JPH0766524B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0766524B2 JPH0766524B2 JP62021997A JP2199787A JPH0766524B2 JP H0766524 B2 JPH0766524 B2 JP H0766524B2 JP 62021997 A JP62021997 A JP 62021997A JP 2199787 A JP2199787 A JP 2199787A JP H0766524 B2 JPH0766524 B2 JP H0766524B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- film
- layer
- recording medium
- polyimide
- Prior art date
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ポリイミドフィルムをベースフィルムに使用
した、走行性に優れた磁気記録媒体に関する。
した、走行性に優れた磁気記録媒体に関する。
［従来の技術］ 従来、磁気記録媒体としては、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、あるいはメッキ法等の薄膜堆積法を用いた薄膜
型磁気記録媒体と、磁性粉塗布型磁気記録媒体が知られ
ている。特に薄膜型磁気記録媒体は、現在汎用されてい
る磁性粉塗布型記録媒体に比べ、記録密度の向上が可能
であり、次世代の記録媒体として有望視されている。
ング法、あるいはメッキ法等の薄膜堆積法を用いた薄膜
型磁気記録媒体と、磁性粉塗布型磁気記録媒体が知られ
ている。特に薄膜型磁気記録媒体は、現在汎用されてい
る磁性粉塗布型記録媒体に比べ、記録密度の向上が可能
であり、次世代の記録媒体として有望視されている。
一方、この薄膜型磁気記録媒体の製造に際しては、蒸発
源からの輻射熱や入射粒子エネルギーによる基体フィル
ムの熱負けがある。また、垂直磁気記録媒体のCo−Cr合
金のように、十分な磁気特性を得るためには高温での成
膜が必要な場合も有る。この様に、基体には耐熱性の良
い事が要求されるため、テープやフロッピーディスク用
のフレキシブルな基体には、一般のポリエステルよりさ
らに耐熱性の良い、例えばポリイミドフィルムが適する
とされている。
源からの輻射熱や入射粒子エネルギーによる基体フィル
ムの熱負けがある。また、垂直磁気記録媒体のCo−Cr合
金のように、十分な磁気特性を得るためには高温での成
膜が必要な場合も有る。この様に、基体には耐熱性の良
い事が要求されるため、テープやフロッピーディスク用
のフレキシブルな基体には、一般のポリエステルよりさ
らに耐熱性の良い、例えばポリイミドフィルムが適する
とされている。
［発明が解決しようとする問題点］ ところで、記録密度を向上させるためには、ヘッドと媒
体間に生ずる間げきを小さくする必要があり、従来の塗
布型磁気記録媒体においては、媒体表面の平滑化のため
に、カレンダー処理あるいは表面の研摩を施している。
体間に生ずる間げきを小さくする必要があり、従来の塗
布型磁気記録媒体においては、媒体表面の平滑化のため
に、カレンダー処理あるいは表面の研摩を施している。
しかしながら薄膜型磁気記録媒体では、磁性層の硬度が
高く、上記塗布型磁気記録媒体で用いられてきた平滑化
処理が適用できない。すなわち、薄膜型磁気記録媒体に
おいては、基体表面の平滑性が磁気記録媒体の平滑度を
支配するため、基体の平滑性を向上する必要がある。こ
の反面、基体あるいは製造途中や完成後の磁気記録媒体
の表面平滑性が良すぎると、巻きジワの発生、巻き締
り、フィルム間の吸着（ブロッキング）、製造工程にお
けるフィルム搬送での巾ずれや巻きムラあるいは録再機
器内の走行不良等を生じやすくなる問題がある。
高く、上記塗布型磁気記録媒体で用いられてきた平滑化
処理が適用できない。すなわち、薄膜型磁気記録媒体に
おいては、基体表面の平滑性が磁気記録媒体の平滑度を
支配するため、基体の平滑性を向上する必要がある。こ
の反面、基体あるいは製造途中や完成後の磁気記録媒体
の表面平滑性が良すぎると、巻きジワの発生、巻き締
り、フィルム間の吸着（ブロッキング）、製造工程にお
けるフィルム搬送での巾ずれや巻きムラあるいは録再機
器内の走行不良等を生じやすくなる問題がある。
本発明は、上述の問題点を解決すべくなされたもので、
表面の平滑性及び走行性に優れるとともに、製造プロセ
スでの取扱いにも優れた磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
