JPS60103346A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JPS60103346A
JPS60103346A JP21226183A JP21226183A JPS60103346A JP S60103346 A JPS60103346 A JP S60103346A JP 21226183 A JP21226183 A JP 21226183A JP 21226183 A JP21226183 A JP 21226183A JP S60103346 A JPS60103346 A JP S60103346A
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JP
Japan
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photosensitive resin
compound
compd
epoxy
resin composition
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Pending
Application number
JP21226183A
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English (en)
Inventor
Kunio Yanagisawa
柳沢 邦夫
Yasuhiko Araki
泰彦 荒木
Hajime Shiyouhi
初 松扉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は光重合可能か創作形成用感光性柵脂組成物に関
す6゜ (従来技術) 従来より、高分子材料からなるバインダー、光重合性上
ツマ−及び光重合増感剤などからなる樹脂組成物を基板
上に塗布あるいは被覆させ、陰画等を通して紫外線のよ
うな活性光を照射し、光の当った部分を重合あるいけ架
橋させて溶剤に対し不溶剤に対し不溶化させ、光が当た
らない部分を溶出させることにより、上記画像を基板上
に現像できることが知られており、印刷版)Aやプリン
ト配線板の製造に利用されている。
しか17、上記の組成物でVi?Gられる画像被膜は耐
溶〜1性、耐薬品性、耐熱性および機械的強度が不充分
であり、保護被膜としての使用範囲は限らtlている。
例えば、これらの被膜は中性、弱酸性溶液には耐乏、る
が、強酸性、アルカリ溶液には耐えられず、従って、エ
ツチング、めっき等の処理液の種類が制限さ1する。又
、トルエン、トリクレン、メチルエチルクトン等の有機
溶剤VCは弱く、耐熱性や機械的強度が不充分なため、
永久的な保護被膜になし得ない。
又、永久的な保護被Mを形成する目的で、従来エポキシ
化合物及びその硬化剤を含む糸が提案されているh;、
仁れらけ室温可使時間が短かく、硬化に高温長時聞を要
し基板に反りを生じさせたり、金属腐食を起こしたりす
る。−持分IV:l 52−43092号公報、特公昭
52−43091号公報、特公昭56−3539号公報
などでは、永久的な保護被膜を形成する目的で、共重合
体バイングーの中に酸成分を含有させて硬化さ促進させ
ようとしているが、通常の条件では硬化が不充分であり
、はんだ耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ−性に弱く、更
に?容態繰返し特件も充分とけ云えない。
(発明の目的) 本発明は上記従来の欠点を解消して、貯蔵安定性に富み
、短時間の加熱で充分硬化させるこ七ができ、永久的な
保護被膜を形成させるに適した感光性樹脂組成物を提供
することを目的とフ゛ る。
(発明の要旨) 零発りJの要旨社、 (at 末端エチレン基を実質的に少なくとも2個有す
る光重合可能な不飽和化合物、 (b) 光重合増感剤、 (C) 実質的に少なくとも2個のエポキシ基を含むエ
ポキシ化合物 (dl 下記一般式で表わせる化合物を一成分として重
合された線状高分子化合物、 R,0 (R1け水素、メチル、〕・ログンから選′ばれる基、
Rz 、 Rr 、 Rr け脂肪族炭化水素または芳
香族炭化水素で酸素、硫黄、窒素を含むことができる)
エリなる又はこれらを主成分とすることを牛、1徴とす
る感光1j1゛招脂m成物に存する。
(発明の構成) 不発UIKおける不飽和化合物(a)は、末端エチレン
基を実質的に少なく七も2個有する。実質的に少なくと
も2個とけ、系内に末端エチレン3んを1個しか持たガ
い化合物、末端エチレン基を3戸個以」ユ持っている化
合物があってもよく、全体として平均f4)に末端エチ
レン法が1化合物当りに少なくとも2個有しているとと
を意味すふ。
不飽和化合物(a)と1.てけ、多価アルコールのアク
