JPS62257147A - 新規な感光性樹脂組成物 - Google Patents

新規な感光性樹脂組成物

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JPS62257147A
JPS62257147A JP61100467A JP10046786A JPS62257147A JP S62257147 A JPS62257147 A JP S62257147A JP 61100467 A JP61100467 A JP 61100467A JP 10046786 A JP10046786 A JP 10046786A JP S62257147 A JPS62257147 A JP S62257147A
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肇 芹澤
Koichi Kojima
小島 貢一
Sei Shimizu
清水 瀞
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/008Azides
    • G03F7/012Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、新規な感光性樹脂組成物に関し、更に詳しく
は光に対して著しく感受性が高く水で現像可能な感光性
樹脂組成物に関する。
従来技術及びその問題点 現在、ネガ型の感光性樹脂として公知の高分子vA質と
しては、例えばイーストマン・コダック社に1952年
に付与された米国特許第2610120号の明細式にf
ul示されているケイ皮酸ビニルの重合から得られるポ
リケイ皮酸ビニルが有名である。
しかしながら、従来法による、この感光性64脂は単i
t体の合成中に一部重合を起すなどの副反応を生じ、そ
の単離、精製が複雑となること、さらには活性部位が不
必要に多くなることから、光硬化後のl1llfiが、
かたくかつもろくなることなど、不都合な点があり、又
現像も、右n溶媒で行うなど工業的に不利であった。
以上の点を改良するためにポリビニルアルコール樹脂を
支持体とし、これに、ケイ皮酸塩化物を反応させて得た
感光性樹脂が合成され市販されている。
しかしながら、この′@脂についても、現像時における
溶媒の問題などに不満な点がある。
たとえばポリケイ皮酸ビニルに代表されるフォトレジス
トでは現像液に有機溶剤が使用されているが、作業環境
の安全性の問題から水系の現像液が望まれている。
これにこたえてアルカリ水溶液や望ましくは水に溶解す
る様に改質する方法が試みられている。
この改質法の例として、カルボキシル基の導入[コダッ
ク社、米国特許第2861058号明細S!3 (19
58年)]、フェノール性氷水枯の導入[富士薬品工業
(a)、特公昭49−44601号公報]、スルホン基
の導入しユニチカ(株)、特開[lrl 48 552
82 n公報]ナトカアルが、改質のために1工程を要
し、装造操作が複雑になリ、また製品も高価になるとい
う欠点がある。
上述の感光性樹脂は、いずれも分子中に不飽和な官能基
を右しており、これらが光照射を受けて、分子間で反応
し、架橋することによって不溶化する性質を利用したも
のである。
一方、互いに光により反応を生じ易い2種類の物質の系
からなる感光性樹脂についての報告も多くなされている
。例えば4.4′−ジアジドベンゾフェノン、4.4′
−ジアジドジフェニルメタン、又は4.4′−ジアジド
スチルベンと、天然ゴム、合成ゴム又はこれらを環化さ
せた環化ゴムとを混合し、光照射により硬化させること
が、米国特許第2852379号明I3に開9されてい
る。
さらに古くは、4,4′〜ジアジトスデルベン−2,2
’ −ジスルホン酸ナトリウムまたは1゜5−ジアジド
ナフタレン−3,7−ジスルホン酸ナトリウムの様な水
溶性のビスアジド化合物と水溶性の高分子物質との混合
物を光照射により硬化させることがドイツ特許第514
057@引I書に開示されている。
しかしながら、これらの組合せによる物質は感光性樹脂
として利用する場合、水で現像出来ないという欠点を生
じているか(前者のもの)、或は水で現像出来たとして
も造膜性が不良であるか、光硬化物のガラス、木および
金属に対する接着性が不良であるなど不備な点が多く存
在している。
従って本発明の目的は、上述の従来の感光性樹脂の欠点
