JPS63193324A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
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- JPS63193324A JPS63193324A JP2658387A JP2658387A JPS63193324A JP S63193324 A JPS63193324 A JP S63193324A JP 2658387 A JP2658387 A JP 2658387A JP 2658387 A JP2658387 A JP 2658387A JP S63193324 A JPS63193324 A JP S63193324A
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- magnetic recording
- magnetic layer
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- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、垂直磁気記録層をその膜面に対してほぼ垂
直方向に磁化することにより記録磁化の減磁界を軽減し
、高密度記録に適している垂直磁気記録媒体に関する。
直方向に磁化することにより記録磁化の減磁界を軽減し
、高密度記録に適している垂直磁気記録媒体に関する。
従来、垂直磁気記録媒体の垂直磁気記録層としてはｃｏ
−Ｃｒ層が知られている。Ｃｏ−Ｃｒ 層の製造方法と
しては、例えばスパッタリング法が、その膜組成の制御
の容易さ等の利点の為１こよく用いられている。
−Ｃｒ層が知られている。Ｃｏ−Ｃｒ 層の製造方法と
しては、例えばスパッタリング法が、その膜組成の制御
の容易さ等の利点の為１こよく用いられている。
この垂直磁気記録層の磁化をその膜面にほぼ垂直に安定
に保持し、記録再生時に磁気ヘッドと強い相互作用を起
こし、感度向上等の役割を果１こす軟磁性層が基板と垂
直磁気記録層との間に設けられる。
に保持し、記録再生時に磁気ヘッドと強い相互作用を起
こし、感度向上等の役割を果１こす軟磁性層が基板と垂
直磁気記録層との間に設けられる。
さて、磁気記録を電子計算機等の記憶装置の１つである
固定ディスク装置に応用する場合、記録媒体の基板とし
ては、例えばＭｇを数％含むＡｌ合金が多く用いられる
。このＡ１ｇ合金基板はその表面平坦性及び機械的特性
を向上させる為、表面処理がなされることが多かつｔこ
。従来良く行なわれた表面処理は陽極酸化である。これ
はＡ１合金基板を適当な溶液中Ｃζて電着させることに
より、その表面にアルマイトを生ぜしめる方法である。
固定ディスク装置に応用する場合、記録媒体の基板とし
ては、例えばＭｇを数％含むＡｌ合金が多く用いられる
。このＡ１ｇ合金基板はその表面平坦性及び機械的特性
を向上させる為、表面処理がなされることが多かつｔこ
。従来良く行なわれた表面処理は陽極酸化である。これ
はＡ１合金基板を適当な溶液中Ｃζて電着させることに
より、その表面にアルマイトを生ぜしめる方法である。
しかし、この処理法では表面平坦性が悪く、機械的特性
も不充分であり、高記録密度をねらう上で問題になる。
も不充分であり、高記録密度をねらう上で問題になる。
そこで他の表面処理方法としてＮ１−Ｐメッキがある。
これはＩＩ合金基板上にＮ１−Ｐメッキをほどこしたも
ので、陽極酸化にくらべて表面平坦性も良く、機械的特
性も良い。
ので、陽極酸化にくらべて表面平坦性も良く、機械的特
性も良い。
その為に垂直磁気記録媒体の基板として、Ｎ１−Ｐメッ
キされた表面をもつＡＩ１合金基板を用いる事が望まし
い。
キされた表面をもつＡＩ１合金基板を用いる事が望まし
い。
しかし、該基板上に垂直二層媒体、即ち磁性層として垂
直磁気記録層及び軟磁性層を設けると、その付着強度が
非常番こ弱いという問題があった。
直磁気記録層及び軟磁性層を設けると、その付着強度が
非常番こ弱いという問題があった。
このことを図面で説明すると、第１図において表面にＮ
１−Ｐメッキされたアルマイト合金基板（１）の上に、
軟磁性層（２）として例えばパーマロイをターゲットと
してスパッタした膜を０．５μｍを設け、更にその上に
垂直磁気記録層（３）例えばＣｏ −Ｃｒスパッタ膜を
０．８μｍ設けた場合、スパッタ膜（２）及び（３）は
基板（１）から容易に剥離する。ここで「容易に」とは
粘着テープをスパッタ膜（３）上に貼りつけて引っ張る
と剥離する程度のことを指す。
１−Ｐメッキされたアルマイト合金基板（１）の上に、
軟磁性層（２）として例えばパーマロイをターゲットと
してスパッタした膜を０．５μｍを設け、更にその上に
垂直磁気記録層（３）例えばＣｏ −Ｃｒスパッタ膜を
０．８μｍ設けた場合、スパッタ膜（２）及び（３）は
基板（１）から容易に剥離する。ここで「容易に」とは
粘着テープをスパッタ膜（３）上に貼りつけて引っ張る
と剥離する程度のことを指す。
Ｎ１−Ｐメッキ層をもつ１１合金を基板（１）に用いる
とこの様な好ましくない限象が生じる為、従来この基板