リル酸エステルもしくけメタクリル酸ニスリコール、テ
トラエチレンクリ2− rし、エチレンクリコール、プ
ロピレングリコール、ト1ツメチロールプロ/(ン、ペ
ンタエリスリトーIし、ネオペンチルグリコ−/I/等
のアクリlし酸もしくけメタクリル酸エステルが挙げら
れる。この成分つ使用量は感光性樹脂組成物中10〜9
0重量襲であり、好ましくけ15〜60重量%である、
本発明における増感剤(blは、活性光の照射により前
記不飽和化合物の重合を開始するもσ〕であり、場合に
よっては主たる増感剤と主たるi曽感剤の作用を増大す
る従たる増感剤を組合わせて用いることがある。
該増感剤(blは、従来から用いられる増感剤を使用し
うるが、内でも7エエルケトン系の増感剤が好適であり
、具体的にけベンゾ7y−ノン、p 、 p’−ビス(
ジメチルレア三〕)ベンゾフェノンく以下ミヒラーケト
1ンと称する〉なトI) p −アミノフェニルケトン
、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ペンゾイン
エチ!レエーテIし、ベンゾインブチルエーテル、ペン
ゾインインブuビルエーテル、ベンジル−アンスラキノ
ン、2−メチルアンスラキノン、2−エチルアンスラキ
ノン、2−1−ブチル−アンスラキノン、2−アミノア
ンスラギノン等が挙けられる。
」1記の増感剤(b)は、同様の作用を行なうもので、
活性光の1の収載が異方るものを組合わせて、重合開始
効率を改善させ、露光時間をより短縮させることができ
る。特に、ベンゾフェノン七ミヒラーケトンの混合物な
どが好適である。この成分の使用r八け、感光性樹脂組
成物中0.01〜15W(lIl1%Tア!+、好I 
L< l”tO,1〜107ItIA俤である。
次に、木5A’JI I’ll:おけるエポキシ化合物
((・)け、エボ4゛ジノ、(を実質(r(Jに少なく
とも2個含んでいる、ijr謂エポキシわ1脂のプレポ
リマーが相当する。”J< rl的に少なくとも2個と
け、系内にエポキシJl(ft1個しか持たなh化合物
やエポキシ基を3個以1ユ4、〒っている化合物があっ
てもよく、全体と17て平均(tt VCエポキシ基が
1化合物当たり少なくとも2個含まれていることを意味
する。
エポキシ化合物(c)の具体例としては、例えばエピコ
ート828、エピコート1001、エピコート1004
、エビツー上1007(いずれもシェル社・商品名)、
アラルゲイトECN−1280、アラルゲイトECN−
1273(いすね、もチバガイギー社・商品名)等が挙
げられ、他にグリシジルメタクリレートのビニル共重合
体も使用しつる。これらのエポキシ化合物(clけ重油
あるいけ混合して用いられ、その使用敬は感光件樹脂組
酸物中5〜80重精係であり、好ましくけ5〜50重量
%である。
従来、エポキシ化合物を用いた感光性樹脂組成物におい
て、エポキシ化合物の潜在硬化剤きしては、三フッ化ホ
ウ素モノゴチルアミン、三フッ化ホク素ベンジルアミン
錯体、四フッ化ホウ素酸塩、アジピン酸、ジヒドラジド
、トリエチルアミノポラン、フェニレンジアミン−臭化
亜鉛錯体、ジシアンジアミド等があるが、室温可使時間
が短か過き゛て、保存が不可能である。
室温可使時間の長い潜在硬化剤としてp、p’−ジアミ
ノジフェニルメタン、p、p’−ジアミノジフェニルメ
タン酸、2エチル4エチルイミタゾール等も見出されて
いるが、硬化に高温1.長時間を要するため、基板に反
りを生じたり、加工時間が長びいて好ましくない。
父、に記の従来の潜在硬化剤では、金属表面の基板に拡
散していき、精密電気回路の電気的v1−質に悪影響を
及はすことがあり、プリント配線板の製造Kh向いてい
なかった。
そこで、本発明者は鋭意研究の結果、下記一般式で表わ
せる化合物(d−1)を−成分として重合された線状高
分子化合物(dl を見い出した。
(R+&;i水i、メチル、エチル、ハロゲンから選ば
しるJ、li、R1、Rs 、 R1け脂肪族炭化水素
または芳香族炭化水素で酸素、硫黄、窒素を含むことが
できる。) 上記の線状高分子化合物(d)は、エポキシ化合物の潜
在硬化剤として働き、感光4!1゛樹脂組成物として室
温可使時間が充分長く、適度な温度、短かい時間で硬化
し、永久的々保蒋被膜を形成した場合、優れた耐溶剤性
、耐アルカリ仲、はんだ耐熱性が得られるのである。
上記一般式(Ilの化合物(d−1)け、Rt−R。
の脂肪族炭化水素または芳香族炭化水素が長過ぎると充
分な耐熱性等が得られなくなるFR2〜R11−1メチ
ル基、エチル基が好1しく、ヘキシル基塩が実用的であ
る。
又%R1〜R,の中に酸素原子をエーテル結合、水酸哉
の形で含んでもよく、硫黄や窒素を含んでもよい。Rr
 ” Rtで最も適しているのけ、炭岩−炭素の二重結
合を有する場合である。