を解消した新規な感光性樹脂組成物を記供することにあ
る。
問題点解決のための手段 本発明者らはこの目的を達成するために数多くの研究の
結束、下記一般式(I)によって表わされる樹脂と、一
般式(rV)によって表わされる4゜4′−ジアジトス
デルベン−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム又はカリ
ウム塩を必須成分とする感光性樹脂組成物および該感光
性樹脂組成物に更に下記一般式(V)によって表わされ
る芳香族ケトン類を必須成分として加えた感光性81脂
組成物が上述の従来の感光性vt4脂組成物の欠点を解
消し、光に対して著るしく感受性が高く、かつ水で現像
可能であることを見い出し、本発明を完成させた。
一般式(I) OH−OH (式中、Xは、存在しないが、又は存在する場合には有
i酸を示し、Yは式(I[)又は(III)−OCI−
1,、CH=CH2・・・(I)によって表わされる炭
素・炭素二重結合含有基を示し、nは10以上の整数を
示し、jは0<j<1を満足する数を示し、tはO又は
1の整数を示す〕 一般式KV) S037S037 (IV) 〔式中、Zはナトリムラム原子またはカリウム原子を示
す〕 一般式(V) 〔式中Gは、水素原子又は一般式(Vl)(但し、Uは
0.1又は2の整数を示す)によって表わされるアミノ
基あるいはジアルキルアミノ基を表わす〕 なお、一般式〔1]の樹脂、一般式(IV )のジアジ
ドスチルベンジスルホンHj’=−一般式(V)の芳香
族ケトン類を以下において必負に応じて成分1、成分2
、成分3とそれぞれ呼称する。
本発明の組成物の各成分について詳細に説明する。
成分1である上述の一般式CI)の樹脂は、アリルアミ
ンホしポリマー、ごニルアミンホモポリマー又はアリル
アミン・ビニルアミンコポリマーに一般式(Vl ) 凸 〔式中、Yは前述の如く、式(n)又は(I[[)−C
I(2G)(=C)(2・・・(I[)によって表わさ
れる炭素・炭素二重結合含有基を示す) によって表わされるエポキシ基含有アリル化合物を反応
させて1りられるものであり、その製造方法は、本出願
人により昭和61年4月28日に出願された’48 ’
A昭61        ’Rm wAS ()11i
’d昭         号公報)に詳細に説明されて
いる。本発明において、感光性樹脂の造膜性、光硬化後
の塗膜の柔軟性およびガラス、木および金属に対する接
着性を左右する部分は、主に成分1の一般式(I)で示
される樹脂に起因16所が大きい。
しかしながら、成分1を単独で、ガラス板上に塗布し光
照射を行っても硬化に至るまでに、茗しく長い時間を要
すること及び硬化した塗膜の水および有機溶媒に対する
耐性の点で満足とは云えない。これを改良するには、成
分1の一般式CI)で示される樹脂が光照射によって架
橋する能力をさらに向上させることが必要である。
ところで、一般に光硬化性樹脂の硬化能を更に高めるに
は、樹脂中に含有されている光硬化能を有する部位の吊
を増加させ、その光硬化性樹脂自身を化学修飾によって
変形させるか、または通常は安定であるが、光の照射を
受けることによってその分子の両末端が活性化され上記
光硬化性樹脂と反応し光硬化能を高める様な他の物質を
添加することにより解決されることが多い。
しかしながら、上記の方法で、ただ無分別に光硬化能の
みを高めると、硬化した樹脂の造膜性は、劣化しく7ら
れた膜が堅くてボロボロになるぼりではなく、種々の素
材(例えばガラス、木、金属など)に対する接着性も不
良になってくることが多い。
本発明者らは上記の相反する性質を克服すべく鋭意研究
を進めた結果成分1の一般式(I)の樹脂に、成分2の
一般式(IV)の物質を添加した系又は成分1の一般式
(I)の樹脂に、成分2の一般式(IV)の物質と成分
3の一般式(V)の物質を添加した系を感光性樹脂組成
物として使用すると、樹脂の造膜性、柔軟性および接着
性を損わず著しく感度および耐薬品性などの性能が改善
されることを発見し本発明を完成した。ところで成分2
の添加Mは、少吊過ぎると効果がなく、また大量に入れ
ると硬化膜の柔軟性や接着性などの物性に悪影響を与え
る。従って、成分2の添加間としては、成分1の樹脂に
対し、0.1重量%〜30重り%が適量であるが、好ま
しくは、2重量%〜15申m%で充分と云える。
上述のように、成分1及び成分2からなる感光性樹脂組