表面の平滑性及び走行性に優れるとともに、製造プロセ
スでの取扱いにも優れた磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するために成された本発明は、支持体上
に流延して作成したポリイミドフィルムの、前記支持体
と接触していた面に、無機粒子の分散したポリイミドコ
ーティング層を有し、前記コーティング層とは反対側の
面に磁気記録層を有することを特徴とする磁気記録媒体
にある。
に流延して作成したポリイミドフィルムの、前記支持体
と接触していた面に、無機粒子の分散したポリイミドコ
ーティング層を有し、前記コーティング層とは反対側の
面に磁気記録層を有することを特徴とする磁気記録媒体
にある。
上記本発明の磁気記録媒体は、芳香族ジアミンと芳香族
テトラカルボン酸を溶媒中で重合したポリアミック酸溶
液を平面上に流延して脱溶媒して作製したポリアミック
酸フィルム上に、無機粒子を分散したポリアミック酸溶
液を塗布したのち脱溶媒およびイミド化して得た、片面
に無機粒子が分散されたポリイミドコーティング層２を
有するポリイミドフィルム１の無機粒子分散面と反対面
に磁気記録層３を形成することによって製造することが
できる。得られた本磁気記録媒体の磁気記録層３上に
は、保護層あるいは潤滑層またはその両方を積層するこ
とにある。
テトラカルボン酸を溶媒中で重合したポリアミック酸溶
液を平面上に流延して脱溶媒して作製したポリアミック
酸フィルム上に、無機粒子を分散したポリアミック酸溶
液を塗布したのち脱溶媒およびイミド化して得た、片面
に無機粒子が分散されたポリイミドコーティング層２を
有するポリイミドフィルム１の無機粒子分散面と反対面
に磁気記録層３を形成することによって製造することが
できる。得られた本磁気記録媒体の磁気記録層３上に
は、保護層あるいは潤滑層またはその両方を積層するこ
とにある。
無機粒子が分散されたポリイミドコーティング層２を有
するポリイミドフィルム１の形成は、芳香族ジアミンと
芳香族テトラカルボン酸を溶媒中で重合させたポリアミ
ック酸を平面上に流延した後、溶媒を蒸発除去して形成
したポリアミック酸フィルム上に、ポリイミドコーティ
ング層２となる無機粒子を含むポリアミック溶液を塗布
し、その後高温で重合イミド化をすることにより、ポリ
イミドフィルム１とポリイミドコーティング層２の強い
付着が得られる。
するポリイミドフィルム１の形成は、芳香族ジアミンと
芳香族テトラカルボン酸を溶媒中で重合させたポリアミ
ック酸を平面上に流延した後、溶媒を蒸発除去して形成
したポリアミック酸フィルム上に、ポリイミドコーティ
ング層２となる無機粒子を含むポリアミック溶液を塗布
し、その後高温で重合イミド化をすることにより、ポリ
イミドフィルム１とポリイミドコーティング層２の強い
付着が得られる。
ポリイミドコーティング層２の形成法としてはグラビア
やリバース等のロールコート法、バーコート法、スピン
コート法等の塗布方式が使用可能であり、乾燥塗膜厚み
は数μ程度が好ましい。そして、その後の重合イミド化
によって形成される無機粒子を含むポリイミドコーティ
ング層２により、基体（１と２の積層フィルム）上に一
定の表面粗度が形成される。
やリバース等のロールコート法、バーコート法、スピン
コート法等の塗布方式が使用可能であり、乾燥塗膜厚み
は数μ程度が好ましい。そして、その後の重合イミド化
によって形成される無機粒子を含むポリイミドコーティ
ング層２により、基体（１と２の積層フィルム）上に一
定の表面粗度が形成される。
無機粒子としては、カーボンや金属の微粒子、Al2O3,Si
O2,TiO2,MgO等の金属酸化物の微粒子が用いられる。無
機粒子の粒径と含有量は、形成する表面粗度の値により
調整されるものであり、十点平均粗さRz（テーラーホブ
ソン製，タリステップにて測定）で、0.05〜0.5μｍで
かつ、突起密度が104個/mm2以上のものが好ましい。
O2,TiO2,MgO等の金属酸化物の微粒子が用いられる。無
機粒子の粒径と含有量は、形成する表面粗度の値により
調整されるものであり、十点平均粗さRz（テーラーホブ
ソン製，タリステップにて測定）で、0.05〜0.5μｍで
かつ、突起密度が104個/mm2以上のものが好ましい。
ポリイミドフィルム１のどちらの面にポリイミドコーテ
ィング層２を形成するかについては、凹凸を形成する意
味においてはどちらでも構わない。ポリアミック酸溶液
をステンレス等の平坦な支持体上に流延し、更に脱溶媒
と重合イミド化を施して得られるポリイミドフィルム１
