JPH01232533A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、磁気記録層が金属薄膜で形成された磁気記録
媒体に関する。

［従来の技術］ 近年、情報処理技術や映像処理技術の発達にともなって
、磁気記録媒体に対する大容量化、高画質化の要求がま
すます高まっている。この要求に応える為、高密度記録
の可能な磁気記録媒体の研究・開発が活発になされてい
る。特に、現在一般に使用されている塗布型磁気記録媒
体に対して、磁気記録層としてＣｏ、　Ｃｏ−Ｎｉ、　
Ｃｏ−Ｃｒ、　Ｃｏ−０なとの強磁性金属薄膜をスパッ
タリングや蒸着により基材上に形成した金属薄膜型磁気
記録媒体が高密度記録に適した媒体として有望視されて
いる。

一方、最近話題になっているスチルビデオシステムでも
、その高画質化、高密度記録化への要求から、磁気ヘッ
ド、磁気記録媒体及び信号処理等の研究開発が進められ
ている。

スチルビデオシステムに使用される磁気記録媒体は、電
子スチルカメラに収納できる大きさ、重さを考慮して、
現在のところ直径２インチのフロッピーディスクである
。

また、スチルビデオでは数〜十数ＭＨｚの高周波信号を
利用する為、磁気記録媒体とヘッド間の相対速度を上げ
て記録再生が行なわれている。通常使用されている速度
は５．６ｍ／ｓ　（３６００ｒｐｍ　）である。従って
、たとえば７　Ｍ）Ｉｚの高周波信号を利用して、相対
速度５．６ｍ／ｓで記録再生を行なうと、記録波長は０
．８μｍになる。このような短波長領域で記録再生を行
なうには、磁気記録媒体とヘッド間の接触の程度がほぼ
均一でなければならない。媒体とヘッド間の間隔が不均
一になると記録の際と再生の際にスペーシングロスを生
じ、出力の減少や変動の原因となる。

スチルビデオでは、磁気記録媒体とヘット間の間隔をほ
ぼ均一に保つために、フロッピーディスクに適当な剛性
（スティフネス）を持たせ、例えば第１３図に示すよう
に、パッド（特殊形状の案内板）７を設けてディスク６
が高速回転することにより生じる空気（エアフィルム）
を利用して、ディスク６とヘッド９とを非接触としてい
る。

尚、８はセンターコアである。このような、いわゆるヘ
ットバット型の構成を採用することにより、磁気記録媒
体およびヘッドの摩耗の防止および磁気記録媒体のヘッ
トタッチの安定が図られ、磁気記録媒体及びヘッドの耐
久性向上が図られている。このヘッドバット型電子スチ
ルカメラに用いるフロッピーディスクとしては、従来、
いわゆる塗布型磁気記録媒体が用いられていた。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、フロッピーディスクをコンパクト化する
ことによって、その電子スチルカメラ自体をコンパクト
化したり、あるいは−枚のフロッピーディスクの記録容
量を負やすことによってフロッピーディスク−枚の撮影
可能枚数を増加させたりするためには、そのディスクの
記録密度を向上させる必要がある。その記録密度の向上
を、記録波長をより短波長にすることによって実現しよ
うとすると、従来の塗布型磁気記録媒体（例えばＣｒＯ
□、　ｒ−Ｆｅ２０３等を磁性層に用いるもの）を用い
た場合は、記録信号が短波長になるにつれて、磁性層内
の反磁界が強くなり、残留磁化の減衰や回転を生じる為
、再生出力が著しく減少するという問題が生じる。

そこで、フロッピーディスクとして、高密度記録が可能
な金属薄膜磁気記録媒体を使用することが強く望まれて
いる。しかしながら、磁気ヘットと良好なヘッドタッチ
をもった金属薄膜型磁気記録媒体はまだ得られておらず
、金属薄膜型磁気記録媒体をフロッピーディスクとして
使用すると、媒体やヘッドの表面に摩耗粉やキズが発生
した。

このため、金属薄膜型のフロッピーディスクは優れた耐
久性が得られず、出力が変動する問題があった。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、上記実情に鑑みてなされたもので、走行が安
定で耐久性に優れた金属薄膜型の磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。

本発明の磁気記録媒体は、基体上に少なくとも金属薄膜
の磁気記録層を有し、全体のスティフネスＩ　／　ｋｏ
　［ｋ　ｇ　ｆ　ｍｍ］が０．３５ｘｌＯ−”≦１／ｋ
ｏ≦１．１５ｘ　ｌ　Ｑ　−１１ ［ｎは磁気記録媒体を構成する層の数］Ｅに　：第に層
のヤング率 ［単位；ｋｇｆ／ｍｍ２］ 工う　；第に層の慣性モーメント ［単位＋ｍｍ３］） であり、かつ形状がディスク状であることを特徴とする
。

