JPS62229517A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は耐久性、耐環境性に優れた高密度記録用薄膜堆
積型磁気記録媒体に関する。

［従来の技術］ 従来より、通常はポリエステル等のプラスチックフィル
ムからなる非磁性支持体の上に１強磁性徴粒子を高分子
結合剤中に均一に分散せしめた磁性層を有する塗布型磁
気記録媒体が広く用いられ、また近年は金属等の薄膜を
蒸着・スパッタリング等の方法で非磁性支持体上に形成
せしめた、強磁性薄膜型磁気記録媒体の開発が進められ
ており、一部実用化しているものもある。特に、強磁性
薄膜型磁気記録媒体のうち、Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁化膜は高
密度磁気記録媒体として将来性があるとされ、脚光をあ
びている。

［発明が解決しようとする問題点］ 塗布型媒体では磁性層厚が大きいために高周波（短波長
）記録再生で反磁界の影響が大きく、短波長での再生出
力の向とを図るためには磁性層厚を薄くするか保持力Ｈ
ｃを大きくする必要が有る。

例えばメタルパウダー塗布媒体（ＭＰ媒体）では保持力
が１３００〜１５０００ｅ有り、従来磁気ヘッドに使用
されていたフェライトヘッドでは上方な記録が出来ず、
ＭＰ媒体用には高価なセンダストやアモルファスヘッド
が必要である。また磁性層厚みの減少は、短波長の記録
再生には優れるものの長波長の再生出力が減少する欠点
がある。また塗布型媒体の本質的な欠点として磁性粉を
高分子バインダーに分散させて使用するため、おのずか
ら磁束量を増加するのに限界があり、飛躍的な高出力化
は難しい。

一方、金属薄膜型の蒸着テープの代表であるＣｏ−Ｎｉ
合金膜は、耐食性と耐久性が実用上の問題である。すな
わち、Ｃｏ−旧合金自体が耐食合金でなく、かつ特性向
上の目的〒斜め蒸着で形成するために密度の小さいこと
があり、酸化しやすい状態となっている＊　Ｃｏ　　Ｎ
ｉ合金膜では膜表面を酸化処理する（特開昭５３−８５
４０３号他）、酸化物、窒化物の保護層を設ける（特開
昭５７−１８７１３４号他）。

防耐食を塗布する（特開昭５７−１５２５１８号他）等
の耐食方法が検討されているが、Ｃａ−Ｎｉ１ｇ１の膜
厚そのものが薄くかつ密度が低いため、十分な耐食性が
保証されない。

［問題点を解決するための手段及び作用１本発明は上述
した従来の磁気記録媒体の有する欠点を克服し、優れた
記録再生特性であるとともに、耐食性、耐久性において
も実用的に十分な性１指を有する磁気記録媒体を提供す
るものである。

本発明は、ス（体と該基体に積層されたＧｏ−Ｃｒ合金
強磁性体層と該強磁性体層に形成された酸化コバルト層
と該酸化コバルト層に積層された有機保護層とからなり
、該有機保護層が脂肪酸、脂肪酸アミドまたは脂肪酸グ
リセリドからなる磁気記録媒体である。

第１図は本発明の磁気記録媒体の構成を示す図で、１は
基体、２はＣｏ−Ｃｒ合金強磁性体層、３は酸化コバル
ト層、４は保護層である。

本発明の磁気記録媒体の基体１としては、ガラス、アル
ミニウム、表面酸化処理アルミニウム等の外に、高分子
支持基材としてポリエステル、セルロース、アクリル、
ポリアミド、ポリイミド。

ポリアミドイミド、ポリオレフィン、ポリポリフロロオ
レフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニ
ル／酢酸ビニルコポリマー、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
カーボネート、フェノール樹脂、ポリエーテルサルフォ
ン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアセタール、ポ
リフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルファイド
等が挙げられる。

