JPH06101117B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH06101117B2 JPH06101117B2 JP62021995A JP2199587A JPH06101117B2 JP H06101117 B2 JPH06101117 B2 JP H06101117B2 JP 62021995 A JP62021995 A JP 62021995A JP 2199587 A JP2199587 A JP 2199587A JP H06101117 B2 JPH06101117 B2 JP H06101117B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- film
- recording medium
- layer
- polyimide
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ポリイミドフィルムを基体に用いた磁気記録
媒体に関する。
媒体に関する。
［従来の技術］ 従来、磁気記録媒体としては、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、あるいはメッキ法等の薄膜堆積法を用いた薄膜
型磁気記録媒体と、磁性粉塗布型磁気記録媒体が知られ
ている。特に薄膜型磁気記録媒体は、現在汎用されてい
る磁性粉塗布型記録媒体に比べ、記録密度の向上が可能
であり、次世代の記録媒体として有望視されている。
ング法、あるいはメッキ法等の薄膜堆積法を用いた薄膜
型磁気記録媒体と、磁性粉塗布型磁気記録媒体が知られ
ている。特に薄膜型磁気記録媒体は、現在汎用されてい
る磁性粉塗布型記録媒体に比べ、記録密度の向上が可能
であり、次世代の記録媒体として有望視されている。
一方、この薄膜型磁気記録媒体の製造に際しては、蒸発
源からの輻射熱や入射粒子エネルギーによる基体フィル
ムの熱負けがある。また、垂直磁気記録媒体のCo−Cr合
金のように、十分な磁気特性を得るためには高温での成
膜が必要な場合も有る。この様に、基体には耐熱性の良
い事が要求されるため、テープやフロッピーディスク用
のフレキシブルな基体には、一般のポリエステルよりさ
らに耐熱性の良い、例えばポリイミドフィルムが適する
とされている。
源からの輻射熱や入射粒子エネルギーによる基体フィル
ムの熱負けがある。また、垂直磁気記録媒体のCo−Cr合
金のように、十分な磁気特性を得るためには高温での成
膜が必要な場合も有る。この様に、基体には耐熱性の良
い事が要求されるため、テープやフロッピーディスク用
のフレキシブルな基体には、一般のポリエステルよりさ
らに耐熱性の良い、例えばポリイミドフィルムが適する
とされている。
一方、磁気記録媒体においては、記録層の性能を引き出
し、かつそれを長期間維持することが必要であることは
言うまでもない。それ故、磁気記録層の特性以外にも、
磁気記録媒体の表面性や保護あるいは潤滑性が重要であ
る。特に薄膜型磁気記録媒体の表面性は、基体の表面性
が反映され易いため、基体の表面凹凸の微細な制御が磁
気記録媒体の出力向上、耐久性、走行性向上の点で極め
て重要である。
し、かつそれを長期間維持することが必要であることは
言うまでもない。それ故、磁気記録層の特性以外にも、
磁気記録媒体の表面性や保護あるいは潤滑性が重要であ
る。特に薄膜型磁気記録媒体の表面性は、基体の表面性
が反映され易いため、基体の表面凹凸の微細な制御が磁
気記録媒体の出力向上、耐久性、走行性向上の点で極め
て重要である。
そこで基体上にシリコーン系等のエマルジョンを塗布
し、ミミズ状あるいは山脈状の凹凸を形成する等の方法
が提案されている（特開昭56−10455号）。
し、ミミズ状あるいは山脈状の凹凸を形成する等の方法
が提案されている（特開昭56−10455号）。
［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、ポリエステルフィルムに対しては上記方
法で使用できるが、ポリイミドフィルムには適用できな
いため、ポリイミドフィルムに対して有効な表面凹凸形
成法が要望されている。
法で使用できるが、ポリイミドフィルムには適用できな