［発明の態様の詳細な説明コ 本発明の磁気記録媒体は、第１図に示すように、基体１
上に金属薄膜の磁気記録層２、更に保護層３、バックコ
ート４が形成されている。

基体１は、高分子フィルムが好ましく、特にポリエチレ
ンテレフタレート、ポリスルフォン、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、アラミド等が好ましく用いられる。基体
１の表側、あるいは裏側には、フィルムの滑り性や媒体
の走行性、耐久性を向上させる為に、微細突起を形成し
ても良い。ただし、基体１の表面粗さは、スペーシング
ロスによる出力低下やドロップアウトを考慮すると、最
大高さが０．０５μｍ以下であることが好ましい。

また、磁気記録媒体の走行性を良くするため、基体ｌ中
に不活性粒子を添加してもよい。不活性粒子としては、
カーボン、ＣａＣＯ３，ＢａＳＯ４゜５ｉＯｚ、　Ｔｉ
Ｏ２等が用いられるが、その粒径は０．００５〜０．２
）ｏｎが好ましい。

磁気記録媒体の磁気特性を向上させるために、基体１上
に金属薄膜を形成する際に、熱を加える。このとき基体
１は、１００℃以上で最高１５０℃を越える温度にさら
されることがある。従って、基体１には、ガラス転移点
の高い高分子材料を選択するのが好ましい。基体１のガ
ラス転移点は１８０℃以上、更には２１０℃以上である
ことが好ましい。

耐熱性の点からは、基体１としてはポリイミドを使用す
るのが好ましい。磁気記録媒体の基体に使用するポリイ
ミドを具体的に示すと、例えばパラフェニレンジアミン
（ＰＰＤ）と下記−形成（ＩＩ　）；１１１ で表わされるビフェニルテトラカルボン酸二無水物（Ｂ
ＰＤＡ）とを縮合重合させて得られる下記−形成（Ｉ） ・・・（ＩＩ　） で表わされるポリビフェニル系イミド（ＦＢＩ）がある
。このＦＢＩは、 ■　ガラス転移温度が５００°Ｃ以上である。

■　ハロゲン化フェノールを溶媒に使用して、完全にイ
ミド化が終了してから縮合（脱水）が行なわれるので、
基体表面の粗れや結果が少なく、表面粗さをＲｍａｘ　
（最大高さ）　＜０．００５　、ｕｍまで超平滑にする
ことが可能である。

■　熱膨張係数がｌ　Ｘ　１０−６〜３　Ｘ　１０−’
ｃｍ／ｃｍ／°Ｃなので、磁気記録層として用いられる
金属薄膜層と熱膨張係数が近似しており、そのため熱に
よるカールの発生が少ない。

■　ヤング率が８００〜１２００ｋｇ／ｍｍ２と高いの
で、電子スチルカメラ用フロッピーディスクとして用い
た場合に、基体の厚さを薄くすることができる。

このようなＰＢＩの市販品としては、例えば宇部興産■
製ユービレックスＳタイプなどがある。

このほか、基体として使用できるポリイミドには下記−
形成（ＩＩＩ）のもの、あるいは特開昭６１−１５８０
２５号（米国特許第４．６７３．６１２号）に記載した
もの等がある。

・・・（ＩＩＴ） 上記−形成（ｍ）のポリイミドの市販品としては、例え
ば宇部興産■製のユービレックスＲタイプなとがある。

磁気記録層２は、Ｆｅ、　ＮｉあるいはＣｏを主成分と
するもの、Ｃｏ−Ｎｉ、　Ｃｏ−Ｃｒ等の強磁性合金、
強磁性酸化物あるいは強磁性窒化物等の金属薄膜である
。磁気記録層２は、真空蒸着法、イオンブレーティング
法、スパッタリング法等の物理蒸着法、あるいはメツキ
法等で形成される。中でも真空蒸着あるいはスパッタリ
ング法等で形成したＣｒ１５〜２３ｗｔ％で残部が主に
Ｃｏから成るＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜は、従来の面内磁化
膜媒体に比べ、高密度記録用として非常に優れている。

磁気記録層２上には、耐摩耗性、潤滑性、耐蝕性を向上
させる目的で、一般には保護層３が形成される。保護層
３は、磁気記録層２表面を酸化した酸化膜、Ａｎｚ０３
．　Ｓｉｎ、　ＧＯ３０４、Ｃｏ−Ｃｒ−０゜Ｃｏ−Ｎ
ｉ−０、Ｍｏ、　Ｎｉ、ダイヤモンドライクカーボン等
の無機保１ｉ３ａと、無機保護層３ａ上に形成したフッ
素系樹脂、エステル系オリゴマー等の有機潤滑層３ａと
で構成されることが多い。しかしながら、保護層３とし
て無機保護層３ａあるいは有機保護層３ｂを単独形成し
て使用しても良い。無機保護膜３ａと有機保護膜３ｂは
、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等
の物理蒸着法、あるいは塗液塗布法によって形成される
。

バックコート４としては、従来から磁気記録媒体のバッ
クコートとして使用されているものが使用できる。例え
ば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等のバインダ
ー中に、カーボンブラック、グラファイトあるいはＣ０
ＣＯ３等の無機微粒子を分散させたものが使用できる。

