JPS60115626A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS60115626A JPS60115626A JP22526383A JP22526383A JPS60115626A JP S60115626 A JPS60115626 A JP S60115626A JP 22526383 A JP22526383 A JP 22526383A JP 22526383 A JP22526383 A JP 22526383A JP S60115626 A JPS60115626 A JP S60115626A
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- JP
- Japan
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- cyclic ether
- photopolymerizable
- ether group
- linear polymer
- composition
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分骨
1
本発明゛ち活性光で重合する感光性樹脂組成物に関する
。
。
従来技術
従来より、高分子材料からなるバインダー、光重合性モ
ノマー及び光重合増感剤などからなる樹脂組成物を基板
上に塗布あるいは被覆させ、陰画等を通して紫外線のよ
うな活性光を照射し、光の当った部分を重合あるいは架
橋させて溶剤に対し不溶化させ、光が当たらない部分を
溶出させることにより、上記画像を基板上に現像できる
ことが知られており、印刷版材やプリント配線板の製造
に利用されている。
ノマー及び光重合増感剤などからなる樹脂組成物を基板
上に塗布あるいは被覆させ、陰画等を通して紫外線のよ
うな活性光を照射し、光の当った部分を重合あるいは架
橋させて溶剤に対し不溶化させ、光が当たらない部分を
溶出させることにより、上記画像を基板上に現像できる
ことが知られており、印刷版材やプリント配線板の製造
に利用されている。
しかし、上記の組成物では得られる画像被膜は耐溶剤性
、耐薬品性、耐熱性および機械的強度が不充分であり、
保護被1漠としての使用範囲は限られている。
、耐薬品性、耐熱性および機械的強度が不充分であり、
保護被1漠としての使用範囲は限られている。
例えば、これらの被膜は中性、弱酸性溶液には耐えるが
、強酸性、アルカリ溶液には耐えられず、従って、エツ
チング、めっき等の処理液の種類が制限される。又、ト
ルエン、トリクレン、メチルエチルケトン等の有機溶剤
には弱く、耐熱性や機械的強度が不充分なため、永久的
な保醸被覆になし得ない。
、強酸性、アルカリ溶液には耐えられず、従って、エツ
チング、めっき等の処理液の種類が制限される。又、ト
ルエン、トリクレン、メチルエチルケトン等の有機溶剤
には弱く、耐熱性や機械的強度が不充分なため、永久的
な保醸被覆になし得ない。
そこで、永久的な保護被覆を形成する目的で、従来エポ
キシ化合物及びその硬化剤を含む系が提案されているが
、これらは室温可使時間が短かく、硬化K IZ温従長
時間要し基板に反りを生じさせたり、金属腐食を起こし
たりする。
キシ化合物及びその硬化剤を含む系が提案されているが
、これらは室温可使時間が短かく、硬化K IZ温従長
時間要し基板に反りを生じさせたり、金属腐食を起こし
たりする。
一方、活性光の露光により三次元硬化反応を行う#ri
flit物も知られている。しかしながら、これらの感
光性#1代物は、一般的には硬化反応を光ビニル重合の
みにめているため、使用しうる材料は限定され、架橋度
が低く高耐熱性用途にit不向きである。
flit物も知られている。しかしながら、これらの感
光性#1代物は、一般的には硬化反応を光ビニル重合の
みにめているため、使用しうる材料は限定され、架橋度
が低く高耐熱性用途にit不向きである。
次に、これらの改良として、特公昭52−43090号
公報、特公昭52−43091号公報、特公昭52−4
3092’に)公報に開示されているような、露光引続
いて加熱処理で硬化する組成物がある。これらは、一般
的には線状高分子化合物、光重合性七ツマ−、エポキシ
樹脂、エポキシ樹脂硬化剤の組合せである。これらの組
成物は、前記したようにエポキシ樹脂を含有するため、
可使時間が短かく、硬化に高温長時間を要し、硬化が不
充分になり易く硬化被膜の物理的、化学的性質が劣る欠
点がある。更に、活性光を露光して精密な画像を形させ
る際、エポキシ樹脂は硬化しないから、画像の解像度が
低下するという大きな間笛がある。
公報、特公昭52−43091号公報、特公昭52−4
