JPS62232721A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPS62232721A JPS62232721A JP7415486A JP7415486A JPS62232721A JP S62232721 A JPS62232721 A JP S62232721A JP 7415486 A JP7415486 A JP 7415486A JP 7415486 A JP7415486 A JP 7415486A JP S62232721 A JPS62232721 A JP S62232721A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は耐久性、耐環境性に優れた高密度記録用薄膜堆
積型磁気記録媒体に関する。
積型磁気記録媒体に関する。
[従来の技術]
従来より、通常はポリエステル等のプラスチックフィル
ムからなる非磁性支持体の上に、強磁性微粒子を高分子
結合剤中に均一に分散せしめた磁性層を有する塗布型磁
気記録媒体が広く用いられ、また近年は金属等の薄膜を
蒸着・スパッタリング等の方法で非磁性支持体上に形成
せしめた。
ムからなる非磁性支持体の上に、強磁性微粒子を高分子
結合剤中に均一に分散せしめた磁性層を有する塗布型磁
気記録媒体が広く用いられ、また近年は金属等の薄膜を
蒸着・スパッタリング等の方法で非磁性支持体上に形成
せしめた。
強磁性薄膜型磁気記録媒体の開発が進められており、一
部実用化しているものもある。特に1強磁性薄膜型磁気
記録媒体のうち、Co−Cr垂直磁化膜は高密度磁気記
録媒体として将来性があるとされ1脚光をあびている。
部実用化しているものもある。特に1強磁性薄膜型磁気
記録媒体のうち、Co−Cr垂直磁化膜は高密度磁気記
録媒体として将来性があるとされ1脚光をあびている。
〔発明が解決しようとする問題点]
塗布型媒体では磁性層厚が大きいために高周波(短波長
)記録再生で反磁界の#響が大きく、短波長での再生出
力の向上を図るためには磁°性層厚を薄くするか保持力
Hcを大きくする必要が有る。
)記録再生で反磁界の#響が大きく、短波長での再生出
力の向上を図るためには磁°性層厚を薄くするか保持力
Hcを大きくする必要が有る。
例えばメタルパウダー塗布媒体(MP媒体)では保持力
が1300〜15000e有り、従来磁気ヘッドに使用
されていたフェライトヘッドでは十分な記録が出来ず、
MP媒体用には高価なセンダストや7モルファスヘッド
が必要である。また磁性層厚みの減少は、短波長の記録
再生には優れるものの長波長の再生出力が減少する欠点
がある。また塗布型媒体の本質的な欠点として磁性粉を
高分子バインダーに分散させて使用するため、おのずか
ら磁束量を増加するのに限界があり、飛躍的な高出力化
は難しい。
が1300〜15000e有り、従来磁気ヘッドに使用
されていたフェライトヘッドでは十分な記録が出来ず、
MP媒体用には高価なセンダストや7モルファスヘッド
が必要である。また磁性層厚みの減少は、短波長の記録
再生には優れるものの長波長の再生出力が減少する欠点
がある。また塗布型媒体の本質的な欠点として磁性粉を
高分子バインダーに分散させて使用するため、おのずか
ら磁束量を増加するのに限界があり、飛躍的な高出力化
は難しい。
一方、金属g脱型の蒸着テープの代表であるCo−Ni
合金膜は、耐食性と耐久性が・実用上の問題である。す
なわち、Co−Ni合金自体が耐食合金でなく、かつ特
性向上の目的で斜め蒸着で形成するために密度の小さい
ことがあり、酸化しやすい状fgとなっている。 Co
−1合金膜では膜表面を酸化処理する(特開昭53−8
5403号他)、醸化物、宝化物の保護層を設ける(特
開昭57−187134号他)、防耐食を塗布する(特
開昭57−152518号他)等の耐食方法が検討され
ているが、Co−Ni膜の膜厚そのものが薄くかつ密度
が低いため、十分な耐食性が保証されない。
合金膜は、耐食性と耐久性が・実用上の問題である。す
なわち、Co−Ni合金自体が耐食合金でなく、かつ特
性向上の目的で斜め蒸着で形成するために密度の小さい
ことがあり、酸化しやすい状fgとなっている。 Co
−1合金膜では膜表面を酸化処理する(特開昭53−8
5403号他)、醸化物、宝化物の保護層を設ける(特
開昭57−187134号他)、防耐食を塗布する(特
開昭57−152518号他)等の耐食方法が検討され
ているが、Co−Ni膜の膜厚そのものが薄くかつ密度
が低いため、十分な耐食性が保証されない。