バックコート４は、例えば塗液塗布法によって形成され
る。

また、磁気記録媒体に発生するカールを防止するために
、第２図に示すように、基体１の裏面（磁気記録層２が
形成された面の反体面）に磁気記録層２と同じ第２の磁
気記録層２０を形成して磁気記録媒体全体に対称性をも
たせてもかまわない。なお、上述のようにして第２の磁
気記録層２０を積層してもカールを十分に矯正すること
ができない場合もある。その原因は、表側の記録層２を
蒸着する際の熱の影響により基体１の熱物性が変化して
しまい、表側の記録層２と全く同じ条件で裏側の記録層
２０を蒸着しても、実質的な条件（基体１の熱物性）が
変化しているため、磁気記録媒体の厚み方向の対称性が
得られず、その結果としてカールが十分に矯正されない
からであると推定されている。このような場合は、裏側
の記録層２０の厚さを適当な厚さに調整すること、すな
わち表側の記録層２よりも薄くあるいは厚くすることに
より十分なカールの矯正が可能である。

第３図に示す磁気記録媒体は、基体１の表側に磁気記録
Ｎ２及び保護層３を設け、裏側に第２の磁気記録層２０
を形成し、更に第２の磁気記録層２０上にバックコート
４を形成したものである。バックコート４は、使用環境
、用途によっては設けなくてもよい場合もある。第３図
に示した第２の磁気記録層２０は、カールの程度によっ
ては設ける必要はない。

第４図に示す磁気記録媒体は、基体１の両面に下地層５
を積層した以外は第３図に示した実施態様と同様の記録
媒体である。下地層５としては、付着力の向上、結晶配
向性の向上、あるいは磁気特性の向上を目的としてＡｌ
１　、　Ｇｅ、　Ｃｒ、　Ｔｉ、　５ｉＯｚ等の薄膜や
、垂直磁気記録層の下地としてＦｅ−Ｎｉ層、Ｃｏ−Ｎ
ｉ層等の高透磁率層を用いることができる。下地槽５は
、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンブレーティン
グ法などにより積層して形成することができる。

第５図に示す磁気記録媒体は、基体ｌの両面に磁気記録
層２．２０と無機保護層３ａを対称な形で形成し、表側
に有機保護層３ｂを裏側にバックコート４を形成したも
のである。

本発明の磁気記録媒体としては、基体の両面にＣｏ−Ｃ
ｒ垂直磁化膜の磁気記録層２．２０を設け、更に磁気記
録層２，２０上にＳｉＯ□の保護層３を設ける態様が特
に好ましい。

さて、本発明の磁気記録媒体においては、媒体全体のス
ティフネス１７ｋｏ　　［ｋｇｆｍｍ］が０．３５Ｘ１
０””’≦１／ｋｏ≦１．１５ＸＩＯ−”　　　　　　
　　　　　　　　・・・（１）［ｎは磁気記録媒体を構
成する層の数コＥＫ　；第に層のヤング率 ［単位；ｋｇｆ／ｍｍ”］ ■、；第に層の慣性モーメント ［単位：ｍｍ３］） 上記１／ｋｏは、更には０．４５Ｘ１０−目≦１／ｋ。

≦０．７５Ｘ１０−１１が好ましい。上記の第ｋｉは、
基体１も含め、磁気記録媒体を構成する全ての層を意味
する。

本発明の磁気記録媒体は、スティフネスを上記の範囲と
することにより、磁気記録媒体走行時に、磁気記録媒体
とヘッドとの間隔をほぼ一定に保て、磁気記録媒体の安
定した走行が得られる。

このため、本発明によれば磁気記録媒体の耐久性が向上
する。

以下に、本発明でいうスティフネスについて説明する。

第６図に示したように、一端を固定した幅Ｗ。

厚み（ｔ＋＋ｔ２）の２層構造の薄板１１に、固定端か
ら℃の距離でＦの力を加えると、氾の位置における変位
δは、δの比較的小さい範囲で と表わせる。上式（２）でＦの前にかかるファクター全
体が曲げのコンプライアンスであるが、その内ｆｌ　３
／Ｗは幾何学的配置に関するものであり、の部分が層の
構造及びそれを構成する材料の物性を反映した値をとる
。そこで１／に、を本発明のスティフネスとした。

１　／　ｋ　Ｏ”　３（ＥＩＩｌ＋　Ｅ２１２）　　　
　　　　”’　（３）上記の（３）式は、薄板がｎ層構
造の場合にも拡張することができる。

１／ｋｏ＝３Σ　Ｅｋ　１．　　　　　　・・・（４）
つまり、本発明においてスティフネスとは、基体、６ｎ
気記録層、保護層、バックコート等、磁気記録媒体を構
成する全ての層を含め、磁気記録媒体全体かｎＮで構成
されている場合に、スティフネス１／に、＝３Σ　Ｅ、
Ｉ。

