JPS62234181A - ホログラム作成方法 - Google Patents
ホログラム作成方法Info
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- JPS62234181A JPS62234181A JP6082686A JP6082686A JPS62234181A JP S62234181 A JPS62234181 A JP S62234181A JP 6082686 A JP6082686 A JP 6082686A JP 6082686 A JP6082686 A JP 6082686A JP S62234181 A JPS62234181 A JP S62234181A
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Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は、再生波長(λ2)より短い波長(λ1)を有
する作成波によるホログラムの作成方法において、収束
球面波を第1の球面光学素子と、第2の球面光学素子に
垂直に入射して非点収差の物体波を発生させ(第1、第
2の球面光学素子のうち、少なくとも1つは、シリンド
リカルレンズ)、それにより再生波長(λ2)において
、所望の非点隔差を得ることのできるホログラムの作成
方法を提供するものである。
する作成波によるホログラムの作成方法において、収束
球面波を第1の球面光学素子と、第2の球面光学素子に
垂直に入射して非点収差の物体波を発生させ(第1、第
2の球面光学素子のうち、少なくとも1つは、シリンド
リカルレンズ)、それにより再生波長(λ2)において
、所望の非点隔差を得ることのできるホログラムの作成
方法を提供するものである。
本発明は、再生波長と作成波長の差を考慮して所望の非
点隔差を得ることのできるホログラムの作成方法に関す
る。
点隔差を得ることのできるホログラムの作成方法に関す
る。
半導体レーザは小型、軽量、安価であり、また直接変調
可能のため、レーザプリンタや光ディスり、CD、レー
ザディスクなどで広く用いられている。この時、半導体
レーザからの発散光を平行光に変換する従来のコリメー
トレンズでは、ビームを回折限界まで絞るために収差が
除去されている必要がある。このため、例えば複数枚の
光学ガラスレンズを用いる従来技術(例えば特開昭51
−18557など)があるが、このような方式では複数
枚の光学ガラスレンズが必要であるため、大型で重くな
る上に調整が難しくなるという問題点を有していた。
可能のため、レーザプリンタや光ディスり、CD、レー
ザディスクなどで広く用いられている。この時、半導体
レーザからの発散光を平行光に変換する従来のコリメー
トレンズでは、ビームを回折限界まで絞るために収差が
除去されている必要がある。このため、例えば複数枚の
光学ガラスレンズを用いる従来技術(例えば特開昭51
−18557など)があるが、このような方式では複数
枚の光学ガラスレンズが必要であるため、大型で重くな
る上に調整が難しくなるという問題点を有していた。
一方、ホログラムレンズは原理的に、1枚のホログラム
レンズで任官の波面に変換可能なため、小型、軽量なレ
ンズが作成可能であり、さらに複製も可能であるため半
導体レーザ用のレンズとして注目されている。しかし、
半導体レーザを再生波長とするホログラムを作成する場
合、その作成波長を半導体レーザ光としても、、高効率
のものが得られるホログラム材料は一般にはなく、一般
的なホログラム材料の感度は半導体レーザ光より短い波
長を有する可視域にある。そこで上記短波長レーザ光を
作成波として、半導体レーザ光を再生波とするホログラ
ムを作成する方法が従来技術としである。今、第6図(
alに示すように半導体レーザからの波長λ2の発散波
62が無収差となり、その回折角がθ。となるホログラ
ムレンズ61を、第6図(b)に示すようにλ2より短
い波長λ1の平行レーザ光64で再生すると仮定する。
レンズで任官の波面に変換可能なため、小型、軽量なレ
ンズが作成可能であり、さらに複製も可能であるため半
導体レーザ用のレンズとして注目されている。しかし、
半導体レーザを再生波長とするホログラムを作成する場
合、その作成波長を半導体レーザ光としても、、高効率
のものが得られるホログラム材料は一般にはなく、一般
的なホログラム材料の感度は半導体レーザ光より短い波
長を有する可視域にある。そこで上記短波長レーザ光を