これらの理由tri 1ffl確で社ないが、一般式(
11の化合物(d−1)が感光性樹脂組成物中で均一に
分散する適度な極性を持ち、ブリードアクトして基板表
面に悪影響を与えないと考えられる。
又、R1−Ra が二重結合を含む場合、活性光照射で
重合系に取込まれ、分散性及びエポキシ化てけ、1.1
−ジメチル−1−(2−ヒドロキシ−3−ブトキシプロ
ピル)アミン−メタクリルイミド、1.1−ジメチル−
(2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピル)アミン
−メタクリルイミド、1.1−ジメチル−1−(2−ヒ
ドロキシ−3アクリロイルオキシプロピル)アミン−メ
タクリルイミド、1.1−ジメチル1(:)−ヒト「J
キシ−3−メタクリロイルオキシゾロビル)アミン−メ
タクリルイミド等が挙げらノする。
1−記の化合物(d−1)は、常法により重合してオリ
ゴマー化、凸分子量化させるが、好ましく#1他の重合
41モノマーと共重合することにより線状篩分−子化合
物(d)が得られる。化合物(d−1)を単独で■「合
する場合、分子量1000〜2万の範囲になすのが好ま
しく、使用量は感光性樹脂組成物中1〜30重fi%に
するのがよい。
化合物(d−1)と共重合させる、他の重合性モノマー
としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリ
ル酸グチル、スチレン、無水マレイン酸等のもめが使用
できる。これらの重合性モノマーは共重合高分子量化し
た場合、そのま\皮膜形成性パイングーとして使用でき
ること、ポリメチルメタアクリレートのような化合物を
バインダーとして用いた時に、該バインダーと共通のモ
ノマーと化合物(d−1)とを共重合させることにより
、相溶性のよい、ブリードアクトすることのない組成物
にHI3整することができる。
化合物(d−1)と他の重合に1″モノマーを共重合す
る場合には、化合物(d−1)を1〜15重量%の範囲
上し、分子ffiを10〜3o万の範囲するのが好まし
い。この時の線状高分子化合物(d+の使用量は10〜
90重量%好ましくけ30〜60重量%の範囲である。
上記に説明し九線状高分子物(d)は150″C程度で
、10〜30分の短時間で尋速にエポキシ化合物(c)
を硬化させ、優れた耐アルカリ性が得られ、又、耐溶剤
性やけんだ耐熱性が向上する。
又、線状11石分子化合物(d)は、常温での保存性を
顕著に改善し、しかも高温時のエポキシ化合物(C)の
硬化性は良好である。これは線状高分子化合物fdl中
の一般式CI+で表わせる化合物(d−1)部分が、適
度に保持され、常温でエポキシの硬化を抑制していると
思われる。又、線状高分子化合物(d−1)は一般の潜
在硬化剤に見られるような、ブリードアクトによる基板
表面上への例えti: jij、魚釣特性への悪影響が
なく、冷熱繰返しによるノ、(板−レジスト間の界面の
剥離、クラフクを防止する効果が得られる。
本発明の感光性樹脂組成物は以上の必須成分に加えて、
種々の目的のために更に副次的な成分を含有せしめるこ
とが可能である。即ち、貯蔵安定性改善のための熱重合
禁止剤、被膜特性改善のための可塑剤、密着改良剤、染
料、顔刺、その他の充填剤等である。
(発明の作用) 本発明の感光性樹脂組成物は、通常の感光性樹脂と同様
に感光性を有し、活性光の照射にょシ光重合を起こし、
又、80℃以下では熱的に充分安定であり、常法により
永久的な保護被膜を形成しうる。
即ち、本発明の感光性樹脂組成物を通常Fi3〜60重
量%の濃度になるように、メチルエチルケトン、トルエ
ン、メチルセロソルブ、クロロホルム等の有機溶剤に溶
解させて、液を調整し、下記il+あるいけ(2)の方
法で保護すべき基板上VC感光層を形成させる。
(1)感光樹脂組成物を溶解した液を基板上に塗布し乾
燥する。
(2)感光樹脂組成物を溶解した液をポリエチレンテレ
フタレート等のフィルムに塗布し乾燥する。得られたフ
ィルムを熱ロールを用いて基板に貼合わせる。この場合
、フィルムの感光層に保護フィルムを重ねて保存するこ
ともある。
感光層を形成した基板忙対し、ネガマスクを通して紫外
線などの活性光を照射し、露光部を光π(1合、架橋に
より硬化させる。次いで、1 、 i 。
1−トリクロルエタンVを用いて、未露光部を溶剤して
現像を行なう。ζうして−得られた像的な保護被膜は通
常のエツチング、めっき等の表面変性加Iのための耐食
膜となるが、更に、150℃程度で1時間以内の短時聞
の加熱硬化により、耐熱+1゛及び機械的強度に優れた
永久的保護被膜となろ。この保護被膜Vi トルエン等
の芳香族炭化水素、メチルエヲルケトン等のケトン溶剤
、二塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系の溶剤に侵