3092’に)公報に開示されているような、露光引続
いて加熱処理で硬化する組成物がある。これらは、一般
的には線状高分子化合物、光重合性七ツマ−、エポキシ
樹脂、エポキシ樹脂硬化剤の組合せである。これらの組
成物は、前記したようにエポキシ樹脂を含有するため、
可使時間が短かく、硬化に高温長時間を要し、硬化が不
充分になり易く硬化被膜の物理的、化学的性質が劣る欠
点がある。更に、活性光を露光して精密な画像を形させ
る際、エポキシ樹脂は硬化しないから、画像の解像度が
低下するという大きな間笛がある。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消して、貯蔵の長期安定性
に富み、解像度に優れ、巨つ物理的、化学的性質の良好
な保護被膜を形成しうる感光−性樹脂組成物を提供する
ことを目的とする。
に富み、解像度に優れ、巨つ物理的、化学的性質の良好
な保護被膜を形成しうる感光−性樹脂組成物を提供する
ことを目的とする。
発明の構成
本発明は、側鎖に環状エーテル基を含有する線状高分子
化合物(、)、分子内に環状エーテル基を有する光重合
性モノマー(b)、及び末端エチレン基を平均的に少な
くとも2個有する光重合性不飽和化合物(c)を組み合
せることにより、当初の目的を果17うるとの知見を基
ドしてなされた。
化合物(、)、分子内に環状エーテル基を有する光重合
性モノマー(b)、及び末端エチレン基を平均的に少な
くとも2個有する光重合性不飽和化合物(c)を組み合
せることにより、当初の目的を果17うるとの知見を基
ドしてなされた。
本発明の第1の必須成分は側鎖に環状エーテル基を含有
する線状高分子化合物(、)である。このような線状高
分子化合物(a)は、グリシジルメタクリレートやグリ
シジルアクリレート等のエポキシ基含有アクリル系モノ
マー、オキサシクロブタン原等の四日環を含む重合性モ
ノマー、テトラヒドロフルフリルアクリレートあるいケ
チトラヒドロメタクリレート等の五員環モノマーを用独
もしくはビニル重量体と共重合させることによって容易
に得られる。又、エピクロルヒドリン等エポキシ基含有
化合物を線状高分子に反応させても得られる。適当な線
状高分子化合物(a)の例としては、メチルヌククリレ
ート/グリシジルメタクリレート共重合体、メチルメタ
クリレート/グリシジルメタクリレート/アクニ リルー、トリル共重合体、エチルアクリレート/グリシ
ジルアクリレート/スチレン共重合体、ベンジルメタク
リレート/グリシジルメタクリレート/スチレンIts
重h 体、ビスフェノールA・ジグリシジルエーテル
の部分アクリレート化物の共重合体、メチルメタクリレ
ート/テトラヒドロフル7リルメタクリレート共重合体
、メチルアクリレート/テトラヒドロフルフリルアクリ
レート 分子化合物(a)の使用量は組成物中、10〜90重量
%好ましくけ30〜70重u%である。線状高分子化合
物中の環状エーテル基を含む41量体成分は好適には1
〜70重量%であり、更には5〜40重量%の範囲であ
る。
する線状高分子化合物(、)である。このような線状高
分子化合物(a)は、グリシジルメタクリレートやグリ
シジルアクリレート等のエポキシ基含有アクリル系モノ
マー、オキサシクロブタン原等の四日環を含む重合性モ
ノマー、テトラヒドロフルフリルアクリレートあるいケ
チトラヒドロメタクリレート等の五員環モノマーを用独
もしくはビニル重量体と共重合させることによって容易
に得られる。又、エピクロルヒドリン等エポキシ基含有
化合物を線状高分子に反応させても得られる。適当な線
状高分子化合物(a)の例としては、メチルヌククリレ
ート/グリシジルメタクリレート共重合体、メチルメタ
クリレート/グリシジルメタクリレート/アクニ リルー、トリル共重合体、エチルアクリレート/グリシ
ジルアクリレート/スチレン共重合体、ベンジルメタク
リレート/グリシジルメタクリレート/スチレンIts
重h 体、ビスフェノールA・ジグリシジルエーテル
の部分アクリレート化物の共重合体、メチルメタクリレ
ート/テトラヒドロフル7リルメタクリレート共重合体
、メチルアクリレート/テトラヒドロフルフリルアクリ
レート 分子化合物(a)の使用量は組成物中、10〜90重量
%好ましくけ30〜70重u%である。線状高分子化合
物中の環状エーテル基を含む41量体成分は好適には1
〜70重量%であり、更には5〜40重量%の範囲であ
る。
線状高分子化合物(a)は、皮膜形成高分子として機能
し、本発明の第2の必須成分である、分子内に環状エー
テル基を有する光重合性モノマー(b)と効果的に反応
し、15−0°C程度で非常に短時聞に高分子量化、架
橋化するところに特徴がある。その為、線状高分子化合
物(a)け重rII平均分子量は1万〜50万であり、