上にＴｉ層を設け、更にその上にスパッタ膜（２） 、
（３）を設けるということがなされてきた。このこと
を図面で説明すると、第２図においてＮｉ −Ｐメッキ
された表面をもつＡ１合金基板（１）上にＴｉ層（４）
をスパッタし更にその上にパーマロイ層（２）、Ｃｏ−
Ｃｒ）ｔＪａ＞をスパッタする。これは例えば１日本応
用磁気学会誌ＶＯＩ・９４２１９８５ ｐｐ８７〜９２
ｒ単磁極薄膜ヘッドと二層膜リジッドディスクにおけ
る垂直記録特性」戸田他において示されている。しかし
この様に新たに他の層とは、異なる層を１層設ける事は
工程が余分に増すことになり量産上不利であるなどの欠
点があった。
とこの様な好ましくない限象が生じる為、従来この基板
上にＴｉ層を設け、更にその上にスパッタ膜（２） 、
（３）を設けるということがなされてきた。このこと
を図面で説明すると、第２図においてＮｉ −Ｐメッキ
された表面をもつＡ１合金基板（１）上にＴｉ層（４）
をスパッタし更にその上にパーマロイ層（２）、Ｃｏ−
Ｃｒ）ｔＪａ＞をスパッタする。これは例えば１日本応
用磁気学会誌ＶＯＩ・９４２１９８５ ｐｐ８７〜９２
ｒ単磁極薄膜ヘッドと二層膜リジッドディスクにおけ
る垂直記録特性」戸田他において示されている。しかし
この様に新たに他の層とは、異なる層を１層設ける事は
工程が余分に増すことになり量産上不利であるなどの欠
点があった。
この発明は上記のような問題点を解消する１こめなされ
たもので、垂直磁気記録層及び軟磁性層が基板から剥離
しＧζくいｌ！垂直磁気記録媒体提供することを目的と
している。
たもので、垂直磁気記録層及び軟磁性層が基板から剥離
しＧζくいｌ！垂直磁気記録媒体提供することを目的と
している。
この発明に係る垂直磁気記録媒体は、Ｎ１−Ｐ層を表面
部に有するＡ７！７層よりなる基板、この基板上沓ζ設
けられＣｒおよびＴｉの少なくとも一方を含有するパー
マロイよりなる軟磁性層、並びにこの軟磁性層上に設け
られ、一軸異方性を有しその対称軸が上記基板１ζ対し
て垂直であるような垂直磁気記録層を備えたものである
。
部に有するＡ７！７層よりなる基板、この基板上沓ζ設
けられＣｒおよびＴｉの少なくとも一方を含有するパー
マロイよりなる軟磁性層、並びにこの軟磁性層上に設け
られ、一軸異方性を有しその対称軸が上記基板１ζ対し
て垂直であるような垂直磁気記録層を備えたものである
。
この発明による軟磁性層は、ＣｒおよびＴｉの少なくと
も一方を含有するパーマロイよりなるので、基板および
垂直磁気記録層との付着強度が増す。
も一方を含有するパーマロイよりなるので、基板および
垂直磁気記録層との付着強度が増す。
発明者らはＮ１−Ｐメッキされた表面をもつＡ１合金と
密着性の良い軟磁性層を得るため１種々検討を行なった
結果、スパッタターゲットとして微量のＣｒあるいはＴ
Ｉの少なくともどちらか一方を含有するパーマロイを用
いれば良い事がわかった。
密着性の良い軟磁性層を得るため１種々検討を行なった
結果、スパッタターゲットとして微量のＣｒあるいはＴ
Ｉの少なくともどちらか一方を含有するパーマロイを用
いれば良い事がわかった。
以下実施例と比較例を述べる。
比較例１
Ｎｉ−Ｐメッキされた表面をもつＡｌ合金基板上６ζＦ
ｅ ２０ａｔ ％ 、 Ｎｉ ２０ａｔ％よりなるパー
マロイをターゲットとして用いて次の条件でスパッタに
より軟磁性層を約０．５μｍ作製した。
ｅ ２０ａｔ ％ 、 Ｎｉ ２０ａｔ％よりなるパー
マロイをターゲットとして用いて次の条件でスパッタに
より軟磁性層を約０．５μｍ作製した。
放電ガス及びガス圧・・・Ａｒ、 ０．４Ｐａ投入電力
・・・１ｗ／ｃｍ”基板温度 ・・
・冷却せず 次にこの様にして得られたパーマロイ層すなわち軟磁性
層の上に、Ｃｏ −Ｃｒ層すなわち垂直磁気記録１ｍを
次の条件でスパッタにより約０，２μｍ作製したＯ ターゲット ・・・Ｃｏ−２０ａｔ％Ｃｒ放電ガ
ス及びガス圧・・・Ａｒ 、 ０．４Ｐａ投入電力
・・・１ｗ／ｃｍ”基板温度 ・・・９
０℃ 比較例２ 比較例１と同様の基板上に、Ｃｕ２ωｔ％０Ｍ０５ωｔ
％、 Ｆｅ１５＊ｔ％、Ｎｉ？８ａｌｔ％よりなるパー
マロイをターゲットに用いて、比較例１と同様に軟磁性
層を約０．５μｍ作製した。
・・・１ｗ／ｃｍ”基板温度 ・・
・冷却せず 次にこの様にして得られたパーマロイ層すなわち軟磁性
層の上に、Ｃｏ −Ｃｒ層すなわち垂直磁気記録１ｍを
次の条件でスパッタにより約０，２μｍ作製したＯ ターゲット ・・・Ｃｏ−２０ａｔ％Ｃｒ放電ガ
ス及びガス圧・・・Ａｒ 、 ０．４Ｐａ投入電力
・・・１ｗ／ｃｍ”基板温度 ・・・９
０℃ 比較例２ 比較例１と同様の基板上に、Ｃｕ２ωｔ％０Ｍ０５ωｔ
％、 Ｆｅ１５＊ｔ％、Ｎｉ？８ａｌｔ％よりなるパー
マロイをターゲットに用いて、比較例１と同様に軟磁性
層を約０．５μｍ作製した。
次に比較例１と同様にしてＣｏ−Ｃｒ Ｍを約０．２μ
ｍ作製した。
ｍ作製した。
実施例１
比較例１と同様のターゲット上にＣｒベレットを並べて
そのＣｒ濃度がｌａｔ％となるようにしたものをターゲ
ットとし、比較例１と同様な条件でスパッタし、比較例
１と同様の基板上に軟磁性層を約０．５μｍ作製した。