さtlJ″、父、強酸、アルカリ水溶液にも充分側λ、
る。従って、はんだ耐熱性に優れたソルダーレジスト等
の永久的な保護被膜として使用し名りる。尚、加熱硬化
に先立って、紫外線などを1〜3J/cdの強さで後露
光することにより、優t1.た強度を有する保護被膜を
形成することもできる。
Jl! K 1木発明感光性樹脂組成物は、感光性、化
学的物理的強度優れているから、感光性接着剤、感光性
塗料、プラスチックレリーフ、印刷版材料としても用い
得る。
(実施例) 以下に本発明の詳細な説明する。尚、都々は重量部を意
味する。
〈実施例1〉 メチルメタクリレート/化合物の共重合体(90対10
)(Mw=19万) 40部ペンタエリスリトールトリ
アクリレート 30部エポキシ樹脂(ECN−1280
) 25 fll(ベンゾフェノン 3部 ミヒラークトン 05部 p−メトキシフヱ7ノール 0.5部 来。
化合物 、t、t−ジメチル(2−ヒドロキシ−3−ブ
トキシプロピル)−アミン−メタクリルイミド 上記の配合を、メチルエチルケトン200部に溶解して
感光性樹脂組成物を得た。次りで、仁れを40’Cで保
存性試験をしたところ、6ケ月放置しても、充分な光硬
化性及び熱硬化性を有することを確認した。次に、銅張
積層板」−に塗布″し、室温で10分、80 ℃で1゜
分乾燥して50 /l mの厚みの感光層とした。
次に、感光層を厚さ25μm透明なポリエチレンテレフ
タレートフィルムで被覆し、ネガマスクを通して高圧水
銀灯から100mJ/mの紫外線を照射]7た。ポリエ
チレンテレ7クレートフイルムを’Xll陣し、1,1
.1−トリクロロエタンを90秒間スプレーして未露光
部を69出し現イfを行なった。次いで、150’Cで
20分加熱処理を行なったところ、ネガマスクに相応す
る精密な像を有する保護被膜が得られた。
この保護被膜t、tメチルエチルケトン、アセトン、ク
ロロホルム、トリクレン、メタノール、50チ硫酸水溶
液、トルエン、キシレンにそれぞすL1日間浸漬しても
何の変化もなく、更に、70℃でp H12の水酸化ナ
トリウム水溶液VC113間浸漬しても、何ら異常が認
められなかった。
又、60分間隔で一65℃と125℃の冷却加熱を繰返
し、更VC260〜270T:のけんだ浴IC2時間浸
漬しても変化がなかった。
以上のことから、得らtl、た保護被膜は、エツチング
、めっき、強アルカリ性無電解めっき用レジストと17
でも、はんだ耐熱性が要求されるソルダーレジストとし
ても充分VC使用できることが分かった。尚、保護被膜
を形成した基板は70℃で1ケ月放置しても、ブリード
アクトや金属の腐食は見らtlながった。
〈実施例2〉 メチルメタクリレート/化合物林の共重合体(90対1
0)(篇=21万) 60部ペンクエリスリトールトリ
アクリレート 30部エポキシ樹脂(エピコート828
) 25部ベンゾフェノン 3部 ミヒラークトン 0.5部 p−メトキシフェノール α5部 メチルエチルケトン 200部 上記配合で得た感光性樹脂組成物を25μmの厚みのポ
リエチレンテレ7クレート上に塗布乾燥し7.50 f
i mの厚みの感光層を形成した。I’i’f浄処理し
た銅板上vcPIV口iルを用いて加圧積層した。
そして、実施例1の方法に準じて露光、現像を行ない、
15f1℃10分同の加熱処理を行ない、実施例1と同
様の試験で同等の結果を付・た。又、ポリエチレンテレ
フタレートフィルムに塗布乾燥した感光層は40℃で6
ケ月保存しても、使用には全く差支えなかった。
〈実施例3〉 化イン物0(実施例2に同じ)のオリゴマー(Mw =
5000 ) 10部 メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(96対
4)(Mw=11万) 60部 エポキシ樹脂(ECN−1273) 25部ベンゾイン
イソプロピルエーテル 3部p−メトキシフェノール 
α5部 フタロシアニンブルー 0.05部 メチルエチルケトン 200部 上記の配合で感光性樹脂組成物を得、実施例2と同様に
して感光層を調整し、光硬化、加熱硬化して保護被膜を
得た。但し、加熱硬化は150℃5分に痘縮した。
このテストで基板の熱変形や変成は認められず、硬化し
た保護被膜の耐薬品ケ11、耐溶剤性、耐熱性等は実施
例2と同様に良好であった。
〈実施例4〉 メチルメタクリレート/メタクリル酸/1゜l−ジメチ
ル−1−(−2ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシ
プロピル)−アミンーメタクリルイミド(90対2対8
 ) (Mw=25万)を60部用いた以外は実施例2
と同様に感光層を形成し、140℃、5分間の加熱硬化
以外は実施例2と同様にして硬化した保護被膜を得た。
基板の状態保護被膜の特性は実施例3と同様であった。