成物は、これだけで、一般の使用に耐える性能を持って
いる。
しかしながら加熱を極端に嫌い、かつ生産性の点から光
照射時間を出来る限り短縮させたい様な用途にこの樹脂
を利用する場合、例えば電子材料分野における各種の封
止剤などに利用するため、光感受性のみを更に、高める
必要が生じた場合には、成分3の一般式(V)に示され
る芳香族ケ1〜ン類を少量添加することによりその目的
を達成することが4来る。
ところで感光性樹脂の光感受性を高める一般的な方法の
一つとしてケトン類、芳香族キノン類などの、いわゆる
光増感剤として知られている物!1を添加することは公
知の事である。しかしながら、この場合、感光性樹脂の
種類によって光増感剤の性能が著しく異なって来るので
一義的に)ホベることは出来ない。この為、最適なIf
!]感剤の探索を進めた結果本発明の成分1および成分
2の感光性樹脂組成においては、ケトン類が有効であり
、その中でも、一般式(V)で表わされる芳香族ケトン
類が申越していることを発見した。
成分3である一般式(V)の芳香族ケトン類の添加Rは
、使用する用途により即ら要求する光感受性により異な
るが、成分2の一般式(IV)で表わされる物質の添加
量に対して、0.1重a%至10重量%、好ましくは1
単品%〜7ff4帛%添加1れば充分である。
発明の効果 かくして得た感光性樹脂組成物を用いて、光硬化させた
樹脂は、柔軟かつ造膜性に優れており、種種の累月に対
して接着性も良好である。さらに、硬化膜は耐水性およ
び耐薬品性にも優れており特に、耐酸性に著しく優れて
いる。従って電子材料分野における例えばICの封止剤
などに利用出来る。また、本発明の組成物により得られ
る硬化膜は透明性に優れているだ【ノではなく、成畦の
染才゛1との親和性に優れ、室温で染色液に浸漬しただ
けで4色させることが出来る。この点を利用して、液晶
テレビ等のheフーrルクー用樹脂として用いることが
出来る。
実施例 以)に、実施例を示すが、本発明は実施例のみに限定さ
れるものではない。
実施例1 下記の化学構造で示される樹脂Cl−1)を成分1とし
て使用した。
Cl−1−01−1 0−C)−12CH=CH2 樹脂(I−1)をメチルセロソルブに溶解し、成分2と
して4.4′−ジアジドスチルベン−2゜2′−ジスル
ホン酸ナトリウム及び成分3としてミヒラーケトン(一
般式(V)において一般式(Vl )のりが1のもの)
を以下の割合に混合した溶液を調装し感光性樹脂組成物
とした。
樹脂Cl−1)        10.00gメチルセ
ロソルブ      90.00g4.41−ジアジド
スチル ベン−2,2′−ジスルホ ン酸ナトリウム        1.00gミヒラーケ
トン        0.043この溶液をミカサ製作
所製スピンナーを用いて1500回転/分でガラス基板
上にスピンコードし、その後、70℃で20分間乾燥し
た。
このガラス基板上に塗布、乾燥した皮膜の厚さは約1μ
mであった。
次に、このガラス基板の皮膜上にフォトマスクを乗せ、
光源としてウシオ電機¥J 250 W亀高圧水銀ラン
プを使用して照射強度10.5W/Cm2で5秒間露光
した。
引き続き水中に20℃で4分間浸漬して現像を行ない、
次にスピンナーを用いて3000回転/分で1分間回転
させて現像液である水を撮り切った。
その後、100℃で1時間空気中で熱処理し、酸性染F
l(アリザリン プリル スカル ブル−RLW)の5
%メタノール溶液中で室温で30分間浸漬することによ
り染色した後メタノールで洗浄して、室温で乾燥すると
露光部が濃青色に着色した鮮明な像が得られた。
実施例2 成分1として、下記の化学構造で示される樹脂Cl−2
)、Cl−3)、(I−4)を実施例1に示した樹脂(
I−1)の代りに用いた以外は全て実施例1と同一の条
件で成分2および成分3を混合して溶″fl調製したあ
と、ガラス板上に塗布、乾燥、露光、熱処理、染色を行
なった。
CD、2 I CI−1−0ト1 0−CI−12CH=CH,。
樹脂(I−2)  j=0.46 樹脂(I−3)  j=0.37 樹脂 (I−4)   j=0.26 その結果、樹脂Cl−2)、(I−3)、(I−4)を
使用した系について、いづれも露光部が濃青色に着色し
た鮮明な像が得られた。
実施例3 実fMVA1で使用した樹脂(I−1)(成分1)をメ
チルセロソルブに溶解して10重恐%の溶液を作り、こ