[問題点を解決するための手段及び作用]本発明は上述
した従来の磁気記録媒体の有する欠点を克服し、優れた
記録再生特性であるとともに、耐食性、耐久性において
も実用的に十分な性能を有する磁気記録媒体を提供する
ものである。
した従来の磁気記録媒体の有する欠点を克服し、優れた
記録再生特性であるとともに、耐食性、耐久性において
も実用的に十分な性能を有する磁気記録媒体を提供する
ものである。
本発明は、基体と該基体に積層されたCo−Cr合金強
磁性体層と該強磁性体層に形成された酸化コバルト層と
該酸化コバルト層に積層された有機保護層とからなり、
該有機保護層が (C:n H2n −+ C00)* M(式中、、n
は正の整数、Xは金属を示す)で表わされる脂肪酸金属
塩からなることを特徴とする磁気記録媒体である。
磁性体層と該強磁性体層に形成された酸化コバルト層と
該酸化コバルト層に積層された有機保護層とからなり、
該有機保護層が (C:n H2n −+ C00)* M(式中、、n
は正の整数、Xは金属を示す)で表わされる脂肪酸金属
塩からなることを特徴とする磁気記録媒体である。
第1図は本発明の磁気記録媒体の構成を示す図で、lは
基体、2はCo−0r合金強磁性体層、3は酸化コバル
ト層、4は有機保護層である。
基体、2はCo−0r合金強磁性体層、3は酸化コバル
ト層、4は有機保護層である。
本発明の磁気記録媒体の基体lとしては、ガラス、アル
ミニウム、表面酸化処理アルミニウム等の外に、高分子
支持基材としてポリエステル、セルロース、アクリル、
ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリオレ
フィン、ポリポリフロロオレフィン、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニルコポリマー、
ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、フェノール樹
脂、ポリエーテルサルフオン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリアセタール、ポリフェニレンオキサイド、ポ
リフェニレンサルファイド等が挙げられる。
ミニウム、表面酸化処理アルミニウム等の外に、高分子
支持基材としてポリエステル、セルロース、アクリル、
ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリオレ
フィン、ポリポリフロロオレフィン、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニルコポリマー、
ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、フェノール樹
脂、ポリエーテルサルフオン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリアセタール、ポリフェニレンオキサイド、ポ
リフェニレンサルファイド等が挙げられる。
電磁変換特性の優れた磁気記録媒体を得るためには、保
持力の大きいことが望ましい、磁性層であるCo−Cr
合金膜の保持力向上のためにはCo−Cr合金膜の形成
温度が高いことが好ましく(100°C〜300°C)
、高分子基体としては耐熱性を有するポリアミド、ポリ
イミド樹脂、特に芳香族ポリイミド樹脂が良い。これら
の高分子基体を用いたフロッピーディスク、磁気テープ
では媒体のカールのないことが走行性、ヘッドタッチの
点から重要である。カールのない記録媒体を作成するた
めには、Co−Cr合金膜との熱応力、成膜時に発生す
る応力を打ち消す様に高分子基体の熱膨張の値を最適に
選ぶ必要がある。
持力の大きいことが望ましい、磁性層であるCo−Cr
合金膜の保持力向上のためにはCo−Cr合金膜の形成
温度が高いことが好ましく(100°C〜300°C)
、高分子基体としては耐熱性を有するポリアミド、ポリ
イミド樹脂、特に芳香族ポリイミド樹脂が良い。これら
の高分子基体を用いたフロッピーディスク、磁気テープ
では媒体のカールのないことが走行性、ヘッドタッチの
点から重要である。カールのない記録媒体を作成するた
めには、Co−Cr合金膜との熱応力、成膜時に発生す
る応力を打ち消す様に高分子基体の熱膨張の値を最適に
選ぶ必要がある。
芳香族ポリイミド膜(フィルム)としてはジアミン成分
としてパラフェニレンジアミン(PPD)単独で使用す
るか、或いはPPDとジアミノジフェニルエーテル(D