作成波として、半導体レーザ光を再生波とするホログラ
ムを作成する方法が従来技術としである。今、第6図(
alに示すように半導体レーザからの波長λ2の発散波
62が無収差となり、その回折角がθ。となるホログラ
ムレンズ61を、第6図(b)に示すようにλ2より短
い波長λ1の平行レーザ光64で再生すると仮定する。
平行レーザ光64の入射角θ。を
θc = 5in−’ (”−・sinθR) ・
・−(1)丸2 となるようにした時に、回折波65は、正の球面収差波
となる。従って、回折波65と同様の波長λIの正の球
面収差波と、同じく波長λlで入射角θ。のレーザ光6
4と同様の平行光を作成波としてホログラム61を作成
すれば、同図(81のように波長λ2の半導体レーザ光
で無収差となるホログラムを作成することができる。上
記作成方法を用いた技術として本出願人は、第7図に示
すように波長λ1の収束球面波72を凸レンズ71に入
射することによって発生する負の球面収差波73を交差
させて正の球面収差波74を発生させ、該収差波74と
入射角θ。の波長λ1の参照波75とをホログラム材料
76上で干渉させてホログラムを作成する方法を特許出
願した(昭和60年3月28日出願)。この方法によれ
ば、収差発生光学系とホログラム作成用材料との間隔を
長くとれるため、多重反射による。ゴースト及びノイズ
が入らず、さらに参照波を容易に入射できるという利点
を有している。また、特開昭60−122982にも、
一方法が出願されている。
・−(1)丸2 となるようにした時に、回折波65は、正の球面収差波
となる。従って、回折波65と同様の波長λIの正の球
面収差波と、同じく波長λlで入射角θ。のレーザ光6
4と同様の平行光を作成波としてホログラム61を作成
すれば、同図(81のように波長λ2の半導体レーザ光
で無収差となるホログラムを作成することができる。上
記作成方法を用いた技術として本出願人は、第7図に示
すように波長λ1の収束球面波72を凸レンズ71に入
射することによって発生する負の球面収差波73を交差
させて正の球面収差波74を発生させ、該収差波74と
入射角θ。の波長λ1の参照波75とをホログラム材料
76上で干渉させてホログラムを作成する方法を特許出
願した(昭和60年3月28日出願)。この方法によれ
ば、収差発生光学系とホログラム作成用材料との間隔を
長くとれるため、多重反射による。ゴースト及びノイズ
が入らず、さらに参照波を容易に入射できるという利点
を有している。また、特開昭60−122982にも、
一方法が出願されている。
上記方法により理論的に無収差のホログラムを得ること
ができるが、実際には半導体レーザ自体に非点隔差とい
う問題が存在する。半導体レーザにおいて光導波が利得
成分により行われると、光エネルギーの伝搬方向と波面
とが直交しない場合がある。半導体素子の接合方向に平
行な導波には、屈折率導波型レーザでも利得成分が多少
混合する。
ができるが、実際には半導体レーザ自体に非点隔差とい
う問題が存在する。半導体レーザにおいて光導波が利得
成分により行われると、光エネルギーの伝搬方向と波面
とが直交しない場合がある。半導体素子の接合方向に平
行な導波には、屈折率導波型レーザでも利得成分が多少
混合する。
この結果、第2図に示すように接合に平行方向24のビ
ームのウェイストがレーザ端面よりΔZだけ内部にあり
、その差が非点隔差となる。ΔZの値は屈折率導波型レ
ーザでは通常10μm以下であるが、利得導波型レーザ
では10〜50μmという大きな値になる。このように
非点隔差のある半導体レーザを使用すると、無収差のホ
ログラムレンズを用いてビームを絞り込んでも、結像倍
率によっては回折限界のスポットが得られない場合が生
じる。
ームのウェイストがレーザ端面よりΔZだけ内部にあり
、その差が非点隔差となる。ΔZの値は屈折率導波型レ
ーザでは通常10μm以下であるが、利得導波型レーザ
では10〜50μmという大きな値になる。このように
非点隔差のある半導体レーザを使用すると、無収差のホ
ログラムレンズを用いてビームを絞り込んでも、結像倍
率によっては回折限界のスポットが得られない場合が生
じる。
上記のような半導体レーザの非点隔差を補正する従来方
法として、円筒レンズを用いる方法(Be1l 5ys
te+m Technical Journal ”
、第58@。
法として、円筒レンズを用いる方法(Be1l 5ys
te+m Technical Journal ”
、第58@。
第9号、 P 、P、1909〜1998.1979年