いため、ポリイミドフィルムに対して有効な表面凹凸形
成法が要望されている。
本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、録
再特性のみならず耐久性、走行性に優れた薄膜型磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
再特性のみならず耐久性、走行性に優れた薄膜型磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するために本発明において講じられた手
段を、添付の図面を参照しつつ説明すると、本発明は、
片面に無機粒子が分散されたポリイミドコーティング層
を有するポリイミドフィルムの当該ポリイミドコーティ
ング層上に磁気記録層が設けられている磁気記録媒体と
するという手段を講じているものである。
段を、添付の図面を参照しつつ説明すると、本発明は、
片面に無機粒子が分散されたポリイミドコーティング層
を有するポリイミドフィルムの当該ポリイミドコーティ
ング層上に磁気記録層が設けられている磁気記録媒体と
するという手段を講じているものである。
上記本発明の磁気記録媒体は、芳香族ジアミンと芳香族
テトラカルボン酸を溶媒中で重合したポリアミック酸溶
液を平面上に流延して脱溶媒して作製したポリアミック
酸フィルム上に、無機粒子を分散したポリアミック酸溶
液を塗布したのち脱溶媒およびイミド化して得た、片面
に無機粒子が分散されたポリイミドコーティング層２を
有するポリイミドフィルム１の無機粒子分散面に磁気記
録層３を形成することによって製造することができる。
テトラカルボン酸を溶媒中で重合したポリアミック酸溶
液を平面上に流延して脱溶媒して作製したポリアミック
酸フィルム上に、無機粒子を分散したポリアミック酸溶
液を塗布したのち脱溶媒およびイミド化して得た、片面
に無機粒子が分散されたポリイミドコーティング層２を
有するポリイミドフィルム１の無機粒子分散面に磁気記
録層３を形成することによって製造することができる。
第１図に示した以外の構成例としては、磁気記録層３を
ポリイミドフィルム１とポリイミドコーティング層２か
らなる基体の両面に形成したもの、磁気記録層３上に保
護層あるいは潤滑層またはその両方を有するもの、基体
の磁気記録層３と反対の面に、走行性改善を目的とした
バックコート層を有する構成等が挙げられる。
ポリイミドフィルム１とポリイミドコーティング層２か
らなる基体の両面に形成したもの、磁気記録層３上に保
護層あるいは潤滑層またはその両方を有するもの、基体
の磁気記録層３と反対の面に、走行性改善を目的とした
バックコート層を有する構成等が挙げられる。
ポリイミドフィルム１は、通常、芳香族テトラカルボン
酸と芳香族ジアミンを重合したポリアミック酸溶液を平
面上に流延し、脱溶媒ののち高温でイミド化して作製さ
れる。芳香族テトラカルボン酸としては、例えばピロメ
リット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無
水物等、芳香族ジアミンとしては、例えばパラフェニレ
ンジアミン，ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミ
ノナフタレン等が挙げられる。中でもテトラカルボン酸
として、ピロメリット酸二無水物（PMDA）あるいは3,
3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸（BPDA）、ジ
アミンとして、パラフェニレンジアミン（PPD）あるい
はジアミノジフェニルエーテル（DADE）を用いることが
好ましい。これらを単独ずつで重合しても良いが、さら
に前記４つの成分の３種あるいは４種を共重合させるこ
とにより、磁気記録媒体として所望の機械物性あるいは
熱物性を有するポリイミドフィルム１の製造が可能であ
る。
酸と芳香族ジアミンを重合したポリアミック酸溶液を平
面上に流延し、脱溶媒ののち高温でイミド化して作製さ
れる。芳香族テトラカルボン酸としては、例えばピロメ
リット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無
水物等、芳香族ジアミンとしては、例えばパラフェニレ