の溶液に成分2として4,4′−ジアジドスチルベン−
2,2′−ジスルホン酸ナトリウム(添加剤A)の吊を
変えて加え、ざらにミヒラーケトンを4.4′−ジアジ
ドスチルベン−2゜2′−ジスルホン酸ナトウリムに対
して4重但%ffi添加して溶液調製を行なった。
露光時間を変えた以外は実施例1と全て同(ヱな条件で
塗布、乾燥、露光、熱処理、染色を行ない、濃青色に着
色した鮮明な露光部の像が得られる最低露光時間を求め
た。
その結果を表1に示す。
表1 実施例4 実施例1で用いた樹脂(I−1)(成分1)をメチルセ
ロソルブに溶解して10i[%の溶液を作り、この溶液
に成分2として4.4′−ジアジドスチルベン−2,2
′ −ジスルホン酸ナトリウム(添加剤A)を樹脂Cl
−13に対して10重川用聞加え、さらに成分3として
ミヒラーケトンを串を変えて添加して溶液調製を行なっ
た。
露光時間を変えた以外は、実施例1と全て同様な条件で
塗布、乾燥、露光、熱処理、染色を行ない、濃青色に着
色したThT明な露光部の象が得られる最低露光時間を
求めた。
その結果を表2に示す。
表2 実施例5 成分3としてミヒラーケトンの代りにベンゾフェノンを
用いた以外は、実施例4と全て同一な条件で行ない、濃
青色に着色した鮮明な露光部の像が得られる最低露光時
間を求めた。
その結果を表3に示″g。
表3 実施例6 成分1として、下記の化学構造で示される樹脂(I−5
)を使用した。
Nl(NH2 CH−01−1 樹脂(I−5)をメチルセロソルブに溶解して10重量
%溶液を作り、下記の組成で成分2として4,4′−ジ
アジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム
(添加剤A)及び成分3としてミヒラーケトンを加えて
溶液を調製して感光性樹脂組成物とした。
樹脂(I−5)        10.00gメチルセ
ロソルブ      90.00g4.4′−ジアジド
スチル ベン−2,2′−ジスルホ ン酸ナトリウム        1.0(1ミヒラーケ
トン        0.049このSgI製した溶液
を用いて、実施例1と全く同様な条件で塗布、乾燥、露
光、熱処理、染色を行なうと露光部が濃青色に着色した
鮮明な像が得られた。
実施例7 成分1として実施例6で用いた樹ff1(I−5)をメ
チルセロソルブに溶解して10重量%溶液を作った。
この溶液に成分2として4.4′−ジアジドスチルベン
−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム(添加剤A)を吊
を変えて加え、さらに成分3としてミヒラーケトンを添
加剤Aに対して4重ぷ%M添加して溶液をvA製した。
又、上述の樹脂Cl−5)の10重M%メチルセロソル
ブ溶液に添加剤Aを樹脂(I−5)に対して10t1i
吊%加え、次に宿を変えてミヒラーケトンを添加した溶
液も調製した。I製したこれらの溶液を用いて、露光時
間を変えた以外は、実施例1と全く同じ条件で塗布、乾
燥、露光、染色を行ない、濃青色に着色した鮮明な露光
部の像が得られる露光時間を求めた。
その結果を表4と表5に示す。
表 4 添加剤への格を変えて加えた系の最低露光時間
表5 ミヒラーケトンの呈を変えて加えた系の最低露光
時間実施例8 成分1として実施例6で用いた樹脂(I−5)をメチル
セロソルブに溶解して10唄最%の溶液を作り、この溶
液に成分2として4.4′−ジアジドスチルベン−2,
2′−ジスルホン酸すl−リウム(添加剤Δ)を樹脂C
l−5)に対して10重済%闇加え、ざらにMを変えて
ベンゾフェノンを成分3として添加して溶液を11した
露光時間を変えた以外は、実施VIU1と全く同じ条件
で塗布、乾燥、露光、現像、染色を行なった。
濃青色に着色した鮮明な露光部の保が得られる露光時間
の結果を表6に示す。
表6 実施例9 成分1として実施例1で用いたvi4ffi(I−1)
及び実施例6で用いた樹脂Cl−5)をメチルセロソル
ブに溶解して10重槌%の溶液をそれぞれ作り、成分2
として4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジス
ルホン酸ナトリウム(添加剤A)の砧を変えて添加して
感光性樹脂溶液を調製した。 露光時間を変えた以外は
、実施例1と全く同じ条件で塗布、乾燥、露光、熱処理
、染色を行なって、濃青色に着色した鮮明な露光部の像
が得られる最低露光時間を求めた。