好−ましく kJ’ 1 0万〜30万である。低分子
量の線状高分子化合物(a)では、硬化に時間が掛かる
欠点があり、重量平均分子N15075以上の線状高分
子化合物(a)では、硬化が速すぎて制御が困難になり
、その他の取扱いに非常な注意を要するようになる。
し、本発明の第2の必須成分である、分子内に環状エー
テル基を有する光重合性モノマー(b)と効果的に反応
し、15−0°C程度で非常に短時聞に高分子量化、架
橋化するところに特徴がある。その為、線状高分子化合
物(a)け重rII平均分子量は1万〜50万であり、
好−ましく kJ’ 1 0万〜30万である。低分子
量の線状高分子化合物(a)では、硬化に時間が掛かる
欠点があり、重量平均分子N15075以上の線状高分
子化合物(a)では、硬化が速すぎて制御が困難になり
、その他の取扱いに非常な注意を要するようになる。
本発明の第2の必須成分である、分子内に環状エーテル
基を有する光重合性モノマー(1))とじてにt、下記
一般式で示される不飽和化合物や、グリシジルアクリレ
ート、グリシジフレメタクリレート、ビスフェノールA
ジクリシジルエーテルーモノアクリレート等が用いられ
る。そして、その使用量は、lfi成物中5〜5071
i量%であり、好ましくは10〜30重量%である。
基を有する光重合性モノマー(1))とじてにt、下記
一般式で示される不飽和化合物や、グリシジルアクリレ
ート、グリシジフレメタクリレート、ビスフェノールA
ジクリシジルエーテルーモノアクリレート等が用いられ
る。そして、その使用量は、lfi成物中5〜5071
i量%であり、好ましくは10〜30重量%である。
本発明の第3の必須成分は、末端エチレン基を平均的に
少なくとも2個有する光重合性化合物(c)である。平
均的に少なくとも2個とけ、系内に末端エチレン基を1
個しか持たない化合物、末端エチレン基を3個以上持っ
ている化合物があってもよく、全体として平均的に末端
エチレン基が1化合物に少なくとも2個有していること
を意味する。
少なくとも2個有する光重合性化合物(c)である。平
均的に少なくとも2個とけ、系内に末端エチレン基を1
個しか持たない化合物、末端エチレン基を3個以上持っ
ている化合物があってもよく、全体として平均的に末端
エチレン基が1化合物に少なくとも2個有していること
を意味する。
肚不飽和化す物(C)は、増感剤の存在下で活性光の照
射により、活性化されて重合を開始するtB量体を指し
、常圧で100℃以−1−の朗;点を有するものが好ま
しい。尚、不飽和化合物(C)を2〜数種類のものを混
合して用いることけ、組成物の重合反応性、皮膜特性、
硬化被膜の特性を調整するのに有効である。
射により、活性化されて重合を開始するtB量体を指し
、常圧で100℃以−1−の朗;点を有するものが好ま
しい。尚、不飽和化合物(C)を2〜数種類のものを混
合して用いることけ、組成物の重合反応性、皮膜特性、
硬化被膜の特性を調整するのに有効である。
不飽和化合物(c)としては、多価アルコールのアクリ
ル酸エステルもしくOすメタクリル酸エステルが最適で
あり、具体的にけトリエチレングリコール、テトラエチ
レンクリコール、〒−チレングリコール、プロピレング
リコール、トリメチロールプロ、(ン、ペンタエリスリ
トール、ネオペンチルグリコール等のアクリル酸もしく
はメタクリル酸エステルがφげられる。この成分の使用
量は組成物中io〜90重量%であり、好ましくけ15
〜60重量%である。
ル酸エステルもしくOすメタクリル酸エステルが最適で
あり、具体的にけトリエチレングリコール、テトラエチ
レンクリコール、〒−チレングリコール、プロピレング
リコール、トリメチロールプロ、(ン、ペンタエリスリ
トール、ネオペンチルグリコール等のアクリル酸もしく
はメタクリル酸エステルがφげられる。この成分の使用
量は組成物中io〜90重量%であり、好ましくけ15
〜60重量%である。
光重合性不飽和化合物(C)は、前記の分子内に環状エ
ーテル基を有する光重合性モノマー(b)と共に、活性
光の照射により重合し、線状高分子化音物(a)を束ね
て、不溶化しつる。
ーテル基を有する光重合性モノマー(b)と共に、活性
光の照射により重合し、線状高分子化音物(a)を束ね
て、不溶化しつる。
本発明における第4の必須成分である光重合増感剤(d
)は、活性光の照射により前記光重合性モノマー(b)
及び不飽和化合物(c)の重合を開始するものであゆ、
場合によっては主だろ増感剤と、主たる増感剤の作用を
増大する従たる増感剤を絹合わせて用いることがある。
)は、活性光の照射により前記光重合性モノマー(b)
及び不飽和化合物(c)の重合を開始するものであゆ、
場合によっては主だろ増感剤と、主たる増感剤の作用を