と定義する。

本発明において、ヤング収率Ｅは、引張り試験を行なっ
て算出した。引張り試験は、東洋ボールドウィン社製引
張り試験機を使用して行なった。

サンプル形状は、幅８ｍｍ、長さ５０ｍｍ、引張り速度
は４　ｍｍ／ｍｉｎ　（８％／ｍ１ｎ）とした。基体の
ヤング率は、０．２％伸長時の荷重より算出した。磁気
記録層のヤング率は、磁気記録媒体の０．２％伸長時の
荷重から基体の寄与分を差し引いて算出した。

次に、第１図及び第５図に示した磁気記録媒体を例とし
て、スティフネスの計算例を示す。

第１図の磁気記録媒体において、基体１としてポリイミ
ドフィルムを用い、磁気記録層２として厚み０．４−の
Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁化膜（ヤング率１６．０００ｋｇ／ｍ
ｍｚ）を用いたとする。保護層３及びバックコート４は
、厚みが基体１の厚みに比べて極めて小さいため計算上
無視することができる。

さて、ポリイミドフィルムのヤング率が５５０ｋｇ／ｍ
ｍ２の場合、式（′３）を用いてスティフネスを計算す
ると、第７図に示したようにポリイミドフィルムの膜厚
を変えたときのスティフネスの変化が算出される。

この例の場合、ポリイミドフィルムの厚みは、２４〜３
６μｍ、更には２６〜３１μｍの範囲が好ましい。

第８図のグラフは、上記の例でポリイミドフィルムのヤ
ング率がａ　＝　１０００ｋｇ／ｍｍ２．　ｂ　＝　８
６０ｋｇ／ｍｍ２．　　ｃ＝７００ｋｇ／ｍｍ２．　　
ｄ＝５５０ｋｇ／ｍｍ２．　　ｅ＝３９０ｋｇ／ｍｍ２
の場合の計算例である。

第５図に示す磁気記録媒体の場合も、基体１としてポリ
イミドフィルムを用い、磁気記録層２゜２０として厚み
０．４μｍのＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜（ヤング率１６．０
００ｋｇ／ｍｍ２）を用いたとする。この場合も保護層
３及びバックコート４は無視することができる。

ポリイミドフィルムのヤング率が１０００ｋｇ／ｍｍ２
の場合、式（４）を用いてスティフネスを計算すると、
第９図に示したように、ポリイミドフィルムの膜厚を変
えたときのスティフネスの変化が算出される。

この例の場合、ポリイミドフィルムの厚みは１６〜２６
μｍ、更には１８〜２２即の範囲が好ましい。

第１Ｏ図のグラフは、第８図と同様に、ポリイミドフィ
ルムのヤング率がａ　＝　１０００ｋｇ／ｍｍ２．　ｂ
　＝８６０ｋｇ／ｍｍ２．　ｃ＝７００ｋｇ／ｍｍ２．
　ｄ＝５５０ｋｇ／ｍｍ２゜ｅ　＝　３９０ｋｇ／ｍｍ
２の場合の計算例である。

本発明の磁気記録媒体の各層の厚みは、使用する材料に
よって異なるが、磁気記録媒体のスティフネス、磁気特
性、スペーシングロス等を考慮すると次のようにするの
が好ましい。すなわち、基体ｌの厚みは３６胛以下、更
には３０μｍ以下、更に好ましくは１５〜３０胛の範囲
、磁気記録層２，２０の厚みは０１８ｍ以上、更には０
．２μｍ以上が好ましい。

磁気記録層２，２０の厚みの上限は１μｍ以下、更には
０．５μｍ以下が好ましい。保護層３の厚みは５０〜５
００人、更には５０〜２００人の範囲、バックコート４
の厚みは０．２〜２μｍの範囲、下地層５の厚みは数百
人〜５０００人の範囲が好ましい。

また、本発明の磁気記録媒体は、直径の小さなフロッピ
ーディスクとして使用する場合に有効で、特に直径が５
０ｍｍ以下のフロッピーディスクとして使用する場合に
有効である。

［発明の効果］ 本発明の磁気記録媒体は、以上説明したように、スティ
フネス１　／　ｋ　ｏ　［ｋｇｆｍｍｌを０．３５８１
０−”≦１／ｋｏ≦１．１５Ｘ　１０−”　としている
ため、良好なヘットタッチが得られ、走行が安定する。

このため、本発明の磁気記録媒体は、優れた耐久性を示
す。

以下、実施例を掲げて本発明を具体的に説明する。尚、
実施例の評価は、ビデオフロッピー用の工具用デツキ（
磁気ヘッド及びバットの位置が変えられるデツキ）を用
いて行なった。また、実施例１〜１１及び比較例１〜９
については磁気記録媒体を直径２インチのフロッピーデ
ィスクとして、以下の（ｉＨｉｉ）の評価を行なった。

但し、使用トラックは５０トラツクのうちの第２５番目
トラックであった。また回転数は３６００ｒｐｍであっ
た。

（ｉ）へラドタッチ・・・７　ＭＨｚにおける再生エン
ベロープの形から、ヘッドタッチを定性的に４段階（Ｑ
、○、△、×）に分けた。第１１図に評価基準としたエ
ンベロープの形を示した。０．○のものが実用に供せる
。