く比較例〉 メチルメタクリレート/グリシジルメタクリレート共重
合体(60文IJ40)(Mw=21万) 60部ペン
タエリスリトールトリアクリレート 30部ペンゾフヱ
ノン 3部 ミヒラークトン 0.5部 p−メトi°ジフェノール 0.5部 メチルエチルケトン 200部 及び硬化剤としてジシアンジアミド2部を添加し、+!
7施例1と同様にテストを行った。
150℃、10分では充分な硬化被膜が得ら11ず、i
li+溶剤性、耐熱性とも殆んどなかった。
次いで、15 (1’C12時間加熱硬化したものは、
各種の有機溶剤に数10分の耐性が得らjたが、冷熱繰
返しテストで#′i5回以内でクラックを生じ、未照射
、未硬化の感光層?:40℃で保存したところ、僅か1
週間で硬化が認めら灯、可使■4同が短かいことを砕認
した。
以上の様に、不発1夕1感光性al脂組成物は、貯蔵安
定ヤIVc優t1、li+11化の除は比較的低温で短
時間に充分に反応がjl!−行し、しかも耐溶剤性、耐
アルカIJ 4’l、耐熱+1が良好な保護被膜を形成
しうる。
特許出頭人 積水化学工架株式会社 代表者 藤 沼 基 利

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L (a) 末端エチ1ノン基ft、実質的に少なくと
    も2個有する光重合百[能な不飽和化合物、 (1〕) 光重合増感剤、 (c) 実質的に少なくとも2個のエポキシ爪を含むエ
    ボ片シ化合物、 (d) 下記一般式で表わせる化合物を一成分として重
    合さitた線状高分子化合物、 (R1け水素、メチル、エチル、ハロゲンから選ばれる
    ^(、R1、Rs 、 Rt け脂肪族炭化水素また&
    :【芳香族炭化水素で酸素、硫黄、窒素を含むことがで
    きる)よりなる又はこれらを主成分々することを特徴と
    する感光性樹脂組成物。 2、一般式(I)の化合物において、Rw 、 Rs 
    、 Rt が炭素数1〜6の脂肪族炭化水素であって酸
    素を含むことができるものである第1項記載の感光性樹
    脂組成物。 34 一般式(Ilの化合物においで、Rt 、 Rs
     、 Rt が炭素−炭素の二重結合を有するものであ
    る第2項記載の感光性樹脂組成物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6125139A (ja) * 1984-07-13 1986-02-04 Sekisui Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4847321A (ja) * 1971-10-15 1973-07-05
JPS4978534A (ja) * 1972-11-29 1974-07-29
JPS509035A (ja) * 1973-05-31 1975-01-30
JPS5243092A (en) * 1975-10-01 1977-04-04 Hitachi Ltd Nuclear reactor
JPS5550050A (en) * 1978-10-07 1980-04-11 Daikin Ind Ltd Blend composition for coclosslinking of new fluoroelastomer

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4847321A (ja) * 1971-10-15 1973-07-05
JPS4978534A (ja) * 1972-11-29 1974-07-29
JPS509035A (ja) * 1973-05-31 1975-01-30
JPS5243092A (en) * 1975-10-01 1977-04-04 Hitachi Ltd Nuclear reactor
JPS5550050A (en) * 1978-10-07 1980-04-11 Daikin Ind Ltd Blend composition for coclosslinking of new fluoroelastomer

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6125139A (ja) * 1984-07-13 1986-02-04 Sekisui Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPH0313582B2 (ja) * 1984-07-13 1991-02-22 Sekisui Chemical Co Ltd

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