そのＣｒ濃度がｌａｔ％となるようにしたものをターゲ
ットとし、比較例１と同様な条件でスパッタし、比較例
１と同様の基板上に軟磁性層を約０．５μｍ作製した。
次に比較例１と同様にしてＣｏ −Ｃｒ層を約０．２μ
ｍ作製した。
ｍ作製した。
実施例２
実施例１と同様にして軟磁性層及びＣｏ ＜ ｒ膚を基
板上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットのＣ
ｒ組成は、Ｃｒベレットの数１面積を調整することによ
り８ａｔ％とした。
板上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットのＣ
ｒ組成は、Ｃｒベレットの数１面積を調整することによ
り８ａｔ％とした。
比較例８
実施例１と同様にして軟磁性層及びＣｏ−Ｃｒ層を基板
上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットのＣｒ
組成は、Ｃｒベレットの数、面積を調整することにより
５ａｔ％とした。出来上った軟磁性層のＣｒ組成は４．
５１ ｔ％であった。
上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットのＣｒ
組成は、Ｃｒベレットの数、面積を調整することにより
５ａｔ％とした。出来上った軟磁性層のＣｒ組成は４．
５１ ｔ％であった。
実施例８
比較例１と同様にして軟磁性層及びＣｏ −Ｃｒ層を基
板上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットには
Ｔｉベレットを並べることにより、そのＴｉ濃度がｌａ
ｔ％となる様にした。
板上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットには
Ｔｉベレットを並べることにより、そのＴｉ濃度がｌａ
ｔ％となる様にした。
実施例４
比較例１と同様にして軟磁性層及びＣｏ−Ｃｒ層を基板
上ｌζ作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットには
ＴｉベレットとＣｒベレットを並べることによりＣｒ濃
度ｚａｔ％、Ｔｉ濃度２ａｔ％となる様にした。
上ｌζ作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットには
ＴｉベレットとＣｒベレットを並べることによりＣｒ濃
度ｚａｔ％、Ｔｉ濃度２ａｔ％となる様にした。
比較例４
比較例１と同様にして軟磁性層及びＣｏ ＜ｒ層を基板
上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットにはＴ
ｉベレットを並べる事によりＴｉ濃度Ｓａｔ％となる様
にした。出来上った軟磁性層のＴｆ組成は２ａｔ％であ
った。
上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットにはＴ
ｉベレットを並べる事によりＴｉ濃度Ｓａｔ％となる様
にした。出来上った軟磁性層のＴｆ組成は２ａｔ％であ
った。
実施例５
比較例２と同様にして軟磁性層及びＣｏ−Ｃｒ層を基板
上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットにはＣ
ｒベレットとＴｉベレットを並べることによりｓＣｒ濃
度２ａｔ％、Ｔｉ濃度ｔａｔ％となる様にしたＯ 比較例５ 比較例２と同様にして軟磁性層及びＣｏ −Ｃｒ層を基
板上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットには
ＣｒベレットとＴｉベレットを並べることによりＣｒＩ
ＩＹ８ａｔ％、ＴＩ濃度２ａｔ％となる様にし島原上の
実施例と比較例において、軟磁性層（２）及び垂直磁気
記録層（３）と基板（１）の密着性の測定結果と、軟磁
性層（２）の保磁力の測定結果を表１にまとめる。
上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットにはＣ
ｒベレットとＴｉベレットを並べることによりｓＣｒ濃
度２ａｔ％、Ｔｉ濃度ｔａｔ％となる様にしたＯ 比較例５ 比較例２と同様にして軟磁性層及びＣｏ −Ｃｒ層を基
板上に作製した。但し軟磁性層作製時のターゲットには
ＣｒベレットとＴｉベレットを並べることによりＣｒＩ
ＩＹ８ａｔ％、ＴＩ濃度２ａｔ％となる様にし島原上の
実施例と比較例において、軟磁性層（２）及び垂直磁気
記録層（３）と基板（１）の密着性の測定結果と、軟磁
性層（２）の保磁力の測定結果を表１にまとめる。
表 １
この結果かられかる様に軟磁性層作製時のターゲットと
してＣｒ 、 Ｔｉを含有するパーマロイを用いる事に
より密着力は増すが、軟磁性層の保磁力は増大し、Ｃｒ
あるいはＴｉを５ａｔ％以上添加したターゲットを用い
た場合には１００ｅを超えてしまい。
してＣｒ 、 Ｔｉを含有するパーマロイを用いる事に
より密着力は増すが、軟磁性層の保磁力は増大し、Ｃｒ
あるいはＴｉを５ａｔ％以上添加したターゲットを用い
た場合には１００ｅを超えてしまい。
軟磁性層の磁気特性上好ましくない。