電磁変換特性の優れた磁気記録媒体を得るためには、保
持力の大きいことが望ましい、磁性層であるＧｏ−Ｃｒ
合金膜の保持力向上のためにはＧｏ−Ｃｒ合金膜の形成
温度が高いことが好ましく（１００℃〜３００℃）、高
分子基体としては耐熱性を有するポリアミド、ポリイミ
ド樹脂、特に芳香族ポリイミド樹脂が良い、これらの高
分子基体を用いたフロッピーディスク、磁気テープでは
媒体のカールのないことが走行性、ヘッドタッチの点か
ら重要である。カールのない記録媒体を作成するために
は、Ｇｏ−Ｃｒ合金膜との熱応力、成膜時に発生する応
力を打ち消す様に高分子基体の熱膨張の値を最適に選ぶ
必要がある。

芳香族ポリイミド膜（フィルム）としてはジアミン成分
としてパラフェニレンジアミン（ＰＰＤ）　単独で使用
するか、或いはＰＰＤとジアミノジフェニルエーテル（
ＤＡＤＥ）とを共に使用し、また、テトラカルボン酸成
分として、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰ
ＤＡ）とピロメリット酸二無水物（ＰＮＤＡ）とを共に
使用して、共重合で得られた芳香族ポリアミック酸の溶
液から、製ｊ１λおよびイミド化によって得られた芳香
族ポリイミド膜（フィルム）が好ましくその厚みは４μ
〜１００　ｇが記録媒体用として有用である。

このベースフィルムは、前述のようにｐｐｎ　。

ＢＰＤＡおよびＰＩＩＩＯＡの３成分あるいはｐｐ口、
　ＤＡＤＥ。

ＢＰＤＡおよびＰＭＯＡの４成分から共重合で形成され
たものであるので、耐熱性、引張弾性に優れているばか
りでなく１内戚分を構成する各成分の使用量比率を色々
と［！することによって、得られた芳香族ポリイミド膜
の熱膨張係数を強磁性材料の熱膨張係数に大略一致する
ような値にすることができ、また、芳香族ポリイミド膜
の引張弾性定数を用途に応じて腰の強さ等の性悌を好適
にするように変えることができる。

ベースフィルムを形成しているポリイミド膜は、その熱
膨張係数が約１．ＯＸ　１０−５〜３，０×１０−５ｃ
ｍ／ｃ■／℃の範囲であり、引張弾性定数が約３００〜
１２００ｋｇ／ｓａ２、特に３２５〜７００ｋｇ／量Ｉ
１２の範囲であって、更に二次転移温度が約３００℃以
上、特に３１０℃以上であることが好ましく、さらに上
述の性能に加えて、熱分解開始温度が約４００℃以北、
特に４５０°Ｃ以上であって、約２５０℃の温度付近で
の連続使用に耐えうるものであり、また、引張試験にお
ける引張強度が約２０ｋｇ／＋ｕｅ２以上、特に約２５
ｋｇ／ａｍ２以上であり、しかも破断点の伸び率が約３
０％以上、特に４０％以上であるものが、磁気記録媒体
の製造の際に優れた耐熱性を示し、高温での磁性層の形
成が可能であると共に、カールの発生を防止でき、さら
に巻きムラ、走行性、およびヘッドタッチの優れた磁気
記録媒体となるので最適である。

機械的及び熱的性質などを上述の様に磁気記録媒体にと
って好適にするためには、芳香族ポリアミック酸を生成
するために使用されているジアミン成分は、全ジアミン
成分に対して約４０〜９５モル％、特に４５〜９０モル
％範囲の使用量割合のＰＰＤと、全ジアミン成分に対し
て約５〜６０モル％、特に１０〜５５モル％の使用量割
合のＤＡＤＥとの２成分からなることが好ましい。また
、芳香族ポリアミック酸を生成するためのテトラカルボ
ン酸成分は、全テトラカルボン酸成分に対して約１０〜
９０モル％、特に１５〜８５モル％の使用量割合のＢＰ
ＤＡと、全テトラカルボン酸成分に対して約１０〜９０
モル％。