ンジアミン，ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミ
ノナフタレン等が挙げられる。中でもテトラカルボン酸
として、ピロメリット酸二無水物（PMDA）あるいは3,
3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸（BPDA）、ジ
アミンとして、パラフェニレンジアミン（PPD）あるい
はジアミノジフェニルエーテル（DADE）を用いることが
好ましい。これらを単独ずつで重合しても良いが、さら
に前記４つの成分の３種あるいは４種を共重合させるこ
とにより、磁気記録媒体として所望の機械物性あるいは
熱物性を有するポリイミドフィルム１の製造が可能であ
る。
機械的及び熱的性質などを磁気記録媒体にとって好適に
するためには、芳香族ポリアミック酸を生成するために
使用されているジアミン成分は、全ジアミン成分に対し
て約40〜95モル％、特に45〜90モル％範囲の使用量割合
のPPDと、全ジアミン成分に対して約５〜60モル％、特
に10〜55モル％の使用量割合のDADEとの２成分からなる
ことが好ましい。また、芳香族ポリアミック酸を生成す
るためのテトラカルボン酸成分は、全テトラカルボン酸
成分に対して約10〜90モル％、特に15〜85モル％の使用
量割合のBPDAと、全テトラカルボン酸成分に対して約10
〜90モル％、特に15〜85モル％の使用量割合のPMDAとか
らなることが好ましいのである。
するためには、芳香族ポリアミック酸を生成するために
使用されているジアミン成分は、全ジアミン成分に対し
て約40〜95モル％、特に45〜90モル％範囲の使用量割合
のPPDと、全ジアミン成分に対して約５〜60モル％、特
に10〜55モル％の使用量割合のDADEとの２成分からなる
ことが好ましい。また、芳香族ポリアミック酸を生成す
るためのテトラカルボン酸成分は、全テトラカルボン酸
成分に対して約10〜90モル％、特に15〜85モル％の使用
量割合のBPDAと、全テトラカルボン酸成分に対して約10
〜90モル％、特に15〜85モル％の使用量割合のPMDAとか
らなることが好ましいのである。
ポリアミック酸フィルム（イミド化ののちはポリイミド
フィルム１）上に、コーティングされる無機粒子を含む
ポリアミック酸溶液（イミド化ののちはポリイミドコー
ティング層２）のポリアミック酸は、ポリイミドフィル
ム１と同質の座であっても良いし、あるいは異なったも
のでも同様の効果が得られる。テトラカルボン酸とジア
ミンを溶媒中に混合したポリアミック酸溶液を平坦な金
属あるいはガラス上に流延した後溶媒を蒸発除去して形
成したポリアミック酸フィルム上にポリイミドコーティ
ング層２となる無機粒子を含むポリアミック溶液を塗布
し、その後高温で重合イミド化をすると、ポリイミドフ
ィルム１とポリイミドコーティング層２の強い付着が得
られるので好ましい。
フィルム１）上に、コーティングされる無機粒子を含む
ポリアミック酸溶液（イミド化ののちはポリイミドコー
ティング層２）のポリアミック酸は、ポリイミドフィル
ム１と同質の座であっても良いし、あるいは異なったも
のでも同様の効果が得られる。テトラカルボン酸とジア
ミンを溶媒中に混合したポリアミック酸溶液を平坦な金
属あるいはガラス上に流延した後溶媒を蒸発除去して形
成したポリアミック酸フィルム上にポリイミドコーティ
ング層２となる無機粒子を含むポリアミック溶液を塗布
し、その後高温で重合イミド化をすると、ポリイミドフ
ィルム１とポリイミドコーティング層２の強い付着が得
られるので好ましい。
ポリイミドコーティング層２の形成法としては、グラビ
アやリバース等のロールコート法やバーコート法、スピ
ンコート法等の塗布方法が使用可能である。そして、そ
の後の重合イミド化によって形成される無機粒子を含む
ポリイミドコーティング層２により、基体（１と２の積
層フィルム）上に一定の表面粗度が形成される。
アやリバース等のロールコート法やバーコート法、スピ
ンコート法等の塗布方法が使用可能である。そして、そ
の後の重合イミド化によって形成される無機粒子を含む
ポリイミドコーティング層２により、基体（１と２の積