以上のように、この発明によれば、Ｎ１−ＰＪＩを表面
部に有するＡ１合金よりなる基板、この基板上に設けら
れＣｒおよびＴｉの少なくとも一方を含有するパーマロ
イよりなる軟磁性層、並びにこの軟磁性層上Ｇこ設けら
れ、一軸異方性を有しその対称軸が上記基板に対して垂
直であるような垂直磁気記録層を備えたので、上記基板
と軟磁性層および垂直磁気記録層との密着性が改善でき
る。
部に有するＡ１合金よりなる基板、この基板上に設けら
れＣｒおよびＴｉの少なくとも一方を含有するパーマロ
イよりなる軟磁性層、並びにこの軟磁性層上Ｇこ設けら
れ、一軸異方性を有しその対称軸が上記基板に対して垂
直であるような垂直磁気記録層を備えたので、上記基板
と軟磁性層および垂直磁気記録層との密着性が改善でき
る。
第１図はこの発明および従来の一般的な垂直磁気記録媒
体を示す断面図、第２図は従来の別の垂直磁気記録媒体
を示す断面図である。 図において、（υは基板、（２）は軟磁性層、（３）は
垂直磁気記録層、（４）はＴｉ層である。 なお、各図中同一符号は同一まＴこは相当部分を示すも
のとする。
体を示す断面図、第２図は従来の別の垂直磁気記録媒体
を示す断面図である。 図において、（υは基板、（２）は軟磁性層、（３）は
垂直磁気記録層、（４）はＴｉ層である。 なお、各図中同一符号は同一まＴこは相当部分を示すも
のとする。
Claims (1)
- （１）Ｎｉ−Ｐ層を表面部に有するＡｌ合金よりなる基
板、この基板上に設けられＣｒおよびＴｉの少なくとも
一方を含有するパーマロイよりなる軟磁性層、並びにこ
の軟磁性層上に設けられ、一軸異方性を有しその対称軸
が上記基板に対して垂直であるような垂直磁気記録層を
備えた垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2658387A JPS63193324A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 垂直磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2658387A JPS63193324A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63193324A true JPS63193324A (ja) | 1988-08-10 |
Family
ID=12197566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2658387A Pending JPS63193324A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63193324A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1850334A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-10-31 | Heraeus, Inc. | Soft magnetic underlayer in magnetic media and soft magnetic alloy based sputter target |
| US7651794B2 (en) | 2005-04-28 | 2010-01-26 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Adhesion layer for thin film magnetic recording medium |
-
1987
- 1987-02-05 JP JP2658387A patent/JPS63193324A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7651794B2 (en) | 2005-04-28 | 2010-01-26 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Adhesion layer for thin film magnetic recording medium |
| US7964297B2 (en) | 2005-04-28 | 2011-06-21 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Adhesion layer for thin film magnetic recording medium |
| EP1850334A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-10-31 | Heraeus, Inc. | Soft magnetic underlayer in magnetic media and soft magnetic alloy based sputter target |
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