特に１５〜８５モル％の使用量割合のＰＭ口Ａとからな
ることが好ましいのである。

さらにこの様な構成成分より成るポリイミドフィルムは
、フィルム表面の凹凸を制御するために、必要に応じて
カーボンブラック、グラファイト、シリカ微粉末、マグ
ネシア微粉末、酸化チタン、炭酸カルシウム、その他の
充填剤を混練せしめることも可能で、この様なポリイミ
ドフィルムを本発明の基体に用いても良い、しかし本発
明磁気記録媒体の優れた高密度記録特性を生かすために
は、基体表面粗さが最大０．０５ＪＬｍ以下（Ｒｗａｘ
が０．０５ｇｔａ）であることが望ましい。

前述の芳香族ポリイミド膜の上にｃｏ−Ｃｒ合金からな
る磁性層を形成するには、例えばスパッタリング法、電
子ビーム連続蒸着法などの公知の方法を挙げることがで
きるが、それらの方法で前記芳香族ポリイミド膜の表面
に磁性層を形成する際、膜の温度（成膜温度）を約２５
０℃にまですることができるので、優れた性能の磁性層
が容易に形成されうるのである。

Ｃｏ−Ｃｒ合金が磁気記録層として優れる点はまず膜面
に垂直に磁気異方性を有することにより垂直磁化膜とな
り、短波長記録で反磁界の影響を受けないことである。

すなわち磁性層を極端に薄くする必要がないため、高出
力を得るために十分な膜厚を持たすことができる。また
斜め蒸着法で形成しないために膜密度が高く、ｇ脱化に
よる磁束密度の減少が小さい。さらにＧｏ−Ｃｒ合金膜
が磁気記録層として優れる点は極めて耐食性が良いこと
である。

このＧｏ−Ｃｒ合金からなる磁性層２の厚みは０．１μ
ｍ〜２．ＯＪＬｌｌの範囲が好ましく、基体ｌに直接形
成させる以外にも、磁性層を形成するに先立ち、接着性
向上、磁気特性向上、その他の目的で必要に応じてコロ
ナ放電処理その他の前処理を施したり、Ａｊ）、　Ｔｉ
、　Ｃｒ、　Ｇｅ、　５ｉ０２．　Ａｊ１２０３等の非
磁性膜、あるいはＦｅ−１合金膜、またはＣｏ−Ｚｒ。

Ｆｅ−Ｐ−Ｃ，Ｆｅ−Ｇｏ−Ｓｉ−Ｂ等の非晶質１模で
代表される高透磁率膜を介して設けてもかまわない。

これらＧｏ−Ｏｒ合金強磁性薄膜は、必要に応じて基体
１の両面に形成することもできる。

酸化コバルト層３は、所定圧の酸素を含む不活性ガス中
でのスパッタリング法、希薄酸素下での真空蒸着法、も
しくはイオンブレーティング法等の物理蒸着法、あるい
はプラズマ酸化処理によって、Ｃｏ−Ｃｒ合金強磁性体
層２の表面に直接堆積形成あるいは酸化層形成をしてい
る。酸化コバルト層３は磁気記録層とヘッドとの凝着を
防ぎ、１耐庁耗性の向上に極めて有効である。酸化コバ
ルト層３の厚みは耐摩耗性を保障するに十分な厚みが必
要であるが一方、Ｇｏ−Ｃｒ系合金磁性層の持つ高密度
記録特性を有効に利用するためにはスペーシングロス減
少のため薄い水が望ましい。それ装置化コバルト層３の
厚みは３０〜３００Ａが望ましく、５０〜１５０八が特
に好ましい。

酸化コバルト層３は、磁気記録層２の保護に大きな役割
を果すものであり、さらに、金属ヘッド、フェライトヘ
ッド等とのなじみも良く、表面の摩擦係数も低下する。

殊に酸化コバルト層の最表部がＣＯ３０４である時、そ
の効果が著しい。

しかしながら、磁気記録媒体の表面が極めて平坦な場合
（例えば十点平均粗さＲｚ　（ＪＩＳ−ＢＯ８０１）で
０．０２　Ｊｊ−以下）あるいは、多湿条件等の悪環境
条件下での耐久性が必ずしも十分でない。