（ｉｉ）耐久性・・・再生出力（７ＭＨｚ）が初期値よ
り＝３ｄＢ減衰するまでの時間で評価した。４８時間以
上の耐久性が得られれば好ましいが、３０時間以上のも
のであれば実用上問題はない。

実施例１ 基体として、厚さ３０−のポリイミドフィルム（ユービ
レックスＲタイプ、宇部興産側製）を使用した。ポリイ
ミドフィルムの熱膨張係数は２．８Ｘ　１０−’ｃｍ／
ｃｍ／’Ｃ、ヤング率は３９０ｋｇ／ｍｍ２、表面粗さ
はいわゆる超平滑面で、最大高さが５０Å以下であった
（クリステツブによる測定。以下同様）このポリイミド
フィルムに対し、磁気記録層を形成する前に、真空中熱
処理（２００°Ｃ１１０分）を行なった。

このポリイミド基体の片面にＲＦマグネトロンスパッタ
装置で、Ｃｏ８０重量％、　Ｃｒ２Ｏ重量％の垂直磁化
膜を０．４μｍの厚みで形成した。このとき基体温度は
２００°Ｃであった。さらにＣｏ−Ｃｒ膜上に保護膜と
して二酸化硅素薄膜を００２−の厚みで形成した。二酸
化硅素薄膜は、二酸化硅素薄膜を０．０２ＪＪＩ１１の
厚みて形成した。二酸化硅素薄膜は、二酸化硅素ターゲ
ットを使用してＲＦマグネトロンスパッタ装置で形成し
た。さらに無機保護層の上に潤滑層としてエステル系オ
リゴマーを真空蒸着法にて約２０人の厚みて形成した。

又、ポリイミド基体の他方の面（裏側には、ポリエステ
ル系バインダーにカーホン粒子を含有したバックコート
を０．５μｍの厚みで形成した。又、ポリイミド基体の
他方の面（裏面）には、ポリエステル系バインダーにカ
ーボン粒子を含有したバックコートを０５μｍの厚みで
形成した。こうして直径の２インチの円盤状に打ち抜い
て第１図に示す構成のフロッピーディスクを作成した。

この媒体のスティフネスを計算して求めたところ、１７
　ｋ　ｏ　＝　０．５５ｘ　１０−”　（ｋｇｆｍｍ）
てあった。このフロッピーディスクの評価結果を第１表
に示した。

比較例１ 基体の厚みを４０閂とした他は、実施例１と同じとした
。このフロッピーディスクのステイフネスを算出したと
ころ、１　／　ｋ　ｏ　”　１．１７ｘ　１０−”　［
ｋｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した。

このフロッピーディスクはカールが大きく、ヘッドタッ
チ、耐久性ともにあまり良好ではなかった。

匿佼■ユ 基体の厚みを２５μｍとした他は、実施例］と同じとし
た。このフロッピーディスクのステイフネスを算出した
ところ、１　／　ｋ　ｏ　＝０．３４Ｘ　１０−１１［
ｋｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した。

このフロッピーディスクは、カールが大きく、ヘッドタ
ッチ、耐久性もともに良好ではなかった。

矢嵐皿又 基体を厚み３０μｍのポリイミド、コポリマーとした他
は、実施例１と同じとした。このコポリマーは、パラフ
ェニレンジアミン（ＰＰＤ）７０モル％、ジアミノジフ
ェニルエーテル（ＤＡＤＥ）　３０モル％から成るジア
ミン成分と、ビフェニルテトラカルホン酸二無水物（Ｂ
ＰＤＡ）　５０モル％、ピロメリット酸二無水物（ＰＭ
ＤＡ）　５０モル％から成る酸二無水物成分とからなり
、熱膨張係数は１．５　Ｘ　１０−’ｃｍ／ｃｍ／’Ｃ
、ヤング率は５５０ｋｇ／ｍｍ２、表面粗さはいわゆる
超平滑面で、最大高さが５０Å以下であった。このフロ
ッピーディスクのスティフネスを算出したところ、１　
／　ｋ　ｏ　＝　０．６９ｘ　１０−”　［ｋｇｆｍｍ
ｌであった。評価結果を第１表に示した。

このフロッピーディスクは、カールがほとんどなく平坦
でヘットタッチ、耐久性ともに優れていることが確認さ
れた。

置数」ユ 基体の厚みを４０μｍとした他は、実施例２と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１　／　ｋ　ｏ　＝　１．４９ｘ　１０−”［
ｋｇｆｍｍｌ　であった。

Ｘ嵐廻ユ 基体の厚みを２５μｍとした他は、実施例２と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１７　ｋ　ｏ　＝０．４３Ｘ　１０−１１［ｋ
ｇｆｍｍｌであった。このフロッピーディスクは、カー
ルがほとんどなく、平坦であった。

火難’？Ａ　４ 基体を厚み３０順のユービレックスＳタイプ（宇部興産
■製）のポリイミドフィルムとした他は、実施例１と同
じとした。ユービレックスＳタイプの熱膨張係数は１．
２　Ｘ　１０−５ｃｍ／ｃｍ／’Ｃ、ヤング率は１００
０ｋｇ／ｍｍ２、表面粗さはいわゆる超平滑面で、最大
高さが５０Å以下であった。このフロッピーディスクの
スティフネスは、１　／　ｋ　ｏ　＝　１．（１４ｘ　
１０−”［ｋｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に
示した。

夫嵐皿二 基体の厚みを２５μｍとした他は、実施例４と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１　／　ｋ　ｏ　＝　０．６４Ｘ　１０−”　
［ｋｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した。

よ較±Ａ 基体の厚みを４０μｍとした他は、実施例４と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１／ｋｏ　＝２．２８Ｘ１０−”　［ｋｇｆｍ
ｍｌであった。評価結果を第１表に示した。このフロッ
ピーディスクのカールはあまり大きくなかったが、フロ
ッピーディスクのジャケットには接触していた。

聚狗廻ｊ 第５図に示す本発明の磁気記録媒体であるフロッピーデ
ィスクを作成した。基体１には厚み２０ＪＩｍのユービ
レックスＲタイプのポリイミドフィルムを使用した。基
体１の表面粗さは、最大高さが５０Å以下であった。

本基体１の両面に対向ターゲットスパッタ装置でＣｏ８
０ｗｔ％−Ｃｏ２０ｗｔ％の垂直磁化膜２．２０を共に
０．４μｍの厚みで形成した（基体温度２００°Ｃ）。

保護層３ａ、３ｂ及びバックコート層４は実施例１と同
じ材料・製法・厚みで第５図に示すように形成した。

このフロッピーディスクのスティフネスを算出したとこ
ろ、１　／　ｋ　ｏ　＝　０．４５Ｘ　１０−”　［ｋ
ｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した。

実緊１硼ヱ 基本の厚みを３０μｍとした他は、実施例６と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１／に、　＝１．１５ｘ１０−目［ｋｇｆｍｍ
ｌであった。評価結果を第１表に示した。

ル佼孤ｊ 基本の厚みを１５牌とした他は、実施例６と同じとした
。このフロッピーディスクのスティフネスを算出したと
ころ、１　／　ｋ　、　＝０．２６ｘ　１０−目　［ｋ
ｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した。

このフロッピーディスクはへラドタッチが極めて不良で
、耐久性は悪く、４時間であった。また、耐久試験後の
フロッピーディスク表面にはキズがはいっていた。

実考Ｕ叩旦 基体を実施例２と同じ組成で、厚み２０μｍのコポリマ
ーとした他は、実施例６と同じとした。このフロッピー
ディスクのスティフネスを算出したところ、１　／　ｋ
　、　＝　０．５１ｘ　１０−口［ｋｇｆｍｍｌであっ
た。評価結果を第１表に示した。

区軟五互 基体の厚みを３０μｍとした他は、実施例８と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１　／　ｋ　ｏ　＝　１．２６ｘ　１０−１１
　［ｋｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した
。

比較例７ 基体の厚みを１５μｍとした他は、実施例８と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１　／　ｋ　ｏ　＝　０．２７Ｘ　１０−”　
［ｋｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した。

耐久試験後、フロッピーディスク表面にはキズがはいっ
ていた。

Ｋ盗皿ユ 基体の厚みを２０μｍのユービレックスＳタイプとした
他は、実施例６と同じとした。基体の表面粗さは、最大
高さ５０Å以下であった。このフロッピーディスクのス
ティフネスを算出したところ、１　／　ｋ　ｏ　＝　０
．６０Ｘ　１０−”　［ｋｇｆｍｍｌであった。評価結
果を第１表に示した。

Ｋ將鳳且 基体の厚みを２５μｍとした他は、実施例９と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１　／　ｋ　、　＝　１．０１ｘ　ＩＱ−ＩＩ
　［ｋｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した
。

比較■溢 基体の厚みを３０μｍとした他は、実施例９と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１　／　ｋ　ｏ　＝　１．５６Ｘ　１０−■［
ｋｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した。

このフロッピーディスクはヘッドタッチが極めて悪く、
耐久性も約３０分て出力低下し、耐久試験後のフロッピ
ーディスク表面にはキズがはいっていた。

去迦１１ｕ 基体の厚みを１６μｍとした他は、実施例９と同じとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを算出した
ところ、１　／　ｋ　。＝０．３６Ｘ　ＩＱ−”　［ｋ
ｇｆｍｍｌであった。評価結果を第１表に示した。

夾週ｌ引は ２０戸厚のポリイミドフィルム（宇部興産用製、ユーピ
レックスＳタイプ）の両面にＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜をそ
れぞれ０．４μｍの厚さにスパッタリング法によりスパ
ッタした。その際のフィルム温度（キャン温度）は２０
０℃、到達真空度はＩ　Ｘ　１０−’Ｐａ以上、スパッ
タ圧は０．４５Ｐａ、成膜速度は３０００人／ｓｅｃ、
使用ターゲットは２０ｗｔ％Ｃｒ−Ｃｏである。

更に表側には保護層として金属酸化膜を１００人厚１裏
側にはバックコート層を０．５即厚形成した。その際、
金属酸化膜として酸素１５％を含むアルゴンガス中でＣ
ｏをスパッタリングすることによりＣｏ酸化膜を作成し
、またバックコート層としてカーホン含量含有のポリエ
ステル系樹脂材料を塗布した。

このようにして形成した磁気記録媒体を直径４７ｍｍの
円盤状に打抜いてフロッピーディスクとした。このフロ
ッピーディスクのスティフネスを求めたところ、１　／
　ｋ　ｏ　＝　０．６０ｘ　１０−”　［ｋｇｆｍｍ］
であった。

このフロッピーディスクのＣｏＣｒ膜表面の表面粗さは
Ｒｍａｘ＝　５０人（タリステップ測定）であった。

また、Ｃｏ−Ｃｒ膜の磁気特性を理研電子■製の振動試
料型磁力計（ｖｉｂｒａｔｉｎｇ　ｓａｍｐｌｅ　ｍａ
ｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ）で測定したところ、４　ｘ　Ｍ
ｓ＝　４．５ｋＧａｕｓｓ　、　Ｈｃ（土）　＝１２０
００ｅ　、　Ｈａ　（／／　）　＝４０００ｅあった。

この基体の周波数特性を先の工具デツキで測定した結果
を第１２図（Ａ）に示す。比較のために、市販の塗布型
磁気記録媒体である富士写真フィルム社製のディスク（
Ｆｕｊｉ　ＭＰ　、　　２インチＭｐシート）の周波数
特性を第１２図（Ｄ）に示す。

上記周波数特性を有する本発明の磁気記録媒体は、録再
出力が高いため、電子スチルカメラに使用されるような
短波長の記録波長を用いることができるので、電子スチ
ルカメラ用磁気記録媒体として非常に有用であることが
確認できた。

夫痰叫貝 ２５μｍ厚のポリイミド（宇部興産■製、ユービレック
ス８タイプ）に粒径４５０人のＳｉＯ□フィラーを内填
し、突起高さがＲｍａｘ＝　２００人、突起密度が５　
Ｘ　１０６個／ｍｍ２の表面を持つポリイミドフィルム
を形成した。そのフィルムの両面にＣｏ−Ｃｒ垂直磁化
膜をそれぞれ表側０．２μｍ、裏側０．１８ｇｍの厚さ
にスパッタリング法によりスパックした。その際のフィ
ルム温度（キャン温度は２００℃、到達真空度はＩ　Ｘ
　１０−’Ｐａ以上、スパッタ厚は０．４．５Ｐａ、成
膜速度は２５００人／ｓｅｃ、ターゲットは２０ｗｔ％
Ｃｒ−Ｃｏを使用した。

次に、実施例１２と同様にして保護層およびバックコー
ト層を形成し、直径４７ｍｍのフロッピーディスクとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを求めたと
ころ１　／　ｋ　ｏ　＝０．６８Ｘ　ｌＯ−”　［ｋｇ
ｆｍｍｌであった□ このフロッピーディスクのＣｏ−Ｃｒ膜表面の表面粗さ
はＲｍａｘ＝　２００人（クリステツブ測定）であった
。Ｃｏ−Ｃｒ膜の磁気特性を実施例１２と同様に測定し
たところ、４　ｘＭｓ＝＝　４．８ｋＧａｕｓｓ、　Ｈ
ｃ　（±）　＝１３５００ｅ　、　Ｈｃ　（１）　＝４
００００ｅであった。

この媒体の周波数特性を先の工具デツキで測定した結果
を第１２図（Ｂ）に示す。

上記周波数特性を有する本発明の磁気記録媒体は、録再
出力が高いため、電子スチルカメラに使用されるような
短波長の記録波長を用いることができるので、電子スチ
ルカメラ用磁気記録媒体として非常に有用であることが
確認できた。

及嵐且月 １７μｍ厚のポリイミドフィルム（宇部興産■製、ニー
プレックスＳタイプ）の両面にパーマロイ膜（Ｎｉ７８
重量％、　ＪＩＳ　ＰＣ材）をそれぞれ０．２ｇｍの厚
さにスパッタリング法により形成した。その際のフィル
ム温度（キャン温度）は２０℃（水冷）、到達真空度は
Ｉ　Ｘ　１０−’Ｐａ以上、スパッタ圧は０．６Ｐａ、
成膜速度は３０００人／ｓｅｃとした。

次に、上記パーマロイ膜上にＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜をそ
れぞれ０．２μｍの厚さにスパッタ１ノング法により形
成した。その際のフィルム温度（キャン温度）は２００
°Ｃ１到達真空度はＩ　Ｘ　ＩＰ’Ｐａ以上、スパッタ
圧は０．４５Ｐａ　、成膜速度は２５００人／ｓｅａ。

ターゲットは２０ｗｔ％Ｃｒ−Ｃｏであった。

次に、実施例１２と同様にして保護層およびバックコー
ト層を形成し、直径４７ｍｍのフロッピーディスクとし
た。このフロッピーディスクのスティフネスを求めたと
ころ１　／　ｋ　ｏ　＝　０．４１Ｘ　１０−”　［ｋ
ｇｆｍｍｌであった。