増大する従たる増感剤を絹合わせて用いることがある。
該光重合1曽h&剤(c+)は、従来から用いられる増
感剤を使用しうるが、内でもフェニルケトン系のM感剤
が好適であり、具体的にはベンゾフェノン、P、P−ビ
ス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノンく以下ミヒラーケ
トンと称する〉などのP−アミノフェニルケトン、ベン
ツイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾイングチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンジルアンスラキノン、2−メチ
ルアンスラキノン、2−エチルアンスラキノン、2−t
−ブチルアンスラキノン、2−アミノアンスラギノン等
が挙げられる。
感剤を使用しうるが、内でもフェニルケトン系のM感剤
が好適であり、具体的にはベンゾフェノン、P、P−ビ
ス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノンく以下ミヒラーケ
トンと称する〉などのP−アミノフェニルケトン、ベン
ツイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾイングチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンジルアンスラキノン、2−メチ
ルアンスラキノン、2−エチルアンスラキノン、2−t
−ブチルアンスラキノン、2−アミノアンスラギノン等
が挙げられる。
E記の光重合増感剤(d)は、同様の作用を行なう−小
苧 洋暑ル 卑 η1■μ 吋 健 ぶ 囚 h ス
え ハ ル 釦 Aもせて、重合開始効率を数計させ
、露光時間をより短縮させることができる。特にベンゾ
フェノし ンとミ鎧う−ケトンの混合的などが好適である。
苧 洋暑ル 卑 η1■μ 吋 健 ぶ 囚 h ス
え ハ ル 釦 Aもせて、重合開始効率を数計させ
、露光時間をより短縮させることができる。特にベンゾ
フェノし ンとミ鎧う−ケトンの混合的などが好適である。
この成分の使用量は、組成物中a01〜15重吋%であ
り、好ましくけα1〜10重量%である。
り、好ましくけα1〜10重量%である。
本発明の構成成分の一つとして、環状エーテル化合物の
硬化をなしつる潜在硬化剤(e)がある。
硬化をなしつる潜在硬化剤(e)がある。
該潜在硬化剤(e)として具体例を挙げれば、三フッ化
ホウ素モノエチルアミン、三フッ化ホウ素すエチルアミ
ンボラン等のアルキルポラン、7工二レンシアミンー臭
化亜鉛借体、ジシアンジアミドなどであシ、更に好まし
い室温可使時間の長いものとしてp 、 p’−ジアミ
ノジフェニルメタン、p、p’−ジアミノジフェニルス
ルホン酸、2−エチル−4−メチルイミダゾール等が該
当する。該潜在硬化剤の使用けけ組成物中α01〜15
重量%であり、好適にけα1〜10重量%である。
ホウ素モノエチルアミン、三フッ化ホウ素すエチルアミ
ンボラン等のアルキルポラン、7工二レンシアミンー臭
化亜鉛借体、ジシアンジアミドなどであシ、更に好まし
い室温可使時間の長いものとしてp 、 p’−ジアミ
ノジフェニルメタン、p、p’−ジアミノジフェニルス
ルホン酸、2−エチル−4−メチルイミダゾール等が該
当する。該潜在硬化剤の使用けけ組成物中α01〜15
重量%であり、好適にけα1〜10重量%である。
本発明のV&光性樹脂組成物は以上の必須成分に加えて
、種々の目的のために更に副次的な成分を含有せしめる
ことが可能である。
、種々の目的のために更に副次的な成分を含有せしめる
ことが可能である。
即ち貯蔵安宇性改善のための熱重合禁止前、被膜特性数
層のための可塑削、密着改良前、染料、顔料、その他の
充填剤等である。
層のための可塑削、密着改良前、染料、顔料、その他の
充填剤等である。
発明の作用
本発明の感光性樹脂組成物は、通常の感光性樹脂と同様
に感光性を有し、且つ80℃以下では実用上熱的に安定
であり、活性光の照射により光重合を起こし精密な画像
パターンの保護被膜を彩成しうる。更に、150℃程度
の加熱により、線状高分子化合物(、)を中心に高度な
架橋構造を作り、永久的な硬化保護被膜を形成しうる。
に感光性を有し、且つ80℃以下では実用上熱的に安定
であり、活性光の照射により光重合を起こし精密な画像
パターンの保護被膜を彩成しうる。更に、150℃程度
の加熱により、線状高分子化合物(、)を中心に高度な
架橋構造を作り、永久的な硬化保護被膜を形成しうる。
即ち、本発明のE&光性樹脂組成物を通常は3〜60重
+IX%の濃度になるように、メチルエチルケトン、ト