そこで本発明磁気記録媒体の高密度記録特性を損なわず
かつ摩擦を低減し、走行安定性を向上させる為には、有
機化合物による保護層４を酸化コバルト層３の表面に積
層することが大変有効である。有機化合物による滑性と
酸化コバルト層３の強靭な保護作用とが積層され、より
一層摩耗し難く、かつ高温高湿、低温高湿での走行性能
、耐久性に優れた効果がある。

本発明においては有機保護層として脂肪酸、脂肪酸アミ
ドまたは脂肪酸グリセリドが用いられる。この有機保護
層を平均膜厚５Ａ以上の膜厚で、没けることによって、
１耐久性の向ヒとともに悪環境Ｆ１例えば多湿雰囲気中
における磁気記録媒体の走行容易性、走行安定性に大変
有効である。

有機化合物による当該保護層も金属酸化物層同様に、、
ｂ：　ｒａ変換特性の面において、膜厚の影響によるス
ペーシングロスを生じやすい為、厚みは２００八以下、
さらには１００　Ａ以下であることが望ましい、当該保
護層においては、必ずしも均一な連続膜である必要はな
く、斑点状等の様に不連続であっても良い。

本発明で使用する脂肪酸としては、炭素数１８以上（融
点が６５℃以上）の飽和脂肪酸が好ましい。

たとえばステアリン酸、ｎ−ノナデカツイン酸、アラキ
シン酸、ｎ−ヘネイコサノイン酸、ベヘン酸、ｎ−トリ
コサツイン酸、リグノセリン酸、ｎ−ペンタコサツイン
酸、セロチン酸、メリシン酸等が挙げられる。炭素数１
７以下の脂肪酸では滑性の効果が小さくなる傾向がある
。

本発明で使用する脂肪酸アミドとしては、炭素数１６以
上の飽和脂肪酸アミドが好ましい。たとえばパルミチン
酸アミド、ｎ−ヘプタデカツイン酸アミド、ステアリン
酸アミド、ｎ−７ナデカノイン酸アミド、アラキシン酸
アミド、ｎ−ヘネイコサノイン酸アミド、ベヘン酸アミ
ド、ｎ−トリコサツイン酸アミド、リグノセリン酸アミ
ド、ｎ−ペンタコサツイン酸アミド、セロチン酸アミド
等が挙げられる。炭素数Ｘ５以下の脂肪酸アミドでは滑
性の効果が小さくなる傾向がある。

また、−分子内に２つのアミド基がある脂肪酸アミド、
例えばメチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビス
ステアリン酸アミド等でも効果は同じであった。

本発明で使用する脂肪酸グリセリドとしては、たとえば
ステアリン酸、ｎ−デカメイン酸、アラキシン酸、ｎ−
ヘネイコサノイン酸、ベヘン酸、ｎ−）リコサノイン酸
、リグノセリン酸、ｎ−ペンタコサツイン酸、セロチン
酸等の炭素数１８以上の脂肪酸のモノグリセリド、ジグ
リセリド、トリグリセリド等が挙げられる。炭素数１７
以下の脂肪酸のグリセリドでは潤滑の効果が顕著ではな
くなる傾向がある。脂肪酸としては、不飽和脂肪酸より
は上記の様な飽和脂肪酸の方が好ましい。

保護層４の膜形成方法としては、電子ビーム法や抵抗加
熱法あるいはイオンブレーティングによる真空蒸着によ
り形成する乾式コーティングや、リバースロール法、バ
ーコーティング法等により酸化コバルト層３の表面に直
接塗布する湿式コーティング法が適用される。

末完ＩＪＪにおけるＧｏ−Ｃｒ合金強磁性体薄膜堆積型
磁気記録媒体において、当該磁気記録媒体の基体の少な
くとも片側表面には磁気記録層を形成し、これと反対側
の一方の面には、必要に応じて表面と対称型の薄膜を積
層形成しても良く、あるいは当該基体の保護、滑性、補
強、その他の有効な効果を補足する目的で各種のバック
コート層を形成しても良い、バックコート層としては、
Ａβ、　Ｔｉ。