その結果を表7と表8に示す。
表 7 樹脂(I−1)を使用した系の最低露光時間表
 8 樹脂(I−5)を使用した系の最低露光時間実施
例10 成分1として下記の化学構造で示される樹脂Cl−6)
を使用した。
HOH ■ 樹脂(I−6)をスチルセロソルブに溶解し、成分2と
して4.4′−ジアジドスチルベン−2゜2′−ジスル
ホン酸ナトリウム(添加剤A)を添加して次に示す組成
の感光性f11脂溶液に)を調製した。
溶液に)の組成 樹脂Cl−6)         10.009メチル
セロソルブ      90.00g4.4′−ジアジ
ペン−2,2′−ジスル ン酸ナトリウム 又、上記溶液いに成分3としてミヒラー添加した溶液(
ハ)ちS!!製した。溶液(へ)の組成を以。
に示す。
溶液峙の組成 v74脂(I−6)         10.00gメ
チルセOセルソルブ    90.00p4.4′−ジ
アジドスチル ベン−2,2′ −ジスルホ   1.oogン酸ナト
リウム ミヒラーケトン        0.049実施例1と
同じ条件で溶液い及び(へ)を用いてそれぞれ塗布、乾
燥、露光、熱処理、染色を行なった。
溶液ωを使用した場合及び溶液(へ)を使用した場合と
も、露光部が青く着色した鮮明な像が得られた。
実施例11 実施例1〜10に於いて得られた鮮明な露光部の像が形
成されているガラス基板を重クロム酸カリウム−硫酸混
合液、水、メタノールに浸漬して、光硬化皮膜のill
離状τぶを肉眼で観察した。
ここで用いた試料は全て同じ結果を示した。その結果を
表9に示す。
表9 0:剥離しない。
×:剥離又は膨潤する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 〔式中、Xは、存在しないか、又は存在する場合には有
    機酸を示し、Yは式〔II〕又は〔III〕−OCH_2C
    H=CH_2・・・〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔III〕 によつて表わされる炭素・炭素二重結合含有基を示し、
    nは10以上の整数を示し、jは0<j<1を満足する
    数を示し、tは0又は1の整数を示す〕 によつて表わされる樹脂と、 一般式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔IV〕 〔式中、Zはナトリウム原子またはカリウム原子を示す
    〕 によつて表わされる4,4′−ジアジドスチルベン−2
    ,2′−ジスルホン酸ナトリウム又はカリウム塩と、を
    必須成分として含む、新規な感光性樹脂組成物。
  2. (2)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 〔式中、Xは存在ないか、又は存在する場合には有機酸
    を示し、Yは式〔II〕又は〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼−OCH_2CH=
    CH_2・・・〔II〕▲数式、化学式、表等があります
    ▼・・・〔III〕 によつて表わされる炭素・炭素二重結合含有基を示し、
    nは10以上の整数を示し、jは0<j<1を満足する
    数を示し、tは0または1の整数を示す〕 によつて表わされる樹脂と、 一般式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 〔式中Zはナトウリム原子又はカリウム原子を示す〕 によつて表わされる4,4′−ジアジドスチルベン−2
    ,2′−ジスルホン酸ナトリウム又はカリウム塩と、 一般式〔V〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔V〕 〔式中、Gは水素原子又は一般式〔VI〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔VI〕 (uは0、1又は2の整数を示す) によつて表わされるアミノ基又はジアルキルアミノ基を
    示す〕 によって表わされる芳香族ケトン類と、を必須成分とし
    て含む、新規な感光性樹脂組成物。
JP61100467A 1986-04-30 1986-04-30 新規な感光性樹脂組成物 Granted JPS62257147A (ja)