ルエン、メチルセロソルブ、クロロホルム等の有機溶剤
に溶解させて、液を調整し、下記f1)あるいけ(2)
の方法で保護すべき基板上にf&光層を1杉成させる。
+IX%の濃度になるように、メチルエチルケトン、ト
ルエン、メチルセロソルブ、クロロホルム等の有機溶剤
に溶解させて、液を調整し、下記f1)あるいけ(2)
の方法で保護すべき基板上にf&光層を1杉成させる。
(1)組成物を溶解した液を基板上に塗布し乾燥する。
得らねたフィルムを熱ロールを用いて基板に貼合わせる
。この場合、フィルムの感光層に保護フィルムを重ねて
保存することもある。
。この場合、フィルムの感光層に保護フィルムを重ねて
保存することもある。
感光層を形成した基板に対し、ネガマスクを通して紫外
線などの活性光を照射し、露光部を光重合、架橋により
硬化させる。次いで、1,1.1−トリクロルエタン等
を用いて、未露光部を溶出して現像を行なう。こうして
、得られた他的な保護被膜は通常のエツチング、めっき
等の表面変性加工のために耐食膜となるが、更に100
0℃程度で1時間以内の短時間の加熱硬化により、耐熱
性及び機械的強度に優れた永久的保護被膜となる。この
保護被膜はトルエン等の芳香族炭化水素、メチルエチル
ケトン等のケトン溶剤、二塩化メチレン等のノ・ロゲン
化員化水素系の溶剤に侵されず、又、強酸、アルカリ水
溶液にも充分1叶える。従って、はんだ耐熱性に督れた
ソルダーレジスト等の永久的な保護被膜として使用し得
る。尚、加熱硬化に先立って、紫外線などを1〜3 J
/ cJの強さで後露光することにより、更に偏れた
強度を有する尿護被膜をIp fflすることもできる
。
線などの活性光を照射し、露光部を光重合、架橋により
硬化させる。次いで、1,1.1−トリクロルエタン等
を用いて、未露光部を溶出して現像を行なう。こうして
、得られた他的な保護被膜は通常のエツチング、めっき
等の表面変性加工のために耐食膜となるが、更に100
0℃程度で1時間以内の短時間の加熱硬化により、耐熱
性及び機械的強度に優れた永久的保護被膜となる。この
保護被膜はトルエン等の芳香族炭化水素、メチルエチル
ケトン等のケトン溶剤、二塩化メチレン等のノ・ロゲン
化員化水素系の溶剤に侵されず、又、強酸、アルカリ水
溶液にも充分1叶える。従って、はんだ耐熱性に督れた
ソルダーレジスト等の永久的な保護被膜として使用し得
る。尚、加熱硬化に先立って、紫外線などを1〜3 J
/ cJの強さで後露光することにより、更に偏れた
強度を有する尿護被膜をIp fflすることもできる
。
活性光の露光により、光重合増感剤(d)が働き光重合
性モノマー(b)及び光重合性不飽和化金物(c)が重
合し、後露光においては、未反応モノマー(b) 、
(C)が高度に重合反応していく。次いで、加熱によっ
て潜在硬化剤(e)が働き、線状高分子化合物(a)及
び光重合性七ツマ−(b)の環状エーテル基が開環架1
4反応を起こし、線状高分子化合物(、)と光i1(合
性モノマー(b)及び光重合性七ツマ−(b)の重合物
の中で、高度な架橋構造を形成する。1末完killの
感光性樹脂組成物は、従来のエフにキシ樹脂を含む(J
l成物に比べて、可使時間が長く、パターン解像力が艮
く、形成される保護被膜の物理的、化学的性質にも俊れ
ている。
性モノマー(b)及び光重合性不飽和化金物(c)が重
合し、後露光においては、未反応モノマー(b) 、
(C)が高度に重合反応していく。次いで、加熱によっ
て潜在硬化剤(e)が働き、線状高分子化合物(a)及
び光重合性七ツマ−(b)の環状エーテル基が開環架1
4反応を起こし、線状高分子化合物(、)と光i1(合
性モノマー(b)及び光重合性七ツマ−(b)の重合物
の中で、高度な架橋構造を形成する。1末完killの
感光性樹脂組成物は、従来のエフにキシ樹脂を含む(J
l成物に比べて、可使時間が長く、パターン解像力が艮
く、形成される保護被膜の物理的、化学的性質にも俊れ
ている。
これらの理由は明らかでけないが、分子内に環反応を生
じても、エポキシ樹脂のようにt′も分子量化せず、長
く感光性材料として使用しつるものと考えられる。尚、
解像力の向L1保護被膜の物理的化学的特性の優秀さl
−L 、前記したように露光においては光重合性不飽和
化合物(c)に加えて光重合性七ツマ−(b)が重合反
応に寄手し、加熱てよって線状高分子化合物(、)と光
重合性モノマー(1))及び光重合性モノマー(b)の
重合物の中で高度な架橋構造を形成するのが原因と考え
られる。
じても、エポキシ樹脂のようにt′も分子量化せず、長
く感光性材料として使用しつるものと考えられる。尚、
解像力の向L1保護被膜の物理的化学的特性の優秀さl
−L 、前記したように露光においては光重合性不飽和