層フィルム）上に一定の表面粗度が形成される。
無機粒子としては、カーボンや金属の微粒子、Al2O3，S
iO2，TiO2,MgO等の金属酸化物の微粒子が用いられる。
無機粒子の粒径と含有量は、形成する表面粗度の値によ
り調整されるものであり、磁気記録媒体用基体の表面粗
度としては、十点平均粗さRz（テーラーホブソン製，タ
リステップにて測定）で100〜600Åでかつ突起密度が10
5〜108個／mm2のものが好ましい。この様な表面粗度を
有する基体上に磁気記録層３を形成した磁気記録媒体
は、摩擦の低減により、走行性が向上しかつ耐久性も向
上するものである。Rzが上記値以下では、摩擦の低減も
しくは耐久性向上の効果が低く、また、Rzが上記値以上
の場合は、ヘッドと磁気記録媒体間のスペーシングロス
が大きくなり、再生出力が低下する。また、突起密度も
上記値以下では、耐久性向上の効果が低く、また上記値
を越えると、粒子の凝集により、粗大な突起を生じ易く
なり、これがドロップアウトの原因となる。上記表面粗
度を形成するために使用される無機微粒子は、平均粒径
0.02μから0.1μの範囲が好ましく、0.03μから0.07μ
の範囲のものがさらに好ましい。
iO2，TiO2,MgO等の金属酸化物の微粒子が用いられる。
無機粒子の粒径と含有量は、形成する表面粗度の値によ
り調整されるものであり、磁気記録媒体用基体の表面粗
度としては、十点平均粗さRz（テーラーホブソン製，タ
リステップにて測定）で100〜600Åでかつ突起密度が10
5〜108個／mm2のものが好ましい。この様な表面粗度を
有する基体上に磁気記録層３を形成した磁気記録媒体
は、摩擦の低減により、走行性が向上しかつ耐久性も向
上するものである。Rzが上記値以下では、摩擦の低減も
しくは耐久性向上の効果が低く、また、Rzが上記値以上
の場合は、ヘッドと磁気記録媒体間のスペーシングロス
が大きくなり、再生出力が低下する。また、突起密度も
上記値以下では、耐久性向上の効果が低く、また上記値
を越えると、粒子の凝集により、粗大な突起を生じ易く
なり、これがドロップアウトの原因となる。上記表面粗
度を形成するために使用される無機微粒子は、平均粒径
0.02μから0.1μの範囲が好ましく、0.03μから0.07μ
の範囲のものがさらに好ましい。
以上に説明した方法により、表面に微細な凹凸を有する
基体上に形成する磁気記録層３としては、Fe,Ni,Co等を
主成分とする強磁性合金あるいは強磁性酸化物、強磁性
窒化物薄膜が好ましい。すなわちFe,Co,Co−Ni,Co−P,C
o−Pt,Co−Cr,Co−Cr−Ta,Co−V,Co−Rh,Co−O,Co−Ni
−O,Co−N,Fe−Ｎ等を真空蒸着法、スパッタリング法、
メッキ法で形成した保磁力が300Oe以上、膜厚0.05〜１
μの強磁性薄膜である。中でも膜面に垂直方向が容易軸
方向の垂直磁気異方性を有するCo−Cr,Co−Cr−Ta,Co−
V,Co−Rh,Co−Ｏ膜等は高密度記録特性が良く、磁気記
録媒体として有用である。磁気記録層３は、単一層でも
良いし，磁性あるいは非磁性層と積層されている構成で
ももちろん良い。
基体上に形成する磁気記録層３としては、Fe,Ni,Co等を
主成分とする強磁性合金あるいは強磁性酸化物、強磁性
窒化物薄膜が好ましい。すなわちFe,Co,Co−Ni,Co−P,C
o−Pt,Co−Cr,Co−Cr−Ta,Co−V,Co−Rh,Co−O,Co−Ni
−O,Co−N,Fe−Ｎ等を真空蒸着法、スパッタリング法、
メッキ法で形成した保磁力が300Oe以上、膜厚0.05〜１
μの強磁性薄膜である。中でも膜面に垂直方向が容易軸
方向の垂直磁気異方性を有するCo−Cr,Co−Cr−Ta,Co−
V,Co−Rh,Co−Ｏ膜等は高密度記録特性が良く、磁気記
録媒体として有用である。磁気記録層３は、単一層でも
良いし，磁性あるいは非磁性層と積層されている構成で
ももちろん良い。
磁気記録層３の熱膨張係数αは、大略１〜2.0×10-5で
あり基体ポリイミドフィルム１のαも前記値に近いも
の、具体的には0.7〜2.5×10-5の範囲が好ましい。
あり基体ポリイミドフィルム１のαも前記値に近いも
の、具体的には0.7〜2.5×10-5の範囲が好ましい。
金属あるいは酸化物あるいは窒化物薄膜磁気記録層３は