の支持体接触面側の表面粗さは支持体の表面性を反映す
る。この支持体との接触面は、支持体面が極めて精度良
く研摩されたステンレス面であっても、磁気記録媒体の
磁気記録層３表面に要求される平坦性を実現することが
困難である。従って、ポリイミドコーティング層２をポ
リイミドフィルム１の支持体接触面側に形成し、磁気記
録層３をポリイミドフィルム１の支持体に接触しない面
（フリー面）に形成する方が磁気記録媒体としては好ま
しい。
ィング層２を形成するかについては、凹凸を形成する意
味においてはどちらでも構わない。ポリアミック酸溶液
をステンレス等の平坦な支持体上に流延し、更に脱溶媒
と重合イミド化を施して得られるポリイミドフィルム１
の支持体接触面側の表面粗さは支持体の表面性を反映す
る。この支持体との接触面は、支持体面が極めて精度良
く研摩されたステンレス面であっても、磁気記録媒体の
磁気記録層３表面に要求される平坦性を実現することが
困難である。従って、ポリイミドコーティング層２をポ
リイミドフィルム１の支持体接触面側に形成し、磁気記
録層３をポリイミドフィルム１の支持体に接触しない面
（フリー面）に形成する方が磁気記録媒体としては好ま
しい。
以上に説明した方法により表面に凹凸を有するポリイミ
ドフイルム１上に形成する磁気記録層３としては、Fe,N
i,Co等を主成分とする強磁性合金あるいは強磁性酸化
物、強磁性窒化物薄膜が好ましい。すなわちFe,Co,Co−
Ni,Co−P,Co−Pt,Co−Cr,Co−Cr−Ta,Co−V,Co−Rh,Co
−O,Co−Ni−O,Co−N,Fe−Ｎ等を真空蒸着法、スパッタ
リング法、メッキ法で形成した保磁力が300 Oe以上、膜
厚0.05〜１μの強磁性薄膜である。中でも膜面に垂直方
向が容易軸方向の垂直磁気異方性を有するCo−Cr,Co−C
r−Ta,Co−V,Co−Rh,Co−Ｏ膜等は高密度記録特性が良
く、磁気記録媒体として有用である。磁気記録層３は、
単一層でも良いし、磁性あるいは非磁性層と積層されて
いる構成でももちろん良い。
ドフイルム１上に形成する磁気記録層３としては、Fe,N
i,Co等を主成分とする強磁性合金あるいは強磁性酸化
物、強磁性窒化物薄膜が好ましい。すなわちFe,Co,Co−
Ni,Co−P,Co−Pt,Co−Cr,Co−Cr−Ta,Co−V,Co−Rh,Co
−O,Co−Ni−O,Co−N,Fe−Ｎ等を真空蒸着法、スパッタ
リング法、メッキ法で形成した保磁力が300 Oe以上、膜
厚0.05〜１μの強磁性薄膜である。中でも膜面に垂直方
向が容易軸方向の垂直磁気異方性を有するCo−Cr,Co−C
r−Ta,Co−V,Co−Rh,Co−Ｏ膜等は高密度記録特性が良
く、磁気記録媒体として有用である。磁気記録層３は、
単一層でも良いし、磁性あるいは非磁性層と積層されて
いる構成でももちろん良い。
磁気記録層３の熱膨張係数αは、大略１〜２×10-5であ
り基体ポリイミドフィルム１のαも前記値に近いもの、
具体的には0.7〜2.5×10-5の範囲が好ましい。
り基体ポリイミドフィルム１のαも前記値に近いもの、
具体的には0.7〜2.5×10-5の範囲が好ましい。
金属あるいは酸化物あるいは窒化物薄膜磁気記録層３は
それ自体では耐食性やヘッドもしくは記録再生機器部材
との摺動に対する耐摩耗性が十分とはいえない。そのた
め磁気記録層３上に金属酸化物、窒化物、炭化物、ホウ
化物あるいはカーボン膜や、高級脂肪酸、高級脂肪酸エ
ステル、フッ素オイル、パーフルオロカルボン酸、フッ
素樹脂等の保護層又は潤滑層を形成することが好まし
か。具体的には、SiO2,Al2O3,Co3O4,TiN,Si3N4,BN,SiC,
WC,ZrB2,HfB2,ステアリン酸，ステアリン酸金属塩，パ
ーフルオロアルキルポリエーテル,PTFE,FEP,アクリルエ
ステル化合物等の層を挙げることができる。保護層ある
いは潤滑層材料は単独で用いられることもあるが、複数
組み合わせて使用しても良い。
それ自体では耐食性やヘッドもしくは記録再生機器部材
との摺動に対する耐摩耗性が十分とはいえない。そのた
め磁気記録層３上に金属酸化物、窒化物、炭化物、ホウ
化物あるいはカーボン膜や、高級脂肪酸、高級脂肪酸エ
ステル、フッ素オイル、パーフルオロカルボン酸、フッ
素樹脂等の保護層又は潤滑層を形成することが好まし
か。具体的には、SiO2,Al2O3,Co3O4,TiN,Si3N4,BN,SiC,
WC,ZrB2,HfB2,ステアリン酸，ステアリン酸金属塩，パ
ーフルオロアルキルポリエーテル,PTFE,FEP,アクリルエ
ステル化合物等の層を挙げることができる。保護層ある