化合物(c)に加えて光重合性七ツマ−(b)が重合反
応に寄手し、加熱てよって線状高分子化合物(、)と光
重合性モノマー(1))及び光重合性モノマー(b)の
重合物の中で高度な架橋構造を形成するのが原因と考え
られる。
尚、分子内て環状エーテル基を有する光重合性モノマー
(b)の内、3貝環、4員環エーテルよりも5員環エー
テルが常温保存性が向トし、又、線状高分子化合物(、
)の環状エーテル基がエポキシフルであり、光重合性七
ツマ−(b)が5目環エーテルを有するものの組み合わ
せが可使時間が艮く、150℃での硬化速度が最も大き
いことが研究の結果1’l[7らかになった。
(b)の内、3貝環、4員環エーテルよりも5員環エー
テルが常温保存性が向トし、又、線状高分子化合物(、
)の環状エーテル基がエポキシフルであり、光重合性七
ツマ−(b)が5目環エーテルを有するものの組み合わ
せが可使時間が艮く、150℃での硬化速度が最も大き
いことが研究の結果1’l[7らかになった。
本発明の感光性樹脂組成物は、感光性及び形成される保
護被膜の物理的化学的性質が優れているから、感光性接
着剤、感光性塗料、プラスチックレリーフ、印刷版材料
としても用い得る。
護被膜の物理的化学的性質が優れているから、感光性接
着剤、感光性塗料、プラスチックレリーフ、印刷版材料
としても用い得る。
実 施 例
以下に本発明の詳細な説明する。中で部とあるのけ重量
部を音味する。
部を音味する。
〈実施例1〉
メチルメククリレート/グリシジルメククリレート共重
合体(60部対40部) (′Prw=18万) 40
qペンタエリスリトールトリアクリレート 30部テ
トラヒドロフルフリルアクリレート 25部ベンゾフェ
ノン 3部 三フッ化ボク素モノエチルアミン 1部上記の配合で感
光性樹脂組成物を調整し、銅張積層板上に塗布し、室温
で10分、80℃で10分乾燥して50ノ’fflの厚
みのlり光層とした。
合体(60部対40部) (′Prw=18万) 40
qペンタエリスリトールトリアクリレート 30部テ
トラヒドロフルフリルアクリレート 25部ベンゾフェ
ノン 3部 三フッ化ボク素モノエチルアミン 1部上記の配合で感
光性樹脂組成物を調整し、銅張積層板上に塗布し、室温
で10分、80℃で10分乾燥して50ノ’fflの厚
みのlり光層とした。
次に感光層を厚さ25部mの透明なポリエチレンテレフ
タレートフィルムで被覆し、真空枠中でネガマスクを通
して高圧水銀灯から100 mJArlの紫外線を照射
した。ポリエチレンテレフタレートフィルムを釧離し、
1,1.1−)リクロロエタンを90秒間スプレーして
未露光部を溶出し現像を行った。次いで、150°C1
20分間の加熱処理を行なう仁とで、ネガマスクに相応
する精密な像を有する硬化した保護被膜がtIIられた
。解像力は60 fi mであった。
タレートフィルムで被覆し、真空枠中でネガマスクを通
して高圧水銀灯から100 mJArlの紫外線を照射
した。ポリエチレンテレフタレートフィルムを釧離し、
1,1.1−)リクロロエタンを90秒間スプレーして
未露光部を溶出し現像を行った。次いで、150°C1
20分間の加熱処理を行なう仁とで、ネガマスクに相応
する精密な像を有する硬化した保護被膜がtIIられた
。解像力は60 fi mであった。
又、上記配合の組成66寸、40℃2ケ月にも&し光性
及び現像性に何の変化も認められなかった。
及び現像性に何の変化も認められなかった。
この保護被膜はメチルエチルケトン、アセトン、クロロ
ホルム、トリクレン、メタノール、50%硫酸水溶液、
トルエン、キシレン((それぞれ1日間浸漬しても何の
変化もなく、表面抵抗け1014Ωであり、表面エンピ
ッ硬度も6 Hと高く、非常に傷つきにくいことが分っ
た。
ホルム、トリクレン、メタノール、50%硫酸水溶液、
トルエン、キシレン((それぞれ1日間浸漬しても何の
変化もなく、表面抵抗け1014Ωであり、表面エンピ
ッ硬度も6 Hと高く、非常に傷つきにくいことが分っ
た。
更に、260〜270℃のけんだ浴に2分浸漬しても保
護被膜の浮き、剥離は見られず耐熱性は良好であった。
護被膜の浮き、剥離は見られず耐熱性は良好であった。
以上の仁とから、得られた保護被1莫け、エツチング、
めっき、強アルカリ性無電解めっき用レジストとしても
、はんだit熱性が要求されるソルダーレジストとして
充分に使用できろことが分かった。
めっき、強アルカリ性無電解めっき用レジストとしても
、はんだit熱性が要求されるソルダーレジストとして
充分に使用できろことが分かった。
〈実施例2〉
実施例1における、メチルメタクリレート/グリシジル
メタクリレート共重合体の代りK、メチルメタクリレー
ト/テトラヒドロフルフリルメタクリレート共重合体(