Ｖ、　Ｚｒ、　Ｇｏ、　Ｎｂ、↑ａ、　　Ｗ、　Ｃｒ、
　Ｓｉ、　Ｇｅ等の金属、半金属あるいはその酸化物、
窒化物、炭化物の薄＋ａ、あるいは酸化物微粒子炭酸カ
ルシウム等の易滑性微粒子と、カーボン、金属粉末等の
導電性粒子と、脂肪酸、脂肪酸エステル等の潤滑剤を少
なくとも一種類含む熱可塑性または熱硬化性樹脂等の高
分子バインダーに混練して塗布したものが挙げられる。

以上述べた様に、表面平坦性に優れかつ熱１Ｉａｉｌ張
率を調整した高弾性率、高＃熱性共重合ポリイミドフィ
ルム上に高温でＧｏ−Ｃｒ合金膜を形成し、さらにその
上に酸化コバルト層を形成し、さらに脂肪酸、脂肪酸ア
ミドまたは脂肪酸グリセリドの保護膜を形成した磁気記
録媒体はカールが小さく、かつ高密度記録特性が優れ耐
摩耗性、耐久性、耐環境性がいずれも実用上十分な性能
を有しており、極めて優れた磁気記録媒体である。

［実施例］ 以下実施例により本発明を説明する。

なお、以下の実施例における評価方法は次に示す。

くテープの評価方法〉 出力の周波数特性： ０．７５ＭＨｚ、　４．５ＭＨｚ、　７．５ＭＨｚ　（
７）単一信号を記録し、１１ｆ生出力をΔ１１定。

スチル１＃＃久性テスト： ２０℃、６５％および０℃の環境下でスチル再生出力の
時間変化を測定。２０分経過後出力低下が３ｄＢ以内を
０とする。

１酎食テスト： ５０℃、８０％で１０００時間放置後飽和磁束密度の低
下が１０％以内をＯとする。

くディスクの評価方法〉 出力の周波数特性二 １．３ＭＨｚ、　７．０ＭＨｚの巾−信号を記録し、再
生出力を測定。

耐久性： ２０℃、６５％の環境下でスチル再生出力の時間変化を
Δ１１定、５０時間経過後出力低下が３ｄＢ以内をＯと
する。

出力ムラ： １１−ラック内での出力の最大値と最小値の差。

実施例１ 内容積３００文の重合釜に３．３’、４．４’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物；２０モル、ピロメリッ
ト酸二無水物；８０モル、パラフェニレンジアミン；７
０モル及び４．４′−ジアミノジフェニルエーテル；３
０モル、ざらにＮ−メチル−２−ピロリドン１９８．０
ｋｇを入れた。この混合液を５０℃の反応温度、常圧下
で４４時間攪拌して重合反応を行ない、高分子量の芳香
族ポリアミック酸を約２０．０重量％含有する反応液を
得た。

この芳香族ポリアミック酸の溶液組成物を平滑なキャス
ティングロール上に流延し、キャスティング法にて均一
な厚さを有する溶液組成物の液膜を形成して、その液膜
を約６０〜２００℃の温度範囲で昇温しながら軟岩して
固化し、さらにその固化膜をキャスティングロールから
はぎとり、炉の中で３５０°Ｃの温度にまで加熱して熱
処理し、厚さ１０ｇｍの芳香族ポリイミド膜のベースフ
ィルムを製造した。

この芳香族ポリイミドフィルムについて種々の物性をＪ
ｉｌｔ定したが、その結果、引張弾性定数が４９０ｋｇ
／ｍｍ２　、熱膨張係数（Ｘ　１００−３００＠Ｃが１
、ｆｌ　Ｘ　１０５ｃｍ／ｃｍ／”Ｃ１Ｒｚは８０Ａで
あった。