)、平行ガラス板を斜めに配置する方法(特開昭58−
143443)などがある。しかし、このような従来方
法は、構成部品数が増加し調整箇所が難しくなるという
問題点を有していた。
)、平行ガラス板を斜めに配置する方法(特開昭58−
143443)などがある。しかし、このような従来方
法は、構成部品数が増加し調整箇所が難しくなるという
問題点を有していた。
本発明は上記問題点を除くため、簡単な構成で再生波長
と作成波長の違いと半導体レーザで発生する非点隔差の
影響を同時に除くことのできる球面光学素子を用いたホ
ログラム作成方法を提供することを目的とする。
と作成波長の違いと半導体レーザで発生する非点隔差の
影響を同時に除くことのできる球面光学素子を用いたホ
ログラム作成方法を提供することを目的とする。
本発明は上記問題点を除くために、第1の球面光学素子
と、第2の球面光学素子とを有し、第1、第2の球面光
学素子のうち少なくとも1つはシリンドリカルレンズで
あり、それらを介して非点収差の物体波を発生させホロ
グラムを作成する。
と、第2の球面光学素子とを有し、第1、第2の球面光
学素子のうち少なくとも1つはシリンドリカルレンズで
あり、それらを介して非点収差の物体波を発生させホロ
グラムを作成する。
上記手段において、再生波長(λ2)より短い波長(λ
I)を有する収束球面波を第1の球面光学素子と第2の
球面光学素子(第1.第2の球面光学素子の少な(とも
1つはシリンドリカルレンズ)に入射させることにより
、半導体レーザにおいて発生する非点隔差を、再生波長
(λ2)と作成波長(λ1)の差を考慮して発生する。
I)を有する収束球面波を第1の球面光学素子と第2の
球面光学素子(第1.第2の球面光学素子の少な(とも
1つはシリンドリカルレンズ)に入射させることにより
、半導体レーザにおいて発生する非点隔差を、再生波長
(λ2)と作成波長(λ1)の差を考慮して発生する。
このようにして得られたレーザ光を物体波としてホログ
ラムを作成することにより、再生波長(λ2)より短い
作成波長(λI)を用いて再生波長(λ2)において無
収差となるホログラムを作成でき、さらに半導体レーザ
において発生する特定の導波方向での非点隔差の影響も
同時に除くことができるホログラムを作成できる。
ラムを作成することにより、再生波長(λ2)より短い
作成波長(λI)を用いて再生波長(λ2)において無
収差となるホログラムを作成でき、さらに半導体レーザ
において発生する特定の導波方向での非点隔差の影響も
同時に除くことができるホログラムを作成できる。
以下、本発明の実施例につき詳細に説明を行う。
(本発明の実施例(第1図〜第3図))今、第2図にお
いて半導体レーザダイオードチップ21からの出射光に
非点隔差がある場合、その導波方向は活性層22の接合
方向に平行な方向24であり、活性層端面(点P)から
ΔZ奥の点Qが仮想的な出射点となる。これに対して上
記導波方向に直交する方向23への出射光の出射点は活
性層端面の点Pである。すなわち、点Pと点Qの差ΔZ
が非点隔差となる。従ってこのような半導体レーザを用
いて無収差となるホログラムレンズを作成するためには
、作成時の波長を仮にλ2(半導体レーザ光の波長)と
すると、第3図(a)。
いて半導体レーザダイオードチップ21からの出射光に
非点隔差がある場合、その導波方向は活性層22の接合
方向に平行な方向24であり、活性層端面(点P)から
ΔZ奥の点Qが仮想的な出射点となる。これに対して上
記導波方向に直交する方向23への出射光の出射点は活
性層端面の点Pである。すなわち、点Pと点Qの差ΔZ
が非点隔差となる。従ってこのような半導体レーザを用
いて無収差となるホログラムレンズを作成するためには
、作成時の波長を仮にλ2(半導体レーザ光の波長)と
すると、第3図(a)。
(b)、 (C)に示すように出射方向23より出射方
向24(共に第2図参照)の方が非点隔差量ΔZだけ長
い非点収差波31.31’ (共に出射方向が異なる
同−波)を物体波とし、一方参照波を出射方向23に角
度θ。だけ伊けた平行光32としてホログラム材料13
に記録すればよい。
向24(共に第2図参照)の方が非点隔差量ΔZだけ長
い非点収差波31.31’ (共に出射方向が異なる
同−波)を物体波とし、一方参照波を出射方向23に角
度θ。だけ伊けた平行光32としてホログラム材料13
に記録すればよい。
しかし、一般に半導体レーザ光の波長i2で高効率とな
るホログラム感光材料はないため、波長λ2より短い波
長λ1のレーザ光でホログラムを作成することを考える
。再生波長λ2で第3図に示したような非点隔差を許容
するホログラムを得るためには、第1図(a)、(b)
に示すように、作成波長λ1において再生波長λ2との
差に応じ出射方向24においてΔZに対応する非点隔差
を有する物体波15.15’ (共に出射方向の異な
る同−波)を発生する光学系を用いる。そのため、波長
λ1の収束球面波17.17’ (同一)を球面凸レ
ンズ11に入射させることにより負の球面収差波を発生
させ、それを交差させ正の球面収差として基板14上に
形成されたホログラム材料13上へ導く。一方、シリン
ドリカルレンズ12は同図(b)のように出射方向24
に曲率R′を有するため、出射方向23の物体波15(
同図(a))を出射方向24の物体波15′ (同図中
))とでは、各交差位置からホログラム材料13までの
距離が異なり、これが第3図に対応する非点隔差となる
。このような物体波15.15’に加え、波長λlの平
行光である参照波16を入射角θ。で入射させ、ホログ
ラム材料13に感光させる。この時、作成波長λlで入
射角θ、の参照波16を用いてホログラムを作成した場
合、前記(1)式で説明したように、再生波長λ2で再
生した場合の上記ホログラムによる回折角はθ8となる
。次に、回折角θ。の決定の仕方について説明を行う。
るホログラム感光材料はないため、波長λ2より短い波
長λ1のレーザ光でホログラムを作成することを考える
。再生波長λ2で第3図に示したような非点隔差を許容
するホログラムを得るためには、第1図(a)、(b)
に示すように、作成波長λ1において再生波長λ2との
差に応じ出射方向24においてΔZに対応する非点隔差
を有する物体波15.15’ (共に出射方向の異な
る同−波)を発生する光学系を用いる。そのため、波長
λ1の収束球面波17.17’ (同一)を球面凸レ
ンズ11に入射させることにより負の球面収差波を発生
させ、それを交差させ正の球面収差として基板14上に
形成されたホログラム材料13上へ導く。一方、シリン
ドリカルレンズ12は同図(b)のように出射方向24
に曲率R′を有するため、出射方向23の物体波15(
同図(a))を出射方向24の物体波15′ (同図中
))とでは、各交差位置からホログラム材料13までの
距離が異なり、これが第3図に対応する非点隔差となる
。このような物体波15.15’に加え、波長λlの平
行光である参照波16を入射角θ。で入射させ、ホログ
ラム材料13に感光させる。この時、作成波長λlで入
射角θ、の参照波16を用いてホログラムを作成した場
合、前記(1)式で説明したように、再生波長λ2で再
生した場合の上記ホログラムによる回折角はθ8となる
。次に、回折角θ。の決定の仕方について説明を行う。
今、第2図において、活性層22の端面からの出射方向
23への出射光の出射口は1μmでありその回折角は大
きいが、間じく出射方向24への出射光の出射口は3〜
5μm程度と太き(そのため回折角は小さくなる。
23への出射光の出射口は1μmでありその回折角は大
きいが、間じく出射方向24への出射光の出射口は3〜
5μm程度と太き(そのため回折角は小さくなる。
この結果、出射光の遠視野像25(第2図)は出射方向
23の方が大きく広がり楕円形となる。
23の方が大きく広がり楕円形となる。
しかし、半導体レーザ光をホログラムレンズにより平行
光にしたのちレンズなどで均一な大きさのビームを回折
限界まで絞り込むためには、ビーム形状を真円に補正す
る必要がある。そのため、第3図(a)又はfc)に示
すようにホログラム13による出射方向23は半導体レ
ーザの活性層の垂直方向として、さらに、回折角θ□を
適当な角度に設定することにより、回折平行光32の出
射方向23のビーム径D1′を出射方向24のビーム径
D2(第3図(b))と同じ大きさにすることができ、
真円補正を行うことができる。今、第3図(a)におい
て、出射方向23の回折光32のホログラム13上での
ビーム71D+は、回折角θ8で出射されるとビーム径
D+’に変換される。この時のビーム竪型比M =−
”’は簡単な幾何計算により、1)I M = cos al
・ ・ ・(2)となる。一方、出射方向24の回折
光32は垂直に出射されるためビーム整形比は1である
。そこで、半導体レーザから出射された出射光の各出射
方向23.24のビーム径DI、D2(第3図(a)。
光にしたのちレンズなどで均一な大きさのビームを回折
限界まで絞り込むためには、ビーム形状を真円に補正す
る必要がある。そのため、第3図(a)又はfc)に示
すようにホログラム13による出射方向23は半導体レ
ーザの活性層の垂直方向として、さらに、回折角θ□を
適当な角度に設定することにより、回折平行光32の出
射方向23のビーム径D1′を出射方向24のビーム径
D2(第3図(b))と同じ大きさにすることができ、
真円補正を行うことができる。今、第3図(a)におい
て、出射方向23の回折光32のホログラム13上での
ビーム71D+は、回折角θ8で出射されるとビーム径
D+’に変換される。この時のビーム竪型比M =−
”’は簡単な幾何計算により、1)I M = cos al
・ ・ ・(2)となる。一方、出射方向24の回折
光32は垂直に出射されるためビーム整形比は1である
。そこで、半導体レーザから出射された出射光の各出射
方向23.24のビーム径DI、D2(第3図(a)。
(b)の比が例えばDl:D2=2:1であれば、上記
(2)式よりθ□=60°に設定することによりDl
:Dl ’=2:1、すなわちDI’=D2とすること
ができ、遠視野像33 (第3図(C))を真円にする
ことができる。
(2)式よりθ□=60°に設定することによりDl
:Dl ’=2:1、すなわちDI’=D2とすること
ができ、遠視野像33 (第3図(C))を真円にする
ことができる。
このようにして求まるθ。から前記(1)式を用いて、
第1図における参照波16の入射角θ。が決定され、再
生波長λ2において非点隔差を補正し、且つ真円補正を
行うことのできる回折角θ。を有するホログラムを作成
することができる。
第1図における参照波16の入射角θ。が決定され、再
生波長λ2において非点隔差を補正し、且つ真円補正を
行うことのできる回折角θ。を有するホログラムを作成
することができる。
(本発明により作成されたホログラムの実施例(第4図
)) 次に、第4図(al、 (blに本発明により作成され
たホログラム13を再生波長λ2の半導体レーザ光31
.31’で再生した例を示す。半導体レーザダイオード
41は、半導体レーザダイオードチップ21及びガラス
窓42などにより構成され、半導体レーザダイオードチ
ップ21からの出射光は実際にはガラス窓42で球面収
差を受け、ホログラム13へ入射する。従って、第1図
の実施例でホログラムを作成する場合、この球面収差も
同時に補正するように各設計パラメータが設定される。
)) 次に、第4図(al、 (blに本発明により作成され
たホログラム13を再生波長λ2の半導体レーザ光31
.31’で再生した例を示す。半導体レーザダイオード
41は、半導体レーザダイオードチップ21及びガラス
窓42などにより構成され、半導体レーザダイオードチ
ップ21からの出射光は実際にはガラス窓42で球面収
差を受け、ホログラム13へ入射する。従って、第1図
の実施例でホログラムを作成する場合、この球面収差も
同時に補正するように各設計パラメータが設定される。
(本実施例の設計パラメータ(第1図))次に、第1図
の実施例の具体的な設計パラメータを示す。まず、再生
波長である半導体レーザダイオードチップ21.(第2
図)の発振波長λ22−787nとする。これは一般に
市販されている可視の半導体レーザの平均値である。ま
た、第4図におけるガラス窓42の厚みT 42 =
0.3111111%屈折率Na2=1.5とする。そ
して、同じく半導体レーザダイオードチップ21の非点
隔差を10μmとする。この時、第1図のホログラム作
成光学系において、作成されたホログラムの波面収差が
最小となるように減衰最小自乗法(DLS法)を用いて
、各設計パラメータの最適化を行った。この結果、ホロ
グラム作成波長λ2 = 488nm (Arレーザ)
、球面凸レンズ11の中心厚み’r++=5.51、曲
率R++=26龍、屈折率N + + = 1.739
03、球面凸レンズ11の上面から無収差波18の収束
位置までの距離Z = 32.96 tm、球面凸レン
ズ11とシリンドリカルレンズ12の間隔D=1m、シ
リンドリカルレンズ12の中心厚みTl2−4111%
曲率Rl 2 = 5000m、屈折率N l 2 =
1.522、シリンドリカルレンズ12とホログラム
材料13との距離D L −31,4mと設定できた。
の実施例の具体的な設計パラメータを示す。まず、再生
波長である半導体レーザダイオードチップ21.(第2
図)の発振波長λ22−787nとする。これは一般に
市販されている可視の半導体レーザの平均値である。ま
た、第4図におけるガラス窓42の厚みT 42 =
0.3111111%屈折率Na2=1.5とする。そ
して、同じく半導体レーザダイオードチップ21の非点
隔差を10μmとする。この時、第1図のホログラム作
成光学系において、作成されたホログラムの波面収差が
最小となるように減衰最小自乗法(DLS法)を用いて
、各設計パラメータの最適化を行った。この結果、ホロ
グラム作成波長λ2 = 488nm (Arレーザ)
、球面凸レンズ11の中心厚み’r++=5.51、曲
率R++=26龍、屈折率N + + = 1.739
03、球面凸レンズ11の上面から無収差波18の収束
位置までの距離Z = 32.96 tm、球面凸レン
ズ11とシリンドリカルレンズ12の間隔D=1m、シ
リンドリカルレンズ12の中心厚みTl2−4111%
曲率Rl 2 = 5000m、屈折率N l 2 =
1.522、シリンドリカルレンズ12とホログラム
材料13との距離D L −31,4mと設定できた。
(本実施例の波面収差測定例(第5図))上記条件で設
計したホログラムで発生する波面収差量を第5図に示す
。なお、第4図(a)において、ホログラム13と半導
体レーザダイオードチップ21間の距離f o = 1
1.5164 amとしている。第5図より高いNAに
わたって波面収差が、λ/8以内に入っていて、はぼ回
折限界に近いホログラムであることがわかる。
計したホログラムで発生する波面収差量を第5図に示す
。なお、第4図(a)において、ホログラム13と半導
体レーザダイオードチップ21間の距離f o = 1
1.5164 amとしている。第5図より高いNAに
わたって波面収差が、λ/8以内に入っていて、はぼ回
折限界に近いホログラムであることがわかる。
一方、与えられた非点隔差量ΔZ、再生波長λ2に対し
て、非点隔差補正をしていない無収差の光学レンズの波
面収差がλ/8以内にあるためを満たすNAのレンズが
必要である。前記条件の場合は、NAは(3)式より、
0.2以下のものしか使えず、暗いレンズとなってしま
うが、本発明によれば、従来方式に比べ、高NAで非点
隔差が補正された小型、軽量、安価なホログラムレンズ
が得られる利点がある。
て、非点隔差補正をしていない無収差の光学レンズの波
面収差がλ/8以内にあるためを満たすNAのレンズが
必要である。前記条件の場合は、NAは(3)式より、
0.2以下のものしか使えず、暗いレンズとなってしま
うが、本発明によれば、従来方式に比べ、高NAで非点
隔差が補正された小型、軽量、安価なホログラムレンズ
が得られる利点がある。
(本実施例の他の応用例)
上記のように本実施例によれば、非点隔差を補正するホ
ログラムを作成することが可能である。
ログラムを作成することが可能である。
これは、逆に考えれば、非点隔差を作り出すことも可能
であるため、光ディスクのピックアップのように分割さ
れた検知器に入射するレーザ光の各方向の収差量によっ
てトラックずれやフォーカスずれを検知する場合、非点
隔差によって方向毎に異なった収差量を発生するホログ
ラムを用いることで検知を容易に行わせることも可能で
ある。
であるため、光ディスクのピックアップのように分割さ
れた検知器に入射するレーザ光の各方向の収差量によっ
てトラックずれやフォーカスずれを検知する場合、非点
隔差によって方向毎に異なった収差量を発生するホログ
ラムを用いることで検知を容易に行わせることも可能で
ある。
なお、本実施例では、第1の球面光学素子を凸レンズ、
第二のそれをシリンドリカル凸レンズとして説明した。
第二のそれをシリンドリカル凸レンズとして説明した。
しかし、第二のそれをシリンドリカル凹レンズ、または
、第一の球面光学素子を凹レンズとすることも勿論可能
である(前者の場合、発生する非点隔差の方向が本実施
例とは逆になる)。
、第一の球面光学素子を凹レンズとすることも勿論可能
である(前者の場合、発生する非点隔差の方向が本実施
例とは逆になる)。
また、第一、第二の順序が逆となっていても、勿論、可
能である。さらには、第一、第二の光学素子が直交した
シリンドリカルレンズのペアでも良い。
能である。さらには、第一、第二の光学素子が直交した
シリンドリカルレンズのペアでも良い。
本発明によれば、簡単な構成で半導体レーザで発生する
非点隔差を補正することができるホログラム作成方法を
提供することが可能となる。
非点隔差を補正することができるホログラム作成方法を
提供することが可能となる。
第1図(a)、 (b)は、本発明の実施例の構成図、