それ自体では耐食性やヘッドもしくは記録再生機器部材
との摺動に対する耐摩耗性が十分とはいえない。そのた
め磁気記録層３上に金属酸化物、窒化物、炭化物、ホウ
化物あるいはカーボン膜や、高級脂肪酸、高級脂肪酸エ
ステル、フッ素オイル、パーフルオロカルボン酸、フッ
素樹脂等の保護層又は潤滑層を形成することが好まし
い。具体的には、SiO2，Al2O3，Co3O4,TiN,Si3N4,BN,Si
C,WC,ZrB2，HfB2，ステアリン酸，ステアリン酸金属
塩，パーフルオロアルキルポリエーテル,PTFE,FEP,アク
リルエステル化合物等の層を挙げることができる。保護
層あるいは潤滑層材料は単独で用いられることもある
が、複数組み合わせて使用しても良い。
それ自体では耐食性やヘッドもしくは記録再生機器部材
との摺動に対する耐摩耗性が十分とはいえない。そのた
め磁気記録層３上に金属酸化物、窒化物、炭化物、ホウ
化物あるいはカーボン膜や、高級脂肪酸、高級脂肪酸エ
ステル、フッ素オイル、パーフルオロカルボン酸、フッ
素樹脂等の保護層又は潤滑層を形成することが好まし
い。具体的には、SiO2，Al2O3，Co3O4,TiN,Si3N4,BN,Si
C,WC,ZrB2，HfB2，ステアリン酸，ステアリン酸金属
塩，パーフルオロアルキルポリエーテル,PTFE,FEP,アク
リルエステル化合物等の層を挙げることができる。保護
層あるいは潤滑層材料は単独で用いられることもある
が、複数組み合わせて使用しても良い。
磁気記録層３側の摩擦係数は、ポリイミドフィルム表面
に形成したポリイミドコーティング層２による微細な凹
凸と潤滑層の形成等により実用的な値にすることが可能
であるが、磁気テープとして使用する場合は、磁気記録
層３と反対面についても適当なバックコート層を形成
し、摩擦係数の低減をはかることが望ましい。バックコ
ート層としては、カーボンブラック、グラファイト、Si
O2，Al2O3，TiO2，CaCO3等の微粒子を、ポリウレタン、
ポリエステル、塩化ビニル、硝化綿等の結合剤中に分散
させた塗布膜が一般的に用いられる。
に形成したポリイミドコーティング層２による微細な凹
凸と潤滑層の形成等により実用的な値にすることが可能
であるが、磁気テープとして使用する場合は、磁気記録
層３と反対面についても適当なバックコート層を形成
し、摩擦係数の低減をはかることが望ましい。バックコ
ート層としては、カーボンブラック、グラファイト、Si
O2，Al2O3，TiO2，CaCO3等の微粒子を、ポリウレタン、
ポリエステル、塩化ビニル、硝化綿等の結合剤中に分散
させた塗布膜が一般的に用いられる。
［作用］ 本発明の様に、基耐を無機粒子を含まない層と無機粒子
を分散させた層の積層構造とすることの利点は、ポリイ
ミドフィルム１全体に無機粒子を多量に分散させること
により生ずるフィルムの機械強度の低下を招かないこと
である。すなわち所望の表面性（表面粗度）を実現する
ために無機粒子を体積比で数パーセントを越えてフィル
ム全体に混入させるとフィルムの引張強度が低下し磁気
記録媒体として好ましくないものとなる。一方本発明の
構成によれば、機械強度は厚みの大部分を占める無機粒
子を含まないポリイミドフィルム１の層に依存するた
め、所望の表面性を有し十分な機械強度の磁気記録媒体
が実現可能である。
を分散させた層の積層構造とすることの利点は、ポリイ
ミドフィルム１全体に無機粒子を多量に分散させること
により生ずるフィルムの機械強度の低下を招かないこと
である。すなわち所望の表面性（表面粗度）を実現する
ために無機粒子を体積比で数パーセントを越えてフィル
ム全体に混入させるとフィルムの引張強度が低下し磁気
記録媒体として好ましくないものとなる。一方本発明の
構成によれば、機械強度は厚みの大部分を占める無機粒
子を含まないポリイミドフィルム１の層に依存するた
め、所望の表面性を有し十分な機械強度の磁気記録媒体
が実現可能である。
［実施例］ 以下、実施例にもとずき、本発明を詳しく説明する。
実施例１ パラフェニレンジアミン30モル％、ジアミノジフェニー
ルエーテル70モル％、ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物50モル％、ピロメリット酸二無水物50モル％をN,N
−ジメチルアセトアミドに溶解して得たポリアミック酸
溶液を、平滑なステンレスベルトに流延し、120℃で溶
媒を除去し、約15μ厚のポリアミック酸フィルムを形成
した。このポリアミック酸フィルム上に、平均粒径200
Å,400Å,700Å,1000ÅのSiO2微粒子を分散させた前記
ポリアミック酸溶液をマイクログラビアロールで塗布
し、120℃で乾燥した。その後、400℃の加熱炉中で完全
にイミド化し、全厚９μのポリイミドフィルムを得た。
SiO2微粒子により、このポリイミドフィルム上には表に
示す突起高さと突起の密度の凹凸が形成された。こうし
て得られたポリイミドフィルムの表面凹凸形成面に、ポ
リイミドを150℃に加熱しつつCo 80％−Cr 20％から
なる磁性層を高周波スパッタ法で0.35μ形成した。さら
に、Co−Cr膜上にCo酸化膜を120Å、FEPを平均厚み10Å
で形成し磁気テープを作製した。こうして作製した磁気
テープについて磁性層面側の４φステンレス棒に対する
摩擦係数μ（初回と100回摺動後の値）および市販8mmビ
デオデッキを改造したデッキを用いたRF出力値とスチル
耐久時間を測定した結果を表に示す。いずれの磁気テー
プも20分以上出力の大きな低下（3dB以上の低下）がな
く、良好な耐久性を示した。さらにプラスチックフィル
ムの粘着テープによる磁性層面の付着力テスト（ピーリ
ングテスト）においても、磁気記録層のはがれを生じな
かった。
ルエーテル70モル％、ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物50モル％、ピロメリット酸二無水物50モル％をN,N
−ジメチルアセトアミドに溶解して得たポリアミック酸
溶液を、平滑なステンレスベルトに流延し、120℃で溶
媒を除去し、約15μ厚のポリアミック酸フィルムを形成
した。このポリアミック酸フィルム上に、平均粒径200
Å,400Å,700Å,1000ÅのSiO2微粒子を分散させた前記
ポリアミック酸溶液をマイクログラビアロールで塗布
し、120℃で乾燥した。その後、400℃の加熱炉中で完全
にイミド化し、全厚９μのポリイミドフィルムを得た。
SiO2微粒子により、このポリイミドフィルム上には表に
示す突起高さと突起の密度の凹凸が形成された。こうし
て得られたポリイミドフィルムの表面凹凸形成面に、ポ
リイミドを150℃に加熱しつつCo 80％−Cr 20％から
なる磁性層を高周波スパッタ法で0.35μ形成した。さら
に、Co−Cr膜上にCo酸化膜を120Å、FEPを平均厚み10Å
で形成し磁気テープを作製した。こうして作製した磁気
テープについて磁性層面側の４φステンレス棒に対する
摩擦係数μ（初回と100回摺動後の値）および市販8mmビ
デオデッキを改造したデッキを用いたRF出力値とスチル
耐久時間を測定した結果を表に示す。いずれの磁気テー
プも20分以上出力の大きな低下（3dB以上の低下）がな
く、良好な耐久性を示した。さらにプラスチックフィル
ムの粘着テープによる磁性層面の付着力テスト（ピーリ
ングテスト）においても、磁気記録層のはがれを生じな
かった。
実施例２ 芳香族ジアミン成分として、パラフェニレンジアミンを
60モル％、ジアミノジフェニールエーテルを40モル％、
芳香族テトラカルボン酸として、ビフェニールテトラカ
ルボン酸二無水物を70モル％、ピロメリット酸二無水物
を30モル％とし、さらにSiO2微粒子に代えて、TiO2微粒
子を用いて実施例１と同一方法により全厚９μのポリイ
ミドフィルムを作製した。このポリイミドフィルム上に
プラズマ表面処理を施した後、室温でFe−Ni80wt％膜を
0.3μ、ひきつづきポリイミドフィルムを220℃に昇温
し、Co−Cr21wt％膜を0.15μをともに電子ビーム加熱真
空蒸着法により形成した。さらにCo−Cr膜上に保護およ
び潤滑を目的としてCo酸化物膜とパーフロロ基を側鎖に
持つアクリルエステルオリゴマー膜をそれぞれ100Å,20
Åの厚みを形成し、磁気テープを作製した。この磁気テ
ープについて実施例１と同様に付着性、摩擦係数、スチ
ル耐久時間を測定した結果、膜はがれはなく、摩擦係数
0.21、スチル60分以上、3dBを越える出力低下がなく、
良い走行性、耐久性を示した。
60モル％、ジアミノジフェニールエーテルを40モル％、
芳香族テトラカルボン酸として、ビフェニールテトラカ
ルボン酸二無水物を70モル％、ピロメリット酸二無水物
を30モル％とし、さらにSiO2微粒子に代えて、TiO2微粒
子を用いて実施例１と同一方法により全厚９μのポリイ
ミドフィルムを作製した。このポリイミドフィルム上に
プラズマ表面処理を施した後、室温でFe−Ni80wt％膜を
0.3μ、ひきつづきポリイミドフィルムを220℃に昇温
し、Co−Cr21wt％膜を0.15μをともに電子ビーム加熱真
空蒸着法により形成した。さらにCo−Cr膜上に保護およ
び潤滑を目的としてCo酸化物膜とパーフロロ基を側鎖に
持つアクリルエステルオリゴマー膜をそれぞれ100Å,20
Åの厚みを形成し、磁気テープを作製した。この磁気テ
ープについて実施例１と同様に付着性、摩擦係数、スチ
ル耐久時間を測定した結果、膜はがれはなく、摩擦係数
0.21、スチル60分以上、3dBを越える出力低下がなく、
良い走行性、耐久性を示した。
実施例３ 芳香族ジアミン成分としてパラフェニレンジアミンのみ
を用い、芳香族テトラカルボン酸としてビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物80モル％とピロメリット酸二無水
物20モル％を用い、完全イミド化まで熱処理していない
約70μ厚のポリアミック酸フィルムを作製し、この表面
に平均粒径350ÅのSiO2微粒子を分散した上記組成のポ
リアミック酸溶液を塗布したのち400℃で加熱処理し、
全厚36μのポリイミドフィルムを作製した。ポリイミド
コーティング層中に分散したSiO2微粒子により、平均高
さ170Å、突起の密度７×106個／mm2の微細な凹凸がポ
リイミドフィルム上に形成された。このポリイミドフィ
ルムの凹凸形成面上にスパッタ法でCo−Cr 20wt％膜を
150℃で0.4μ形成し、ひきつづきスパッタ法でカーボン
膜を300Å形成した。ピーリングテストで付着性を検討
した結果、ポリイミド間あるいは磁気記録層部分からの
はがれはなく、実用上十分な付着性があった。またカー
ボン膜上に潤滑剤としてパーフロロアルキルポリエーテ
ル溶液を塗布し、3.5インチフロッピーディスク装置で
パス耐久を測定したところ、100万パスのヘッド摺動後
の出力低下が0.6dBで、耐久性も極めて良好であった。
を用い、芳香族テトラカルボン酸としてビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物80モル％とピロメリット酸二無水
物20モル％を用い、完全イミド化まで熱処理していない
約70μ厚のポリアミック酸フィルムを作製し、この表面
に平均粒径350ÅのSiO2微粒子を分散した上記組成のポ
リアミック酸溶液を塗布したのち400℃で加熱処理し、
全厚36μのポリイミドフィルムを作製した。ポリイミド
コーティング層中に分散したSiO2微粒子により、平均高
さ170Å、突起の密度７×106個／mm2の微細な凹凸がポ
リイミドフィルム上に形成された。このポリイミドフィ
ルムの凹凸形成面上にスパッタ法でCo−Cr 20wt％膜を
150℃で0.4μ形成し、ひきつづきスパッタ法でカーボン
膜を300Å形成した。ピーリングテストで付着性を検討
した結果、ポリイミド間あるいは磁気記録層部分からの
はがれはなく、実用上十分な付着性があった。またカー
ボン膜上に潤滑剤としてパーフロロアルキルポリエーテ
ル溶液を塗布し、3.5インチフロッピーディスク装置で
パス耐久を測定したところ、100万パスのヘッド摺動後
の出力低下が0.6dBで、耐久性も極めて良好であった。
［発明の効果］ 以上説明した様に、ポリアミック酸フィルム上に無機微
粒子を分散させたポリアミック溶液を塗布し、これをイ
ミド化して表面に微細な凹凸を有するポリイミドフィル
ムを作製し、このポリイミドフィルムの微細凹凸面側に
磁気記録層を形成した本発明の磁気記録媒体は、磁気記
録層の脱離に対して強くかつ走行性耐久性に優れたもの
である。
粒子を分散させたポリアミック溶液を塗布し、これをイ
ミド化して表面に微細な凹凸を有するポリイミドフィル
ムを作製し、このポリイミドフィルムの微細凹凸面側に