80部対20部)(M″w=15万)を、又、テトラヒ
ドロフルフリルアクリレートの代りにグリシジルメタク
リレートを、それぞれ同fil?用して、実施例1と同
様の試駆を行った。
メタクリレート共重合体の代りK、メチルメタクリレー
ト/テトラヒドロフルフリルメタクリレート共重合体(
80部対20部)(M″w=15万)を、又、テトラヒ
ドロフルフリルアクリレートの代りにグリシジルメタク
リレートを、それぞれ同fil?用して、実施例1と同
様の試駆を行った。
40℃の保存性は1ケ月であり、露光現像の解像力は8
0)Lmであった。又、150℃、30分の加熱処OI
!によって、耐溶剤性、はんだ耐熱性が実施例1と同等
の硬化保護被膜が得られた。
0)Lmであった。又、150℃、30分の加熱処OI
!によって、耐溶剤性、はんだ耐熱性が実施例1と同等
の硬化保護被膜が得られた。
〈実施例3〉
実施例1における、メチルメタクリレート/グリシジル
メタクリレート共重合体の代りに、メチルメククリレー
ト/ビスフェノールAジクリシジルエーテルーモノナク
クリレート共重合体(70部対30部)(λ〜=25)
を同!jt用い1実施例1と同様の試験を行った。
メタクリレート共重合体の代りに、メチルメククリレー
ト/ビスフェノールAジクリシジルエーテルーモノナク
クリレート共重合体(70部対30部)(λ〜=25)
を同!jt用い1実施例1と同様の試験を行った。
この感光性樹脂組成物は、40”Cの保存性は6ケ月で
あり、露光現像の解像力は60fimであった。又、1
50℃、10分の加熱処理によって実施例1と同等の硬
化保護被膜が得られた。
あり、露光現像の解像力は60fimであった。又、1
50℃、10分の加熱処理によって実施例1と同等の硬
化保護被膜が得られた。
く比較例〉
メチルメタクリレート/テトラヒドロフルフリルメタク
リレート共重合体(80部対20部) (h(”w =
15 万)40部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 30部エポキ
シ樹脂(チバガイギー社ECN−1280)20部Eフ
ッ化ホク素モノエtルアミン(−)休 2.5部ベンゾ
フェノン 3部 ミヒラーケトン 0.5部 p−メトキシフェノール 0.5部 メチルエチルケトン 200部 実施例2のグリシジルメタクリレートに代えて上記のエ
ポキシ樹脂を使い、上記の配合で感光性樹脂組成物を調
整し、実施例1と同様の試験を行−1た。
リレート共重合体(80部対20部) (h(”w =
15 万)40部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 30部エポキ
シ樹脂(チバガイギー社ECN−1280)20部Eフ
ッ化ホク素モノエtルアミン(−)休 2.5部ベンゾ
フェノン 3部 ミヒラーケトン 0.5部 p−メトキシフェノール 0.5部 メチルエチルケトン 200部 実施例2のグリシジルメタクリレートに代えて上記のエ
ポキシ樹脂を使い、上記の配合で感光性樹脂組成物を調
整し、実施例1と同様の試験を行−1た。
上記、組成物の40℃の可使時間は1週間以内であり、
霧光現像の解像力け1507+mであった。又、150
’C,1時間以上の加熱処理を行なわないと、充分な硬
化保護被膜が得られなく、150″C130分の加熱で
はエンピッ硬度け3Hでa3が吋き易く、表面抵抗は1
012Ωで、260〜270℃のけんだ谷に30秒間浸
漬すると被膜に浮きが見られた。
霧光現像の解像力け1507+mであった。又、150
’C,1時間以上の加熱処理を行なわないと、充分な硬
化保護被膜が得られなく、150″C130分の加熱で
はエンピッ硬度け3Hでa3が吋き易く、表面抵抗は1
012Ωで、260〜270℃のけんだ谷に30秒間浸
漬すると被膜に浮きが見られた。
150”C,2時間の加熱した1易合、硬化被膜物性は
改善されたが、括仮に反りや変形が見られ、生産工程が
長くなり、生産効率が極端に低下した0 発明の効用 以−ヒの様に、本発明感光性樹脂#1′1代物は、貯蔵
安定性に優れ、硬化は比較的低iJでカj時間に充分に
反応が進行し、しかも、耐〆剤性、耐アルカリ性、耐熱
性が良好な保護彼嘆を形成17うる。
改善されたが、括仮に反りや変形が見られ、生産工程が
長くなり、生産効率が極端に低下した0 発明の効用 以−ヒの様に、本発明感光性樹脂#1′1代物は、貯蔵
安定性に優れ、硬化は比較的低iJでカj時間に充分に
反応が進行し、しかも、耐〆剤性、耐アルカリ性、耐熱
性が良好な保護彼嘆を形成17うる。
特IP出順人
積水化学工業株式会化
代表者 I序 沼 基 利
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1(a) 側鎖に環状エーテル基を含有する線状高分゛