いは潤滑層材料は単独で用いられることもあるが、複数
組み合わせて使用しても良い。
ポリイミドフィルム１は、通常、芳香族テトラカルボン
酸と芳香族ジアミンを重合したポリアミック酸溶液を平
面上に流延し、脱溶媒ののち高温でイミド化して作製さ
れる。芳香族テトラカルボン酸としては、例えばピロメ
リット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、ビリジン−2,3,5,6−テトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無
水物等、芳香族ジアミンとしては、例えばパラフェニレ
ンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミ
ノナフタレン等があげられる。中でもテトラカルボン酸
として、ピロメリット酸二無水物（PMDA）あるいは3,
3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸（BPDA）、ジ
アミンとして、パラフェニレンジアミン（PPD）あるい
はジアミノジフェニルエーテル（DADE）を用いることが
好ましい。これらを単独ずつで重合しても良いが、さら
に前記４つの成分の３種あるいは４種を共重合させるこ
とにより、磁気記録媒体として所望の機械物性あるいは
熱物性を有するポリイミドフィルムの製造が可能であ
る。
酸と芳香族ジアミンを重合したポリアミック酸溶液を平
面上に流延し、脱溶媒ののち高温でイミド化して作製さ
れる。芳香族テトラカルボン酸としては、例えばピロメ
リット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、ビリジン−2,3,5,6−テトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無
水物等、芳香族ジアミンとしては、例えばパラフェニレ
ンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミ
ノナフタレン等があげられる。中でもテトラカルボン酸
として、ピロメリット酸二無水物（PMDA）あるいは3,
3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸（BPDA）、ジ
アミンとして、パラフェニレンジアミン（PPD）あるい
はジアミノジフェニルエーテル（DADE）を用いることが
好ましい。これらを単独ずつで重合しても良いが、さら
に前記４つの成分の３種あるいは４種を共重合させるこ
とにより、磁気記録媒体として所望の機械物性あるいは
熱物性を有するポリイミドフィルムの製造が可能であ
る。
機械的及び熱的性質などを磁気記録媒体にとって好適に
するためには、芳香族ポリアミック酸を生成するために
使用されているジアミン成分は、全ジアミン成分に対し
て約40〜95モル％、特に45〜90モル％範囲の使用量割合
のPPDと、全ジアミン成分に対して約５〜60モル％、特
に10〜55モル％の使用量割合のDADEとの２成分からなる
ことが好ましい。また、芳香族ポリアミック酸を生成す
るためのテトラカルボン酸成分は、全テトラカルボン酸
成分に対して約10〜90モル％、特に15〜85モル％の使用
量割合のBPDAと、全テトラカルボン酸成分に対して約10
〜90モル％、特に15〜85モル％の使用量割合のPMDAとか
らなることが好ましいのである。
するためには、芳香族ポリアミック酸を生成するために
使用されているジアミン成分は、全ジアミン成分に対し
て約40〜95モル％、特に45〜90モル％範囲の使用量割合
のPPDと、全ジアミン成分に対して約５〜60モル％、特
に10〜55モル％の使用量割合のDADEとの２成分からなる
ことが好ましい。また、芳香族ポリアミック酸を生成す
るためのテトラカルボン酸成分は、全テトラカルボン酸
成分に対して約10〜90モル％、特に15〜85モル％の使用
量割合のBPDAと、全テトラカルボン酸成分に対して約10
〜90モル％、特に15〜85モル％の使用量割合のPMDAとか
らなることが好ましいのである。
ポリアミック酸フィルム（イミド化ののちはポリイミド
フィルム１）上に、コーティングされる無機粒子を含む
ポリアミック酸溶液（イミド化ののちはポリイミドコー
ティング層２）のポリアミック酸は、ポリイミドフィル
ム１と同質の材料であっても良いし、あるいは異なった
ものでも同様の効果が得られる。ポリアミック酸溶液を
すでに重合イミド化が完了したポリイミドフィルム１上
に塗布すると十分な付着力を有するものが得にくい。そ