磁気記録層を形成した本発明の磁気記録媒体は、磁気記
録層の脱離に対して強くかつ走行性耐久性に優れたもの
である。
図は本発明の磁気記録媒体の断面概略図の一例である。 １…ポリイミドフィルム、 ２…ポリイミドコーティング層、 ３…磁気記録層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 謙二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−127523（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】片面に無機粒子が分散されたポリイミドコ
ーティング層を有するポリイミドフィルムの当該ポリイ
ミドコーティング層上に磁気記録層が設けられているこ
とを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021995A JPH06101117B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 磁気記録媒体 |
| EP19880300791 EP0277783B1 (en) | 1987-02-02 | 1988-01-29 | Magnetic recording medium |
| DE19883888860 DE3888860T2 (de) | 1987-02-02 | 1988-01-29 | Magnetischer Aufzeichnungsträger. |
| US07/151,310 US4910068A (en) | 1987-02-02 | 1988-02-01 | Magnetic recording medium |
| US07/789,791 US5139849A (en) | 1987-02-02 | 1991-11-12 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021995A JPH06101117B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63188823A JPS63188823A (ja) | 1988-08-04 |
| JPH06101117B2 true JPH06101117B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=12070605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62021995A Expired - Lifetime JPH06101117B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06101117B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2555742B2 (ja) * | 1989-09-29 | 1996-11-20 | 東レ株式会社 | 積層フィルム |
| JP2004047009A (ja) * | 2002-07-15 | 2004-02-12 | Sony Corp | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60127523A (ja) * | 1983-12-14 | 1985-07-08 | Toray Ind Inc | 高密度記録媒体用ベ−スフイルム |
| JPH0628096B2 (ja) * | 1984-07-02 | 1994-04-13 | 東レ株式会社 | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
-
1987
- 1987-02-02 JP JP62021995A patent/JPH06101117B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63188823A (ja) | 1988-08-04 |
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