このフロッピーディスクの磁気記録層表面の表面粗さは
Ｒｍａｘ＝　　１５０人（クリステツブ測定）であった
。Ｃｏ−Ｃｒ膜の磁気特性は実施例１３と同じであった
。

この媒体の周波数特性を測定した結果を第１２図（Ｃ）
に示す。

上記周波数特性を有する本発明の磁気記録媒体は、録再
出力が高いため、電子スチルカメラに使用されるような
短波長の記録波長を用いることができるので、電子スチ
ルカメラ用磁気記録媒体として非常に有用であることが
確認できた。

Ｋ皿升長 厚み２５−、ヤング率８５０ｋｇ／ｍｍ２のポリイミド
フィルム両面に厚み０．３５μｍのＣｏ−Ｃｒ磁気記録
層をＲＦスパッタリングにて形成した。基板加熱を１５
０℃にて行なった結果磁気特性はＨｃ＝　１２００エル
ステツド、４πＭｓ　＝　４．３ｋＧであった。尚、Ｃ
ｒ組成比は２０％である。片面にフッ素オイルを塗布し
、外径４７ｍｍに打ち抜いたのち、片面リングヘッドア
クセスのディスク回転系で走行試験したところ、良好な
ヘッドタッチを示した。ヘッドタッチは略０．８μｍの
波長の信号を記録再生したエンベローブ波形にて判断し
た。このフロッピーディスクのスティフネスを求めたと
ころ、１／ｋＱ　＝０．８７Ｘ１０−口　［ｋｇｆｍｍ
ｌ　であった。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第５図は本発明の磁気記録媒体の例を示す断面
図、第６図はスティフネスの説明するために２層構造の
薄板を曲げた状態を示した斜視図、第７図〜第１０図は
基体の厚みとスティフネスの関係を示したグラフ、第１
１図は再生エンベロープの例を示した図、第１２図は実
施例１２〜１４の磁気記録媒体の周波数特性を示すグラ
フ、第１３図は電子スチルカメラの構造を概略的に示し
た側面図である。 １・・・基体、 ２．２０・・・磁気記録層、 ３・・・保護層、 ４・・・バックコート、 ５・・・下地層。 特許出願人　　キャノン株式会社

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. （１）基体上に少なくとも金属薄膜の磁気記録層を有し
   、全体のスティフネス１／ｋ＿ｏ［ｋｇｆｍｍ］が ０．３５×１０＾−＾１＾１≦１／ｋ＿ｏ≦１．１５×
   １０＾−＾１＾１ （但し、１／ｋ＿ｏ＝３ΣＥ＿ｋＩ＿ｋ ［ｎは磁気記録媒体を構成する層の数］ Ｅ＿Ｋ；第ｋ層のヤング率 ［単位；ｋｇｆ／ｍｍ＾２］ Ｉ＿ｋ；第ｋ層の慣性モーメント ［単位；ｍｍ＾３］） であり、かつ形状がディスク状であることを特徴とする
   磁気記録媒体。
2. （２）前記スティフネス１／ｋ＿ｏ［ｋｇｆｍｍ］０．
   ４５×１０＾−＾１＾１≦１／ｋ＿ｏ≦０．７５×１０
   ＾−＾１＾１ である請求項第１項記載の磁気記録媒体。
3. （３）前記基体がポリイミドである請求項第１項記載の
   磁気記録媒体。
4. （４）前記基体の片面に、前記磁気記録層を有する請求
   項第１項記載の磁気記録媒体。
5. （５）前記基体の両面に、前記磁気記録層を有する請求
   項第１項記載の磁気記録媒体。
6. （６）前記磁気記録層が、Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁化膜である
   請求項１項、４項、５項のいずれか記載の磁気記録媒体
   。
7. （７）直径が５０ｍｍ以下である請求項第１項記載の磁
   気記録媒体。
8. （８）前記基体が、厚み２４〜３６μｍのポリイミドで
   、前記磁気記録層がＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜である請求項
   第４項の磁気記録媒体。
9. （９）前記基体の厚みが２６〜３１μｍである請求項第
   ８項記載の磁気記録媒体。
10. （１０）前記基体が、厚み１６〜２６μｍのポリイミド
    で、前記磁気記録層がＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜である請求
    項第５項記載の磁気記録媒体。
11. （１１）前記基体の厚みが１８〜２２μｍである請求項
    第１０項記載の磁気記録媒体。
12. （１２）前記基体の両面に、前記基体側から順にＣｏ−
    Ｃｒ垂直磁化膜の磁気記録層と、ＳｉＯ＿２の保護層と
    を有する請求項第１項記載の磁気記録媒体。
13. （１３）ガラス転移点１８０℃以上の耐熱性の高分子材
    料より成る直径５０ｍｍ以下、厚み３０μｍ以下の円板
    状の基体の両面に厚み０．２μｍ以上の金属薄膜磁性層
    を有することを特徴とする磁気記録媒体。