のためテトラカルボン酸とジアミンを溶媒中に混合した
ポリアミック酸溶液を平坦な金属あるいはガラス上に流
延した後、溶媒を蒸発除去して形成したポリアミック酸
フィルム上に、ポリイミドコーティング層２となる無機
粒子を含むポリアミック溶液を塗布し、その後高温で重
合イミド化をすると、ポリイミドフィルム１とポリイミ
ドコーティング層２の強い付着が得られるので好まし
い。
フィルム１）上に、コーティングされる無機粒子を含む
ポリアミック酸溶液（イミド化ののちはポリイミドコー
ティング層２）のポリアミック酸は、ポリイミドフィル
ム１と同質の材料であっても良いし、あるいは異なった
ものでも同様の効果が得られる。ポリアミック酸溶液を
すでに重合イミド化が完了したポリイミドフィルム１上
に塗布すると十分な付着力を有するものが得にくい。そ
のためテトラカルボン酸とジアミンを溶媒中に混合した
ポリアミック酸溶液を平坦な金属あるいはガラス上に流
延した後、溶媒を蒸発除去して形成したポリアミック酸
フィルム上に、ポリイミドコーティング層２となる無機
粒子を含むポリアミック溶液を塗布し、その後高温で重
合イミド化をすると、ポリイミドフィルム１とポリイミ
ドコーティング層２の強い付着が得られるので好まし
い。
また、磁気記録媒体の裏面となるポリイミドコーティン
グ層２の表面にフッ素樹脂、含フッ素化合物、脂肪酸、
脂肪酸金属塩、脂肪酸エステル等の潤滑性を有する材料
を塗布することによりさらに易活性向上を図ることもで
きる。
グ層２の表面にフッ素樹脂、含フッ素化合物、脂肪酸、
脂肪酸金属塩、脂肪酸エステル等の潤滑性を有する材料
を塗布することによりさらに易活性向上を図ることもで
きる。
［作 用］ 本発明の様に、基体となるポリイミドフィルム１を無機
粒子を含まない層と、無機粒子を分散させた層の積層構
造とすることの利点は、ポリイミドフィルム１全体に無
機粒子を多量に分散させることにより生ずるフィルムの
機械強度の低下を招かないことである。すなわち、所望
の表面性（表面粗度）を実現するために、無機粒子を体
積比で数パーセントを越えてフィルム全体に混入させる
とフィルムの引張強度が低下し、磁気記録媒体として好
ましくないものとなる。
粒子を含まない層と、無機粒子を分散させた層の積層構
造とすることの利点は、ポリイミドフィルム１全体に無
機粒子を多量に分散させることにより生ずるフィルムの
機械強度の低下を招かないことである。すなわち、所望
の表面性（表面粗度）を実現するために、無機粒子を体
積比で数パーセントを越えてフィルム全体に混入させる
とフィルムの引張強度が低下し、磁気記録媒体として好
ましくないものとなる。
一方、本発明の構成によれば、機械強度は厚みの大部分
を占める無機粒子を含まない層に依存するため、所望の
表面性を有し、かつ十分な機械強度の磁気記録媒体が実
現可能である。
を占める無機粒子を含まない層に依存するため、所望の
表面性を有し、かつ十分な機械強度の磁気記録媒体が実
現可能である。
また、十分低い摩擦係数を得るためには前述の様な表面
粗度が必要であるが、フィルム全体に無機粒子を分散さ
せると、磁気記録層３の表面も同様な表面粗度となり、
高密度記録用としては好ましいものではなくなる。本発
明によれば、磁気記録層３側はきわめて平滑で、裏面の
み適度な表面粗さの磁気記録媒体が実現可能である。
粗度が必要であるが、フィルム全体に無機粒子を分散さ
せると、磁気記録層３の表面も同様な表面粗度となり、
高密度記録用としては好ましいものではなくなる。本発
明によれば、磁気記録層３側はきわめて平滑で、裏面の
み適度な表面粗さの磁気記録媒体が実現可能である。
さらに、従来磁気テープ等に使用されているバックコー
ド層と比較すると、基体のフィルムの段階で表面凹凸を
形成しているため、その後の前処理、磁気記録層、保護
層、潤滑層の形成や後処理等の工程中でのフィルム走行
性が良く、またフィルム原反保存中でのブロッキングも
発生しにくい。さらに凹凸を付与している層（ポリイミ
ドコーティング層２）も耐熱性が高く後工程での加熱に
十分耐えうるものである。
ド層と比較すると、基体のフィルムの段階で表面凹凸を
形成しているため、その後の前処理、磁気記録層、保護
層、潤滑層の形成や後処理等の工程中でのフィルム走行
性が良く、またフィルム原反保存中でのブロッキングも
発生しにくい。さらに凹凸を付与している層（ポリイミ
ドコーティング層２）も耐熱性が高く後工程での加熱に
十分耐えうるものである。
［実施例］ 以下、実施例にもとづき本発明を詳しく説明する。
実施例１ パラフェニレンジアミン30モル％、ジアミノジフェニー