この芳香族ポリイミドフィルムをベースフィルムとして
使用し、電子ビーム加熱装置を有した磁気テープの連続
成膜装置により、当該ベースフィルムの表面にＣｏ　７
８ｗｔＸ　−Ｃｒ　２２ｗｔ＄）垂直磁化１１りをベー
スフィルムの温度を２３０”Ｃｊとして、０．１　μｔ
ｍ　／ｓｅａの成膜速度で約０．４ｐ−ｒａＪ！ＩＪＦ
ｊ成した後、そのｈ部に酸素１０％を含むアルゴンガス
中でＣｏをスパッタし、酸化コバルト薄膜を１００Ａ厚
形成した。さらに抵抗加熱真空蒸着装置にてステアリン
酸をゆっくり昇温させながら、■ｊ記酸酸化コバルト層
上５Ａ／ＳｅＣの蒸着速度、ポート温度約８５℃にて平
均膜厚５０Ａ積層形成した。

このようにして得られた磁気シートを８．０ｍｍｍＪに
スリットした。このテープのカールは、−くＯ，１ｍｍ
−１と小さく、実用上問題のない量であった。このテー
プを８ミリＶＴＲテープ用カセツトに装着し、８ミリビ
デオデツキにて出力の周波数特性、スチル耐久性、５０
℃、８０％での耐食性テスト等を行なった。

Ｅ記テストの結果は第１表に示すように良好なものであ
った。

実施例２ 酸化コバルト層までは実施例１と同一方法により形成し
た後、１，１．１−トリクロルエタンで溶解したベヘン
酸（炭素数２２．比重的０．８２）をリバースロール法
により、酸化コバルト層上に８　Ｘ　ＩＯ＝ｇ／ａｍ２
塗布し磁気テープを作成した。

実施例３ 実施例２における酸化コバルト層の厚みを８ＯＡとし、
ベヘン酸（塗布量３　Ｘ　１０−’ｇ／ｃｍ２）をステ
アリン酸アミド（塗布量３　Ｘ　１０−７ｇ／ｃ層２）
とした他は実施例２と同様にして磁気テープを作成した
。テスト結果を第１表に示す。

実施例４ 実施例１における酸化コバルト層の厚みを８ＯＡとし、
有機保護層を蒸着法により形成したパルミチン酸アミド
層（厚さ３０人）にした他は実施例１と同様にして磁気
テープを作成した。

なお、本実施例におけるパルミチン酸アミドの蒸着は、
抵抗加熱真空蒸着装置にてパルミチン酸アミドをゆっく
り昇温させながら、酸化コバルト層にに１ＯＡ／ｓｅｃ
の蒸着速度、ポート温度約８５℃にてモ均膜厚３０Ａに
積層形成した。

得られた磁気テープのテスト結果を第１表に示す。

実施例５ 実施例３のステアリン酸アミド（塗布量３　Ｘ　１０−
１ｇ／ｃ＋ｓ２　）をステアリン酸モノグリセリド（塗
１５量５　Ｘ　１０−’ｇ／ｃ＋ｓ２　）とした他は実
施例３と同様にして磁気テープを作成した。テスト結果
を第１表に示す。

実施例６ 実施例３のステアリン酸アミド（塗布値３　Ｘ　１０−
’ｇ／ｃｍ２　）をステアリン酸トリグリセリド（塗布
量５　Ｘ　１０−’ｇ／ｃｗ２　）に変えた他は実施例
１と同様にして磁気テープを作成した。テスト結果を第
１表に示す。

実施例７ 実施例５におけるステアリン酸モノグリセリドの塗布量
をＩＯＸ　１０−７ｇ／ｃｒａ２　とした他は実施例５
と同様にして磁気テープを作成した。テスト結果を第１
表に示す。

実施例８ ３．３’、４．４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物：４０モル、ピロメリット酸二無水物二６０モル。