第2図は、非点較差の説明図、 第3図(at、 (bl、 (c)は、本発明の原理説
明図、第4図(a)、 (b)は、本発明により作成さ
れたホログラムの実施例の構成図、 第5図(In)、 (b)は、本発明により作成された
ホログラムで発生する波面収差図、 第6図(a)、 (b)は、従来のホログラム作成方法
の原理説明図、 第7図は、従来のホログラム作成方法の実施例の構成図
である。 11・・・球面凸レンズ、 12・・・シリンドリカルレンズ、 13・・・ホログラム材料、 14・・・基板、 15.15’・・・物体波、 16・・・参照波、 17.17’・・・収束球面波、 21・・・半導体レーザダイオードチップ、22・・・
活性層、 ΔZ・・・非点隔差。 特許出願人 富士通株式会社 11: 昧薗凸しンス゛ 15.15’”In
伴、5良12−/リントノfJ+レレンス” +
6 1 先トI!手、彼13 不ロ?ラム
+7.+7’: Jス東釘R置V支14、基羽
叉 Aくじiす斤りのK)守とイタリり構F又′ 6コ第1
図 非、弘隔左の託FJPI霞 第2図 (a ) 4斐八2で!+電し「;場(トc (b)液畏入1な、カー主しr、可6(トJ巳來/+7
トロ7゛クムイア)\才)五つ#a乙名qaり署 ICQ)t&H’5−U 23q便IWrfJ■ (b)9:R7f 24 q4R’JtJ 0岑発咽n
遍 箪 : 、理説明7 5図 液面ホ左(λ) (0)似射ぎ臼 23 7ト’ffi’lll”r9(’FAjKr−J−o7
’7へ;第5図 テ皮IJP!(入) (b)払射オ向 24
第2図は、非点較差の説明図、 第3図(at、 (bl、 (c)は、本発明の原理説
明図、第4図(a)、 (b)は、本発明により作成さ
れたホログラムの実施例の構成図、 第5図(In)、 (b)は、本発明により作成された
ホログラムで発生する波面収差図、 第6図(a)、 (b)は、従来のホログラム作成方法
の原理説明図、 第7図は、従来のホログラム作成方法の実施例の構成図
である。 11・・・球面凸レンズ、 12・・・シリンドリカルレンズ、 13・・・ホログラム材料、 14・・・基板、 15.15’・・・物体波、 16・・・参照波、 17.17’・・・収束球面波、 21・・・半導体レーザダイオードチップ、22・・・
活性層、 ΔZ・・・非点隔差。 特許出願人 富士通株式会社 11: 昧薗凸しンス゛ 15.15’”In
伴、5良12−/リントノfJ+レレンス” +
6 1 先トI!手、彼13 不ロ?ラム
+7.+7’: Jス東釘R置V支14、基羽
叉 Aくじiす斤りのK)守とイタリり構F又′ 6コ第1
図 非、弘隔左の託FJPI霞 第2図 (a ) 4斐八2で!+電し「;場(トc (b)液畏入1な、カー主しr、可6(トJ巳來/+7
トロ7゛クムイア)\才)五つ#a乙名qaり署 ICQ)t&H’5−U 23q便IWrfJ■ (b)9:R7f 24 q4R’JtJ 0岑発咽n
遍 箪 : 、理説明7 5図 液面ホ左(λ) (0)似射ぎ臼 23 7ト’ffi’lll”r9(’FAjKr−J−o7
’7へ;第5図 テ皮IJP!(入) (b)払射オ向 24
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)波面変換機能を有するホログラムをその再生波長(
λ_2)より短い波長(λ_1)を有する物体波(15
、15′)及び参照波(16)を作成波としてホログラ
ム材料(13)上で干渉させることにより作成するホロ
グラム作成方法において、前記物体波(15、15′)
は前記作成波長(λ_1)を有する収束球面波(17、
17′)を、第1の球面光学素子(11)と、第2の球
面光学素子(12)に垂直に入射させたことによる非点
収差波とすることにより、再生時に所望の非点隔差を得
ることを特徴とするホログラム作成方法。 2)前記球面光学素子(11、12)として所定の曲率
を有するシリンドリカルレンズを少なくとも1枚用いる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のホログラ
ム作成方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6082686A JPS62234181A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | ホログラム作成方法 |
CA000515003A CA1320855C (en) | 1985-07-31 | 1986-07-30 | Laser beam scanner and its fabricating method |
DE86401720T DE3689344T2 (de) | 1985-07-31 | 1986-07-31 | Laserstrahlscanner und Herstellungsverfahren. |
EP86401720A EP0214018B1 (en) | 1985-07-31 | 1986-07-31 | Laser beam scanner and its fabricating method |
US07/269,412 US4957336A (en) | 1985-07-31 | 1988-11-10 | Laser beam scanner and its fabricating method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6082686A JPS62234181A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | ホログラム作成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62234181A true JPS62234181A (ja) | 1987-10-14 |
JPH0535871B2 JPH0535871B2 (ja) | 1993-05-27 |
Family
ID=13153543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6082686A Granted JPS62234181A (ja) | 1985-07-31 | 1986-03-20 | ホログラム作成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62234181A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02141787A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Central Glass Co Ltd | 反射型ホログラムとその作製方法 |
JPH05196885A (ja) * | 1991-07-03 | 1993-08-06 | Gold Star Co Ltd | 光学系レーザビーム走査装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5872181A (ja) * | 1981-10-23 | 1983-04-30 | Ricoh Co Ltd | ホログラム光学系 |
JPS60238885A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-27 | Fujitsu Ltd | ホログラム記録方法 |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP6082686A patent/JPS62234181A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5872181A (ja) * | 1981-10-23 | 1983-04-30 | Ricoh Co Ltd | ホログラム光学系 |
JPS60238885A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-27 | Fujitsu Ltd | ホログラム記録方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02141787A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Central Glass Co Ltd | 反射型ホログラムとその作製方法 |
JPH05196885A (ja) * | 1991-07-03 | 1993-08-06 | Gold Star Co Ltd | 光学系レーザビーム走査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0535871B2 (ja) | 1993-05-27 |
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