ルエーテル70モル％、ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物50モル％、ピロメリット酸二無水物50モル％をN,N
−ジメチルアセトアミドに溶解して得たポリアミック酸
溶液を平滑なステンレスベルトに流延し120℃で溶媒を
除去し約15μ厚のポリアミック酸フィルムを作製した。
このポリアミック酸フィルムのステンレスベルト接触面
側に平均粒径0.2μｍのTiO2微粒子を分散させた上記と
同一組成のポリアミック酸溶液をグラビアロールで塗布
し120℃で溶媒を乾燥した。この積層ポリアミック酸フ
ィルムを400℃の加熱炉中で完全にイミド化し全厚略９
μｍのポリイミドフィルムを得た。このポリイミドコー
ティング層面の表面粗さは十点閉館粗さで0.14μｍで突
起密度は４×104ケ/mm2であった。
ルエーテル70モル％、ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物50モル％、ピロメリット酸二無水物50モル％をN,N
−ジメチルアセトアミドに溶解して得たポリアミック酸
溶液を平滑なステンレスベルトに流延し120℃で溶媒を
除去し約15μ厚のポリアミック酸フィルムを作製した。
このポリアミック酸フィルムのステンレスベルト接触面
側に平均粒径0.2μｍのTiO2微粒子を分散させた上記と
同一組成のポリアミック酸溶液をグラビアロールで塗布
し120℃で溶媒を乾燥した。この積層ポリアミック酸フ
ィルムを400℃の加熱炉中で完全にイミド化し全厚略９
μｍのポリイミドフィルムを得た。このポリイミドコー
ティング層面の表面粗さは十点閉館粗さで0.14μｍで突
起密度は４×104ケ/mm2であった。
このポリイミドコーティング層と反対面に、磁気記録層
として高周波スパッタリング法により、Co−Cr20wt％膜
を0.3μｍ形成し、さらにその上に保護層として主とし
てCo3O4からなるCo酸化膜を120Å形成し、これを8mm巾
に裁断して8mmビデオテープを作製した。この試作テー
プについて磁気記録層と反対面について、4mmφSUS棒に
対する摩擦係数の測定と、8mmVTRで録再したときのドロ
ップアウト（−16dB,15μＳ）の測定をした。その結果
は、表に示す様に、摩擦係数は初回および100回測定後
も小さく、またドロップアウトも少ない。本試作テープ
はVTRでの走行が安定しているだけでなく、テープ作製
の各工程においても、ブロッキングや走行ムラ，巻きム
ラがなく、取扱いが容易であった。さらにプラスチック
フィルムの粘着テープを用いた剥離テスト（ピーリング
テスト）に対してポリイミドコーティング層のはがれは
見られなかった。
として高周波スパッタリング法により、Co−Cr20wt％膜
を0.3μｍ形成し、さらにその上に保護層として主とし
てCo3O4からなるCo酸化膜を120Å形成し、これを8mm巾
に裁断して8mmビデオテープを作製した。この試作テー
プについて磁気記録層と反対面について、4mmφSUS棒に
対する摩擦係数の測定と、8mmVTRで録再したときのドロ
ップアウト（−16dB,15μＳ）の測定をした。その結果
は、表に示す様に、摩擦係数は初回および100回測定後
も小さく、またドロップアウトも少ない。本試作テープ
はVTRでの走行が安定しているだけでなく、テープ作製
の各工程においても、ブロッキングや走行ムラ，巻きム
ラがなく、取扱いが容易であった。さらにプラスチック
フィルムの粘着テープを用いた剥離テスト（ピーリング
テスト）に対してポリイミドコーティング層のはがれは
見られなかった。
実施例２ 実施例１においては無機粒子を平均粒径0.08μｍのSiO2
とした以外は実施例１同一材料、同一工程で8mmビデオ
テープを作製した。このテープのポリイミドコーティン
グ層面の表面粗さは十点平均粗さで0.062μｍ、突起密
度は７×104個/mm2であった。
とした以外は実施例１同一材料、同一工程で8mmビデオ
テープを作製した。このテープのポリイミドコーティン
グ層面の表面粗さは十点平均粗さで0.062μｍ、突起密
度は７×104個/mm2であった。
比較例１ 実施例１と同一組成で無機粒子を分散させたポリイミド
コーティング層なしのポリイミドフィルムを基体に使用
し、実施例１と同一材料、同一工程で磁気記録層、保護
層を形成して8mmビデオテープを作製した。この比較例
テープは、テープ作製工程で巻きムラ、巻きジワを生
じ、良品テープ歩留りが極めて悪かった。また、表に示
した様に、摩擦係数が大きいために、デッキ内の走行性
が悪く、またカセットリールで巻きづれを起こしテープ
エッジがいたんだ。