ADE)とを共に使用し、また、テトラカルボン酸成分
として、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPD
A)とピロメリット酸二無水物(PMOA)とを共に使
用して、共重合で得られた芳香族ポリアミック酸の溶液
から、製膜およびイミド化によって得られた芳香族ポリ
イミド膜(フィルム)が好ましくその厚みは4IL−1
008Lが記録媒体用として有用である。
としてパラフェニレンジアミン(PPD)単独で使用す
るか、或いはPPDとジアミノジフェニルエーテル(D
ADE)とを共に使用し、また、テトラカルボン酸成分
として、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPD
A)とピロメリット酸二無水物(PMOA)とを共に使
用して、共重合で得られた芳香族ポリアミック酸の溶液
から、製膜およびイミド化によって得られた芳香族ポリ
イミド膜(フィルム)が好ましくその厚みは4IL−1
008Lが記録媒体用として有用である。
このベースフィルムは、前述のようにPPD。
BPDAおよびPMDAの3成分あるいはPPD、 D
ADE。
ADE。
BPDAおよびPM[lAの4成分から共重合で形成さ
れたものであるので、耐熱性、引張弾性に優れているば
かりでなく、両成分を構成する各成分の使用量比率を色
々と調整することによって、得られた芳香族ポリイミド
膜の熱膨張係数を強磁性材料の熱膨張係数に大略一致す
るような値にすることができ、また、芳香族ポリイミド
膜の引張弾性定数を用途に応じて腰の強さ等の性能を好
適にするように変えることができる。
れたものであるので、耐熱性、引張弾性に優れているば
かりでなく、両成分を構成する各成分の使用量比率を色
々と調整することによって、得られた芳香族ポリイミド
膜の熱膨張係数を強磁性材料の熱膨張係数に大略一致す
るような値にすることができ、また、芳香族ポリイミド
膜の引張弾性定数を用途に応じて腰の強さ等の性能を好
適にするように変えることができる。
ベースフィルムを形成しているポリイミド膜は、その熱
膨張係数が約1.OX 10−5〜3、OX 10−5
cm/cm/’Oの範囲であり、引張弾性定数が約30
0〜1200kg/mm2 、特に325〜700kg
/層−ノの範囲であって、更に二次転移温度が約300
°C以上、特に310°C以上であることが好ましく、
さらに上述の性能に加えて、熱分解開始温度が約400
℃以上、特に450℃以上であって、約250℃の温度
付近での連続使用に耐えうるちのであり、また、引張試
験における引張強度が約20kg/mm2以ト、特に約
25kg/mm2以上であり、しかも破断点の伸び率が
約30%以上、特に40%以りであるものが、磁気記録
媒体の製造の際に優れた耐熱性を示し、高温での磁性層
の形成が可能であると共に、カールの発生を防止でき、
さらに巻きムラ、走行性、およびヘッドタッチの優れた
磁気記録媒体となるので最適である。
膨張係数が約1.OX 10−5〜3、OX 10−5
cm/cm/’Oの範囲であり、引張弾性定数が約30
0〜1200kg/mm2 、特に325〜700kg
/層−ノの範囲であって、更に二次転移温度が約300
°C以上、特に310°C以上であることが好ましく、
さらに上述の性能に加えて、熱分解開始温度が約400
℃以上、特に450℃以上であって、約250℃の温度
付近での連続使用に耐えうるちのであり、また、引張試
験における引張強度が約20kg/mm2以ト、特に約
25kg/mm2以上であり、しかも破断点の伸び率が
約30%以上、特に40%以りであるものが、磁気記録
媒体の製造の際に優れた耐熱性を示し、高温での磁性層
の形成が可能であると共に、カールの発生を防止でき、
さらに巻きムラ、走行性、およびヘッドタッチの優れた
磁気記録媒体となるので最適である。
機械的及び熱的性質などを上述の様に磁気記録媒体にと
って好適にするためには、芳香族ポリアミック酸を生成
するために使用されているジアミン成分は、全ジアミン
成分に対して約40〜95モル%、特に45〜90モル
%範囲の使用量割合のPPDと、全ジアミン成分に対し
て約5〜60モル%、特に10〜55モル%の使用量割
合のDADEとの2成分からなることが好ましい。また
、芳香族ポリアミック酸を生成するためのテトラカルボ
ン酸成分は、全テトラカルボン酸成分に対して約10〜
90モル%、特に15〜85モル%の使用量割合のBP
DAと、全テトラカルボン酸成分に対して約10〜90
モル%、特に15〜85モル%の使用量割合のPMDA