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JP61100467A JPS62257147A (ja) 1986-04-30 1986-04-30 新規な感光性樹脂組成物
US07/067,942 US4842984A (en) 1986-04-30 1987-06-29 Water soluble photosensitive resin compositions with bisazide compound
EP87109403A EP0297153A1 (en) 1986-04-30 1987-06-30 Novel photosensitive resin compositions

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0353666A3 (en) * 1988-08-03 1990-05-23 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Photosensitive agent,photosensitive resin composition containing same, and method of image formation using the composition
DE19623891A1 (de) * 1996-06-06 1997-12-11 Micro Resist Technology Ges Fu Lichtempfindlicher, wäßrig-alkalisch entwickelbarer, negativ arbeitender Resist
JP4678031B2 (ja) * 2008-01-11 2011-04-27 ソニー株式会社 液晶装置および電子機器

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB763288A (en) * 1954-06-16 1956-12-12 Kodak Ltd Improvements in photo mechanical processes and materials therefor
US3702765A (en) * 1970-10-13 1972-11-14 Eastman Kodak Co Alkali-soluble light sensitive polymers and compositions and processes for using such polymers
JPS51149021A (en) * 1974-12-28 1976-12-21 Fuji Yakuhin Kogyo Kk Water soluble photosensitive resin composition
DE3233912A1 (de) * 1982-09-13 1984-03-15 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotolacke zur ausbildung von reliefstrukturen aus hochwaermebestaendigen polymeren
JPS5953836A (ja) * 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
US4614701A (en) * 1984-09-28 1986-09-30 Sekisui Fine Chemical Co., Ltd. Photocurable diazo or azide composition with acrylic copolymer having hydroxy and amino groups on separate acrylic monomer units
JPS6210104A (ja) * 1985-07-05 1987-01-19 Nitto Boseki Co Ltd 新規な感光性樹脂の製造方法
JPS62256801A (ja) * 1986-04-28 1987-11-09 Nitto Boseki Co Ltd ポリアミン類から誘導される新規な機能性樹脂及びその製造方法

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