.
2 、 +3.5 (dB ) と良好であった。
スチル特性は出力が1.5(dB)低下するまでの時間
で示した。条件と結果について表にまとめて示した。
で示した。条件と結果について表にまとめて示した。
(以下 余 白)
発明の効果
以上のように本発明によれば、優れた高密度記録特性を
もちながら、耐久性、保存特性も良好であるといったす
ぐれた磁気記録媒体が得られるといったすぐれた効果が
ある。
もちながら、耐久性、保存特性も良好であるといったす
ぐれた磁気記録媒体が得られるといったすぐれた効果が
ある。
第1図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の拡大断面図
、第2図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図である。 6・・・・・・高分子フィルム、6・・・・・・強磁性
金属柱状粒子、7・・・・・重合被膜、8・・・・・・
ダイアモンド薄膜。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名名1
図 渠2図 −m− 6−・− 7・−“ 8−・・ !+守子フィルム 5!磁性龜a柱広机子 11合W庸 ジイアモンド溝庸
、第2図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図である。 6・・・・・・高分子フィルム、6・・・・・・強磁性
金属柱状粒子、7・・・・・重合被膜、8・・・・・・
ダイアモンド薄膜。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名名1
図 渠2図 −m− 6−・− 7・−“ 8−・・ !+守子フィルム 5!磁性龜a柱広机子 11合W庸 ジイアモンド溝庸
Claims (1)
- 強磁性金属薄膜を構成する柱状粒子が重合膜で被覆され
、その上にダイアモンド薄膜を配したことを特徴とする
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25512488A JPH02101621A (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25512488A JPH02101621A (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02101621A true JPH02101621A (ja) | 1990-04-13 |
Family
ID=17274424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25512488A Pending JPH02101621A (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02101621A (ja) |
-
1988
- 1988-10-11 JP JP25512488A patent/JPH02101621A/ja active Pending
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