パラフェニレンジアミン：５０モル、及び４．４′−ジ
アミノジフェニルエーテル＝５０モルより成る七ツマー
成分及び成分比で実施例１と同一方法にて芳香族ポリア
ミック酸の溶液組成物を製造した。そのようにして得ら
れた溶液組成物を使用し実施例１と同一方法にて厚さ４
０ＪＡｌｌの芳香族ポリイミドフィルムを製造した。こ
の芳香族ポリイミドフィルムは引張弾性定数が４００ｋ
ｇ／ｍｍ２　、熱膨張係数α１００〜３００’Ｃが２．
８　Ｘ　１０−５ｃｍ／ｃｍ／＠Ｃ，Ｒｚは３０Ａであ
った。

この芳香族ポリイミドフィルムをベースフィルムとして
使用し、スパッタリング装置にて当該ベースフィルム上
にＣｏ　８０ｗｔ％　−Ｃｒ　２０ｗｔ％（７）垂直磁
化膜をベースフィルムの温度を１５０°０として約０．
５μｍ形成した後、その上部に酸素１２％を含むアルゴ
ンガス中でＣＯをスパッタし、酸化コバルト薄膜を１０
０Ａ厚形成した。次いで、１．’１．１−１・リクロル
エタンで溶解したステアリン酸をリバースロール法によ
り前記酸化コバルト層上に８　Ｘ　１０−／ｇ／ｃｍ２
塗布した。

こうして得られたサンプルを直径４７φのディスクに打
ち抜き加工し、スチルビデオデツキ（試験！Ｉｔ）を用
いて評価した。

実施例９ 実施例８における有機保護層をステアリン酸アミドとし
、このステアリン酸アミドの層形成を蒸着法にて行った
他は、実施例８と同様にしてディスクを作成した。

蒸着は、抵抗加熱真空蒸着装置にてステアリン酸アミド
をゆっくり昇温させながら、酸化コバルト層上に５Ａ／
ｓｅｃの蒸着速度、ポート温度約８５℃にてＹ均膜厚１
００Ａに積層させることにより行った。評価結果は第２
表に示したように良好であった。

実施例１０ 実施例９におけるステアリン酸アミド（厚さ１００Ａ）
をステアリン酸モノグリセリド（厚さ５０Ａ）とした他
は実施例９と同様にしてディスクを作成した。評価結果
は第２表に示したように良好であった・ 実施例１１ 実施例８におけるステアリン酸（塗布量８　Ｘ　１（１
’ｇ／ｃｍ２　）をベヘン酸モノグリセリド（塗布量８
　Ｘ　１０−’ｇ／ｃｍ２）に変えた他は実施例８と同
様にしてディスクを作成した。評価結果は第２表に示し
たように良好であった。

比較例１ １１！１１厚ポリエステルフイルム上に斜め蒸着法によ
り、８０ｗｔ＄　Ｇｏ−２０ｗｔ＄　Ｎｉ合金から磁気
記録層を０．１２ｐｍ形成した後、実施例１と同一方法
にてステアリン酸を０．００５７Ａ、　１１形成し、８
＋ｓｍビデオテープを作製した。

［発明の効果］ 以に説明したように、本発明による磁気記録媒体は、ノ
１（体の芳香族ボリイミ、ドフィルムの表面に、７；す
膜堆積法にてＧｏ−Ｃｒ合金強磁性体薄膜を形成し、そ
の表面に酸化コバルト層を形成した膜面にに更に滑性有
機化合物である脂肪酸、脂肪酸アミドまたは脂肪酸グリ
セリドの保護層を積層形成することにより、走行性、耐
久性、耐環境性の優れた高密度磁気記録媒体の実現をな
らしめるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の構成図である。 ｌ・・・基体である芳香族ポリイミドフィルム、２・・
・Ｃｏ−Ｃｒ合金強磁性体層、 ３・・・酸化コバルト層、 ４・・・有機保護層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）基体と該基体に積層されたＣｏ−Ｃｒ合金強磁性
   体層と該強磁性体層に形成された酸化コバルト層と該酸
   化コバルト層に積層された有機保護層とからなり、該有
   機保護層が脂肪酸、脂肪酸アミドまたは脂肪酸グリセリ
   ドからなる磁気記録媒体。