コーティング層なしのポリイミドフィルムを基体に使用
し、実施例１と同一材料、同一工程で磁気記録層、保護
層を形成して8mmビデオテープを作製した。この比較例
テープは、テープ作製工程で巻きムラ、巻きジワを生
じ、良品テープ歩留りが極めて悪かった。また、表に示
した様に、摩擦係数が大きいために、デッキ内の走行性
が悪く、またカセットリールで巻きづれを起こしテープ
エッジがいたんだ。
実施例３ 芳香族ジアミンをパラフェニレンジアミンのみとし、芳
香族テトラカルボン酸としてビフェニルテトラカルボン
酸二無水物80モル％とピロメリット酸二無水物20モル％
とした他は実施例１と同一方法にて、無機粒子を分散し
たポリイミドコーティング層を積層した全厚９μｍのポ
リイミドフィルムを作製した。このポリイミドフィルム
を基体として、ポリイミドコーティング層と反対面に電
子ビーム連続蒸着装置によりCo−Ni 20wt％を斜め蒸着
し、厚み0.15μｍの磁気記録層を形成した。その際、Co
−Ni膜上層を堆積中に酸素と反応させることにより、磁
気記録層表面およそ200ÅをCo−Ni酸化物層とした。さ
らに磁気記録層上に、潤滑層としてFEPを、同じく真空
蒸着法により平均厚み15Å形成し、8mmビデオテープを
作製した。
香族テトラカルボン酸としてビフェニルテトラカルボン
酸二無水物80モル％とピロメリット酸二無水物20モル％
とした他は実施例１と同一方法にて、無機粒子を分散し
たポリイミドコーティング層を積層した全厚９μｍのポ
リイミドフィルムを作製した。このポリイミドフィルム
を基体として、ポリイミドコーティング層と反対面に電
子ビーム連続蒸着装置によりCo−Ni 20wt％を斜め蒸着
し、厚み0.15μｍの磁気記録層を形成した。その際、Co
−Ni膜上層を堆積中に酸素と反応させることにより、磁
気記録層表面およそ200ÅをCo−Ni酸化物層とした。さ
らに磁気記録層上に、潤滑層としてFEPを、同じく真空
蒸着法により平均厚み15Å形成し、8mmビデオテープを
作製した。
比較例２ 実施例３と同一材料を使用し、ステンレスベルト接触面
と反対面にポリイミドコーティング層を形成したポリイ
ミドフィルムのポリイミドコーティング面と反対面に、
実施例３と同一材料、同一工程により磁気記録層、潤滑
層を形成し、8mmビデオテープを作製した。実施例３、
比較例２の磁気テープについて実施例１と同一の測定を
したところ、摩擦係数、デッキでの走行性については差
がなかったものの、比較例２のテープは、ドロップアウ
トが多く、ビデオテープとして実用性に欠けるものであ
った。
と反対面にポリイミドコーティング層を形成したポリイ
ミドフィルムのポリイミドコーティング面と反対面に、
実施例３と同一材料、同一工程により磁気記録層、潤滑
層を形成し、8mmビデオテープを作製した。実施例３、
比較例２の磁気テープについて実施例１と同一の測定を
したところ、摩擦係数、デッキでの走行性については差
がなかったものの、比較例２のテープは、ドロップアウ
トが多く、ビデオテープとして実用性に欠けるものであ
った。
比較例３ 実施例３において、ポリイミドコーティング層を、イミ
ド化が完了したポリイミドフィルム上に形成したポリイ
ミドフィルムを基体に用いて磁気テープを作製した。こ
の磁気テープは、実施例３と同じ性能を示すが、ピーリ
ングテストによりポリイミドコーティング層が剥離し
た。
ド化が完了したポリイミドフィルム上に形成したポリイ
ミドフィルムを基体に用いて磁気テープを作製した。こ
の磁気テープは、実施例３と同じ性能を示すが、ピーリ
ングテストによりポリイミドコーティング層が剥離し
た。
［発明の効果］ 以上説明したように、支持体上に流延して作成したポリ
イミドフィルムの、前記支持体と接触していた面に、無
機粒子の分散したポリイミドコーティング層を設け、前
記コーティング層とは反対側の面に磁気記録層を設けた
本発明の磁気記録媒体は、ブロッキングを起こしにく
く、かつ録再機器内の走行性が良いばかりでなく、製造
工程内でのフィルム搬送を容易ならしめるものである。
イミドフィルムの、前記支持体と接触していた面に、無
機粒子の分散したポリイミドコーティング層を設け、前
記コーティング層とは反対側の面に磁気記録層を設けた
本発明の磁気記録媒体は、ブロッキングを起こしにく
く、かつ録再機器内の走行性が良いばかりでなく、製造
工程内でのフィルム搬送を容易ならしめるものである。