とからなることが好ましいのである。
って好適にするためには、芳香族ポリアミック酸を生成
するために使用されているジアミン成分は、全ジアミン
成分に対して約40〜95モル%、特に45〜90モル
%範囲の使用量割合のPPDと、全ジアミン成分に対し
て約5〜60モル%、特に10〜55モル%の使用量割
合のDADEとの2成分からなることが好ましい。また
、芳香族ポリアミック酸を生成するためのテトラカルボ
ン酸成分は、全テトラカルボン酸成分に対して約10〜
90モル%、特に15〜85モル%の使用量割合のBP
DAと、全テトラカルボン酸成分に対して約10〜90
モル%、特に15〜85モル%の使用量割合のPMDA
とからなることが好ましいのである。
さらにこの様な構成成分より成るポリイミドフィルムは
、フィルム表面の凹凸を制御するために、必要に応じて
カーボンブラック、グラファイト、シリカ微粉末、マグ
ネシア微粉末、酸化チタン、炭酸カルシウム、その他の
充填剤を混線せしめることも可能で、この様なポリイミ
ドフィルムを本発明の基体に用いても良い、しかし本発
明磁気記録媒体の優れた高密度記録特性を生かすために
は、基体表面粗さが最大0.05 )t、 m以下(R
waxが0.05 p、、 m )であることが望まし
い。
、フィルム表面の凹凸を制御するために、必要に応じて
カーボンブラック、グラファイト、シリカ微粉末、マグ
ネシア微粉末、酸化チタン、炭酸カルシウム、その他の
充填剤を混線せしめることも可能で、この様なポリイミ
ドフィルムを本発明の基体に用いても良い、しかし本発
明磁気記録媒体の優れた高密度記録特性を生かすために
は、基体表面粗さが最大0.05 )t、 m以下(R
waxが0.05 p、、 m )であることが望まし
い。
前述の芳香族ポリイミド膜の上にCo−Cr合金からな
る磁性層を形成するには、例えばスパッタリング法、電
子ビーム連続蒸着法などの公知の方法を挙げることがで
きるが、それらの方法で前記芳香族ポリイミド膜の表面
に磁性層を形成する際。
る磁性層を形成するには、例えばスパッタリング法、電
子ビーム連続蒸着法などの公知の方法を挙げることがで
きるが、それらの方法で前記芳香族ポリイミド膜の表面
に磁性層を形成する際。
Sの温度(成膜温度)を約250℃にまですることがで
きるので、優れた性能の磁性層が容易に形成されうるの
である。
きるので、優れた性能の磁性層が容易に形成されうるの
である。
Co−Cr合金が磁気記録層として優れる点はまず膜面
に垂直に磁気異方性を有することにより垂直磁化膜とな
り、短波長記録で反磁界の影響を受けないことである。
に垂直に磁気異方性を有することにより垂直磁化膜とな
り、短波長記録で反磁界の影響を受けないことである。
すなわち磁性層を極端に薄くする必要がないため、高出
力を得るために七分な膜厚を持たすことができる。また
斜め蒸着法で形成しないために膜密度が高く、i膜化に
よる磁束密度の減少が小さい。さらにCo−Or合金膜
が磁気記録層として優れる点は極めて耐食性が良いこと
である。
力を得るために七分な膜厚を持たすことができる。また
斜め蒸着法で形成しないために膜密度が高く、i膜化に
よる磁束密度の減少が小さい。さらにCo−Or合金膜
が磁気記録層として優れる点は極めて耐食性が良いこと
である。
このCo−Cr合金からなる磁性層2の厚みは0.1ル
11〜2.OILmの範囲が好ましく、基体lに直接形
成させる以外にも、磁性層を形成するに先立ち、種石性
向上、磁気特性向上、その他の目的で必要に応じてコロ
ナ放電処理その他の前処理を施したり、 Ail、 T
i、 Cr、 Ge、 5i02. Aj)203等の
非磁性膜、あるいはFe−Ni合金膜、またはCo−Z
r。
11〜2.OILmの範囲が好ましく、基体lに直接形
成させる以外にも、磁性層を形成するに先立ち、種石性
向上、磁気特性向上、その他の目的で必要に応じてコロ
ナ放電処理その他の前処理を施したり、 Ail、 T
i、 Cr、 Ge、 5i02. Aj)203等の
非磁性膜、あるいはFe−Ni合金膜、またはCo−Z
r。
Fe−P−G、 Fe−Co−Si−B等の非晶質膜で
代表される高透磁率膜を介して設けてもかまわない。
代表される高透磁率膜を介して設けてもかまわない。
これらCo−Cr合金強磁性薄膜は、必要に応じて基体
lの両面に形成することもできる。
lの両面に形成することもできる。
酸化コバルト層3は、所定圧の酸素を含む不活性ガス中
でのスパッタリング法、希薄醜素下での真空蒸着法、も
しくはイオンブレーティング法等の物理蒸着法、あるい
はプラズマ酸化処理によって、Co−Or合金強磁性体
層2の表面に直接堆積形成あるいは酸化層形成をしてい
る。酸化コバルト層3は磁気記QRとヘッドとの凝着を
防ぎ、耐庫耗性の向上に極めて有効である。酸化コバル
ト層3の厚みは#摩耗性を保障するに十分な厚みが必要
であるが一方、Co−Orr合金磁性層の持つ高密度記
録特性を有効に利用するためにはスペーシングロス減少
のため薄い事が望ましい。それ故酸化コバルト層3の厚
みは30〜300 Aが望ましく、50〜150 Aが
特に好ましい。
でのスパッタリング法、希薄醜素下での真空蒸着法、も
しくはイオンブレーティング法等の物理蒸着法、あるい
はプラズマ酸化処理によって、Co−Or合金強磁性体
層2の表面に直接堆積形成あるいは酸化層形成をしてい
る。酸化コバルト層3は磁気記QRとヘッドとの凝着を
防ぎ、耐庫耗性の向上に極めて有効である。酸化コバル
ト層3の厚みは#摩耗性を保障するに十分な厚みが必要
であるが一方、Co−Orr合金磁性層の持つ高密度記
録特性を有効に利用するためにはスペーシングロス減少
のため薄い事が望ましい。それ故酸化コバルト層3の厚
みは30〜300 Aが望ましく、50〜150 Aが
特に好ましい。
酸化コバルト層3は、磁気記録層2の保護に大きな役割
を果すものであり、さらに、金属ヘッド、フェライトヘ
ッド等とのなじみも良く、表面の摩擦係数も低下する。
を果すものであり、さらに、金属ヘッド、フェライトヘ
ッド等とのなじみも良く、表面の摩擦係数も低下する。
殊に酸化コバルト層の最表部がCo30a である時、
その効果が著しい。
その効果が著しい。
しかしながら、磁気記録媒体の表面が極めてモ坦な場合
(例えばV点モ均粗さRz (JIS−BOf!01)
で0.02=以下)あるいは、多湿条件等の悪環境条件
下での耐久性が必ずしも十分でない。
(例えばV点モ均粗さRz (JIS−BOf!01)
で0.02=以下)あるいは、多湿条件等の悪環境条件
下での耐久性が必ずしも十分でない。
そこで本発明磁気記録媒体の高密度記録特性を損なわず
かつ摩擦を低減し、走行安定性を向上させる為には、有
機化合物による保護層4を酸化コバルトN3の表面に積
層することが大変有効である。有機化合物による滑性と
酸化コバルト層3の強靭な保護作用とが積層され、より
一層庁耗し難く、かつ高温高湿、低温高湿での走行性能
、耐久性に優れた効果がある。
かつ摩擦を低減し、走行安定性を向上させる為には、有
機化合物による保護層4を酸化コバルトN3の表面に積
層することが大変有効である。有機化合物による滑性と
酸化コバルト層3の強靭な保護作用とが積層され、より
一層庁耗し難く、かつ高温高湿、低温高湿での走行性能
、耐久性に優れた効果がある。
本発明においては有機保護層として
(Cn 82 n 、+ 000)s M(式中1+
nは正の整数、Mは金属を示す)で表わされる脂肪酸金
属塩が用いられる。この有機保護層を」i均膜厚5A以
tの膜厚で設けることによって、耐久性の向上とともに
悪環境下、例えば多湿雰囲気中における磁気記録媒体の
走行容易性、走行安定性に大変有効である。
nは正の整数、Mは金属を示す)で表わされる脂肪酸金
属塩が用いられる。この有機保護層を」i均膜厚5A以
tの膜厚で設けることによって、耐久性の向上とともに
悪環境下、例えば多湿雰囲気中における磁気記録媒体の
走行容易性、走行安定性に大変有効である。
有機化合物による当該保護層も金属酸化物層同様に、電
磁変換特性の面において、膜厚の影響によるスペーシン
グロスを生じやすい為、・厚みは200八以下、さらに
は100八以下であることが望ましい。当該保護層にお
いては、必ずしも均一な連続膜である必要はなく、斑点
状等の様に不連続であっても良い。
磁変換特性の面において、膜厚の影響によるスペーシン
グロスを生じやすい為、・厚みは200八以下、さらに
は100八以下であることが望ましい。当該保護層にお
いては、必ずしも均一な連続膜である必要はなく、斑点
状等の様に不連続であっても良い。
本発明で使用する
(CIl H2n、 + coo)s M(式中I、n
は正の整数、Xは金属を示す)で表わされる脂肪酸金属
塩において、nは4以上が好ましい。nが4以上である
と潤滑の効果が大きい。
は正の整数、Xは金属を示す)で表わされる脂肪酸金属
塩において、nは4以上が好ましい。nが4以上である
と潤滑の効果が大きい。
金属XとしてはBa、 Pb、 Zn、 Sr、 Li
、 Ca、 Mg。
、 Ca、 Mg。
co、 Fe、旧、 Mn、 Cd等の金属元素が挙げ
られる。
られる。
、はこの金i%に対応して決まるもので1〜4の数値を
とりうる。
とりうる。
有機保護層4の形成方法としては、リバースロール法、
バーコーティング法等に代表される湿式コーティング法
が適用できる。
バーコーティング法等に代表される湿式コーティング法
が適用できる。
本発明におけるCo−Cr合合金強磁性体薄膜堆積型気
気記録媒体おいて、当該磁気記録媒体の基体の少なくと
も片側表面には磁気記録層を形成し、これと反対側の一
方の面には、必要に応じて表面と対称型の薄膜を積層形
成しても良く、あるいは当該基体の保護、滑性、補強、
その他の有効な効果を補足する目的で各種のバックコー
ト層を形成しても良い。バックコート層としては、Aβ
、 Ti。
気記録媒体おいて、当該磁気記録媒体の基体の少なくと
も片側表面には磁気記録層を形成し、これと反対側の一
方の面には、必要に応じて表面と対称型の薄膜を積層形
成しても良く、あるいは当該基体の保護、滑性、補強、
その他の有効な効果を補足する目的で各種のバックコー
ト層を形成しても良い。バックコート層としては、Aβ
、 Ti。
V、 Zr、 Co、 Nb、 Ta、 W、 Cr
、 Si、 Ge等の金属、半金属あるいはその酸化物
、窒化物、炭化物の薄膜、あるいは酸化物微粒子炭酸カ
ルシウム等の易滑性微粒子と、カーボン、金属粉末等の
導電性粒子と2脂肪酸、脂肪酸エステル等の潤滑剤を少
なくとも一種類含む熱可塑性または熱硬化性樹脂等の高
分子バインダーに混練して塗布したものが挙げられる。
、 Si、 Ge等の金属、半金属あるいはその酸化物
、窒化物、炭化物の薄膜、あるいは酸化物微粒子炭酸カ
ルシウム等の易滑性微粒子と、カーボン、金属粉末等の
導電性粒子と2脂肪酸、脂肪酸エステル等の潤滑剤を少
なくとも一種類含む熱可塑性または熱硬化性樹脂等の高
分子バインダーに混練して塗布したものが挙げられる。
以上述べた様に1表面平坦性に優れかっ熱膨張率を調整
した高弾性率、高耐熱性共重合ポリイミドフィルム上に
高温でCo−Cr合金膜を形成し、さらにその土に酸化
コバルト層を形成し、さらに脂肪酸金属塩からなる有機
化合物保護層を形成した磁気記録媒体はカールが小さく
、かつ高密度記録特性が優れ耐庁耗性、耐久性、耐環境
性がいずれも実用上ト分な性能を有しており、極めて優
れた磁気記録媒体である。
した高弾性率、高耐熱性共重合ポリイミドフィルム上に
高温でCo−Cr合金膜を形成し、さらにその土に酸化
コバルト層を形成し、さらに脂肪酸金属塩からなる有機
化合物保護層を形成した磁気記録媒体はカールが小さく
、かつ高密度記録特性が優れ耐庁耗性、耐久性、耐環境
性がいずれも実用上ト分な性能を有しており、極めて優
れた磁気記録媒体である。
[実施例]
以下実施例により本発明を説明する。
くテープの評価方法〉
出力の周波数特性:
0.75MHz、 4.5MHz、 7.5MHzの単
一信号を記録し、再生出力を測定。
一信号を記録し、再生出力を測定。
スチル耐久性テスト:
20℃、65%および0℃の環境下でスチル再生出力の
時間変化を測定。20分経過後出力低下が3dB以内を
Oとする。
時間変化を測定。20分経過後出力低下が3dB以内を
Oとする。
耐食テスト:
50℃、80%で1000時間放置後飽和磁束密度の低
下が10%以内をOとする。
下が10%以内をOとする。
くディスクの評価方法〉
出力の周波数特性:
1.3MHz、 7.0MHzの単一信号を記録し、再
生出力を測定。
生出力を測定。
耐久性:
20℃、65%の環境下でスチル再生出力の時間変化を
測定、50時間経過後出力低下が3dB以内をOとする
。
測定、50時間経過後出力低下が3dB以内をOとする
。
出力ムラ:
1トラツク内での出力の最大値と最小値の差。
実施例1
内容積3001の重合釜に3.3’ 、4.4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、20モル、ピロメリ
ット酸二無水物;80モル、パラフェニレンジアミン;
70モル及び4.4′−ジアミノジフェニルエーテル;
30モル、ざらにN−メチル−2−ピロリドン198.
0kgを入れた。この混合液を50”0の反応温度、常
圧下で44時間攪拌して重合反応を行ない、高分子量の
芳香族ポリアミック酸を約20.0重量%含有する反応
液を得た。
ェニルテトラカルボン酸二無水物、20モル、ピロメリ
ット酸二無水物;80モル、パラフェニレンジアミン;
70モル及び4.4′−ジアミノジフェニルエーテル;
30モル、ざらにN−メチル−2−ピロリドン198.
0kgを入れた。この混合液を50”0の反応温度、常
圧下で44時間攪拌して重合反応を行ない、高分子量の
芳香族ポリアミック酸を約20.0重量%含有する反応
液を得た。
この芳香族ポリアミック酸の溶液組成物を平滑なキャス
ティングロール上に流延し、キャスティング法にて均一
な厚さを有する溶液組成物の液膜を形成して、その液膜
を約60〜200°Cの温度範囲で昇温しながら乾燥し
て固化し、さらにその固化膜をキャスティングロールか
らはぎとり、炉の中で350℃の温度にまで加熱して熱
処理し、厚さ1OJL11の芳香族ポリイミド膜のベー
スフィルムを製造した。
ティングロール上に流延し、キャスティング法にて均一
な厚さを有する溶液組成物の液膜を形成して、その液膜
を約60〜200°Cの温度範囲で昇温しながら乾燥し
て固化し、さらにその固化膜をキャスティングロールか
らはぎとり、炉の中で350℃の温度にまで加熱して熱
処理し、厚さ1OJL11の芳香族ポリイミド膜のベー
スフィルムを製造した。
この芳香族ポリイミドフィルムについて種々の物性を測
定したが、その結果、引張弾性定数が490kg/a+
m2 、熱膨張係数(X too〜30Q”Cが1.8
X 1O−5c+s/cm/”01Rzは80Aであ
った。
定したが、その結果、引張弾性定数が490kg/a+
m2 、熱膨張係数(X too〜30Q”Cが1.8
X 1O−5c+s/cm/”01Rzは80Aであ
った。
この芳香族ポリイミドフィルムをベースフィルムとして
使用し、電子ビーム加熱装置を有した磁気テープの連続
成膜装置により、当該ベースフィ/l/ ム(1) 表
面ニCo 78wt$ −Cr 22wtX(7)垂直
磁化蒸着膜をベースフィルムの温度を200℃として。
使用し、電子ビーム加熱装置を有した磁気テープの連続
成膜装置により、当該ベースフィ/l/ ム(1) 表
面ニCo 78wt$ −Cr 22wtX(7)垂直
磁化蒸着膜をベースフィルムの温度を200℃として。
0.1 JL腸/secの成膜速度で約0.4終履厚形
成した後、その上部に酸素lO%を含むアルゴンガス中
でCoをスパッタし、酸化コバルトPI膜を8OA厚形
成した。さらにインプロピルアルコールで溶解した脂肪
酸金属塩(1:+ 7 H3s 000)2 Baをリ
バースロール法により前記酸化コバルト層上に8 X
101g/c厘2塗布した。
成した後、その上部に酸素lO%を含むアルゴンガス中
でCoをスパッタし、酸化コバルトPI膜を8OA厚形
成した。さらにインプロピルアルコールで溶解した脂肪
酸金属塩(1:+ 7 H3s 000)2 Baをリ
バースロール法により前記酸化コバルト層上に8 X
101g/c厘2塗布した。
このようにして得られた磁気シートを8.0mm幅にス
リットした。このテープのカールは、−<0.1+u+
−1と小さく、実用上問題のない量であった。このテー
プを8ミリVTRテープ用カセツトに装着し、8ミリビ
デオデツキ叫て出力の周波数特性、スチル耐久性、50
℃、80%での耐食性テスト等を行なった。
リットした。このテープのカールは、−<0.1+u+
−1と小さく、実用上問題のない量であった。このテー
プを8ミリVTRテープ用カセツトに装着し、8ミリビ
デオデツキ叫て出力の周波数特性、スチル耐久性、50
℃、80%での耐食性テスト等を行なった。
結果は第1表に示す如く良好であった。
実施例2
実施例1における(C+1H3sCOO)zBa 8X
10−7g/ctm2を(C+ ?H:+5cOO)
2Fe 8X 10−’g/cm2に変えた他は実施例
1と同様にして、テープを作成し、件部評価を行った。
10−7g/ctm2を(C+ ?H:+5cOO)
2Fe 8X 10−’g/cm2に変えた他は実施例
1と同様にして、テープを作成し、件部評価を行った。
結果を第1表に示す。
実施例3
実施例1における(C+1H3sCOO)2Ba 8X
10−’g/cta2を(C+ 1H3scOo)2
ct 5X 10−’g/cm2に変えた他は実施例1
と同様にして、テープを作成し、性能評価を行った。結
果を第1表に示す。
10−’g/cta2を(C+ 1H3scOo)2
ct 5X 10−’g/cm2に変えた他は実施例1
と同様にして、テープを作成し、性能評価を行った。結
果を第1表に示す。
比較例1
11JLm厚ポリエステルフィルム上に斜め蒸着法によ
り80wtχCo−Co−2ONi合金から磁気記録層
を0.12jLm形成した後、実施例1と同一方法にて
(C+ 7 H35C00)2Baを前記Co−1層上
に形成し、8mmビデオテープを作製した。
り80wtχCo−Co−2ONi合金から磁気記録層
を0.12jLm形成した後、実施例1と同一方法にて
(C+ 7 H35C00)2Baを前記Co−1層上
に形成し、8mmビデオテープを作製した。
実施例4
3.3’、4.4’−ビフェニルテトラカルボン醜二無
水物;40モル、ピロメリット酸二無水物;60モル、
パラフェニレンジアミン;50モル、及び4.4′−ジ
アミノジフェニルエーテル;50モルより成るモノマー
成分及び成分比で実施例1と同一方法にて芳香族ポリア
ミック酸の溶液組成物を製造した。そのようにして得ら
れた溶液組成物を使用し、実施例1と同一方法にて厚さ
40p鵬の芳香族ポリイミドフィルムを製造した。この
芳香族ポリイミドフィルムは引張弾性定数が400kg
/mm2 、熱膨張係数(E100〜300”Cが2.
EI X 1O−5cs+/am/’01Rzは30A
であった・ この芳香族ポリイミドフィルムをベースフィルムとして
使用し、スパッタリング装置にて当該ベースフィルム上
にCo 80wt$−Or 20wtXの垂直磁化膜を
ベースフィルムの温度を150℃として約0.5 JL
ts形成した後、その上部に酸素12%を含むアルゴン
ガス中でCOをスパッタし、酸化コバルト薄膜を100
A厚形酸した0次いで、イソプロピルアルコールで溶
解した(C+、、HJr C00)x Coをリバース
ロール法により前記酸化コバルト層上に8 X 10−
1g/cm29布した。
水物;40モル、ピロメリット酸二無水物;60モル、
パラフェニレンジアミン;50モル、及び4.4′−ジ
アミノジフェニルエーテル;50モルより成るモノマー
成分及び成分比で実施例1と同一方法にて芳香族ポリア
ミック酸の溶液組成物を製造した。そのようにして得ら
れた溶液組成物を使用し、実施例1と同一方法にて厚さ
40p鵬の芳香族ポリイミドフィルムを製造した。この
芳香族ポリイミドフィルムは引張弾性定数が400kg
/mm2 、熱膨張係数(E100〜300”Cが2.
EI X 1O−5cs+/am/’01Rzは30A
であった・ この芳香族ポリイミドフィルムをベースフィルムとして
使用し、スパッタリング装置にて当該ベースフィルム上
にCo 80wt$−Or 20wtXの垂直磁化膜を
ベースフィルムの温度を150℃として約0.5 JL
ts形成した後、その上部に酸素12%を含むアルゴン
ガス中でCOをスパッタし、酸化コバルト薄膜を100
A厚形酸した0次いで、イソプロピルアルコールで溶
解した(C+、、HJr C00)x Coをリバース
ロール法により前記酸化コバルト層上に8 X 10−
1g/cm29布した。
こうして得られたサンプルを直径47φのディスクに打
ち抜き加工し、スチルビデオデツキ(試験機)を用いて
評価した。
ち抜き加工し、スチルビデオデツキ(試験機)を用いて
評価した。
実施例5
実施例4における(G+7H3sGOO)2co 8X
10−7g/cm2を(G+ 7F35cOO)2P
b 8X 10−’g/cm2に変えた他は実施例4と
同様にして、磁気ディスクを作製し、評価試験を行った
。その結果は第2表に示すように大変良好であった。
10−7g/cm2を(G+ 7F35cOO)2P
b 8X 10−’g/cm2に変えた他は実施例4と
同様にして、磁気ディスクを作製し、評価試験を行った
。その結果は第2表に示すように大変良好であった。
[発明の効果]
以F説明したように、本発明による磁気記録媒体は、基
体の芳香族ポリイミドフィルムの表面に、h”i n’
;7堆積法にてCo−Cr合金強磁性体薄膜を形成し、
その表面に酸化コバルト層を形成した膜面上に更に滑性
有機化合物である (C:n H2n 、+ 000)s M(式中−,o
は正の整数1Mは金属を示す)で表わされる脂肪酸金属
塩の保護層を積層形成することにより、走行性、耐久性
、耐環境性の優れた高密度磁気記録媒体の実現をならし
めるものである。
体の芳香族ポリイミドフィルムの表面に、h”i n’
;7堆積法にてCo−Cr合金強磁性体薄膜を形成し、
その表面に酸化コバルト層を形成した膜面上に更に滑性
有機化合物である (C:n H2n 、+ 000)s M(式中−,o
は正の整数1Mは金属を示す)で表わされる脂肪酸金属
塩の保護層を積層形成することにより、走行性、耐久性
、耐環境性の優れた高密度磁気記録媒体の実現をならし
めるものである。
第1図は本発明の磁気記録媒体の構成図である。
■・・・基体である芳香族ポリイミドフィルム、2・・
・Co−Cr合金強磁性体層。 3・・・酸化コバルト層、 4・・・有機保護層。 第1図
・Co−Cr合金強磁性体層。 3・・・酸化コバルト層、 4・・・有機保護層。 第1図
Claims (2)
- (1)基体と該基体に積層されたCo−Cr合金強磁性
体層と該強磁性体層に形成された酸化コバルト層と該酸
化コバルト層に積層された有機保護層とからなり、該有
機保護層が (C_nH_2_n_+_1COO)_mM(式中m、
nは正の整数、Mは金属を示す)で表わされる脂肪酸金
属塩からなることを特徴とする磁気記録媒体。 - (2)基体が芳香族ポリイミドフィルムからなる特許請
求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7415486A JPS62232721A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7415486A JPS62232721A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62232721A true JPS62232721A (ja) | 1987-10-13 |
Family
ID=13538952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7415486A Pending JPS62232721A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62232721A (ja) |
-
1986
- 1986-04-02 JP JP7415486A patent/JPS62232721A/ja active Pending
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