子化合物、 (b) 分子内に環状エーテル基を有する光重合性モノ
マー、 (c) 末端エチレン基を平均的に少なくとも2個有す
る光重合性不飽和化合物、 (d) 光重合増感剤、 (e) 環状エーテルの潜在硬化剤、 よりなる又はこれらを主成分とすることを特徴とする感
光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22526383A JPS60115626A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22526383A JPS60115626A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60115626A true JPS60115626A (ja) | 1985-06-22 |
JPS6331496B2 JPS6331496B2 (ja) | 1988-06-24 |
Family
ID=16826571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22526383A Granted JPS60115626A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60115626A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6311930A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-01-19 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 感光性樹脂組成物 |
JPS63218942A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 受像材料および画像形成方法 |
JPH02973A (ja) * | 1988-03-15 | 1990-01-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
JP2011257537A (ja) * | 2010-06-08 | 2011-12-22 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法、及び表示素子 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4025348A (en) * | 1974-05-10 | 1977-05-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin compositions |
-
1983
- 1983-11-28 JP JP22526383A patent/JPS60115626A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4025348A (en) * | 1974-05-10 | 1977-05-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin compositions |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6311930A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-01-19 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 感光性樹脂組成物 |
JPS63218942A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 受像材料および画像形成方法 |
JPH02973A (ja) * | 1988-03-15 | 1990-01-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
JP2011257537A (ja) * | 2010-06-08 | 2011-12-22 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法、及び表示素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6331496B2 (ja) | 1988-06-24 |
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