図は本発明の磁気記録媒体の断面概略図の一例である。 １……ポリイミドフィルム、 ２……ポリイミドコーティング層、 ３……磁気記録層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 謙二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−261045（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−91529（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−219335（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−131623（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】支持体上に流延して作成したポリイミドフ
ィルムの、前記支持体と接触していた面に、無機粒子の
分散したポリイミドコーティング層を有し、前記コーテ
ィング層とは反対側の面に磁気記録層を有することを特
徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021997A JPH0766524B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 磁気記録媒体 |
| DE3888860T DE3888860T2 (de) | 1987-02-02 | 1988-01-29 | Magnetischer Aufzeichnungsträger. |
| EP19880300791 EP0277783B1 (en) | 1987-02-02 | 1988-01-29 | Magnetic recording medium |
| US07/151,310 US4910068A (en) | 1987-02-02 | 1988-02-01 | Magnetic recording medium |
| US07/789,791 US5139849A (en) | 1987-02-02 | 1991-11-12 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021997A JPH0766524B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63188825A JPS63188825A (ja) | 1988-08-04 |
| JPH0766524B2 true JPH0766524B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=12070658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62021997A Expired - Fee Related JPH0766524B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0766524B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0762082B2 (ja) * | 1988-07-29 | 1995-07-05 | 宇部興産株式会社 | 記録媒体用ポリイミドフィルム及びその製法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5891529A (ja) * | 1981-11-24 | 1983-05-31 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS59219335A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-10 | Teijin Ltd | 耐熱性の積層フイルムまたはシ−トの製造法 |
| JPS60131623A (ja) * | 1983-12-19 | 1985-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS60261045A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスク検査装置 |
-
1987
- 1987-02-02 JP JP62021997A patent/JPH0766524B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63188825A (ja) | 1988-08-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |