JPH0450649B2 - - Google Patents
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- JPH0450649B2 JPH0450649B2 JP60062805A JP6280585A JPH0450649B2 JP H0450649 B2 JPH0450649 B2 JP H0450649B2 JP 60062805 A JP60062805 A JP 60062805A JP 6280585 A JP6280585 A JP 6280585A JP H0450649 B2 JPH0450649 B2 JP H0450649B2
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- magnetic
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- magnetic recording
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、垂直磁気記録用の記録媒体に関す
るものである。
るものである。
従来、垂直磁気記録媒体には、その電磁変換特
性等の電気磁気的特性向上の為、垂直磁化膜のみ
ならず、例えばFe−Ni等の軟磁性膜を持つ、い
わゆる二層膜垂直磁気記録媒体と呼ばれる構造を
持つものがあつた。第2図はその1例の断面図で
ある。アルミ基板1上に、表面平坦性等機械的特
性向上の為にNi−Pメツキ膜2を設け、更にNi
−P膜2上に軟磁性膜としてのFe−Ni膜4を設
け、されに磁性膜体としてCo−Cr膜3を設けて
ある。
性等の電気磁気的特性向上の為、垂直磁化膜のみ
ならず、例えばFe−Ni等の軟磁性膜を持つ、い
わゆる二層膜垂直磁気記録媒体と呼ばれる構造を
持つものがあつた。第2図はその1例の断面図で
ある。アルミ基板1上に、表面平坦性等機械的特
性向上の為にNi−Pメツキ膜2を設け、更にNi
−P膜2上に軟磁性膜としてのFe−Ni膜4を設
け、されに磁性膜体としてCo−Cr膜3を設けて
ある。
従来の垂直磁気記録媒体、いわゆる磁気デイス
クは以上のような構造になつているので製造時に
工程が複雑になる等の問題点があつた。
クは以上のような構造になつているので製造時に
工程が複雑になる等の問題点があつた。
ところがNi−Pは熱処理を行なうことにより
軟磁性をもつことが知られており、Ni−P膜2
を軟磁性膜として用いることが出来れば、Fe−
Ni膜は不要となり工程が省略される。
軟磁性をもつことが知られており、Ni−P膜2
を軟磁性膜として用いることが出来れば、Fe−
Ni膜は不要となり工程が省略される。
一方、軟磁性膜として必要とされる厚さは薄く
(例えば0.5〜1μm程度)、Ni−P膜は後でCo−Cr
膜を設けるべき面の表面付近のみが軟磁性化され
れば十分である。
(例えば0.5〜1μm程度)、Ni−P膜は後でCo−Cr
膜を設けるべき面の表面付近のみが軟磁性化され
れば十分である。
この発明は以上のような点に鑑みなされたもの
で、垂直磁気記録用の磁性体膜の下地層たる軟磁
性膜を新たに設けること無く、基板に設けた非磁
性Ni−P膜の表面付近を軟磁性化することによ
り軟磁性膜を設けたのと同様の効果を有する垂直
磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的と
している。
で、垂直磁気記録用の磁性体膜の下地層たる軟磁
性膜を新たに設けること無く、基板に設けた非磁
性Ni−P膜の表面付近を軟磁性化することによ
り軟磁性膜を設けたのと同様の効果を有する垂直
磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的と
している。
この発明に係る磁気デイスクの製造方法は、基
板に非磁性Ni−P膜を設ける工程、このNi−P
膜の逆スパツタを行なつてNi−P膜表面を軟磁
性化する工程、この軟磁性化したNi−P膜に垂
直磁気記録用のCo−Crを主成分とする磁性体膜
を設ける工程を施すようにしたものである。
板に非磁性Ni−P膜を設ける工程、このNi−P
膜の逆スパツタを行なつてNi−P膜表面を軟磁
性化する工程、この軟磁性化したNi−P膜に垂
直磁気記録用のCo−Crを主成分とする磁性体膜
を設ける工程を施すようにしたものである。
この発明においては、非磁性Ni−P膜に逆ス
パツタを行なつてNi−P膜表面を軟磁性化する
ようにしたので、軟磁性膜としてのFe−Ni膜を
設けるのと同様の働きを有すると共に、Fe−Ni
膜作成工程が簡略化される。
パツタを行なつてNi−P膜表面を軟磁性化する
ようにしたので、軟磁性膜としてのFe−Ni膜を
設けるのと同様の働きを有すると共に、Fe−Ni
膜作成工程が簡略化される。
第1図はこの発明の一実施例により得られた磁
気記録媒体を示す断面図であり、図において1は
アルミ基板、2はアルミ基板1上に設けたNi−
P膜、3はNi−P膜2上に設けた垂直磁気記録
用のCo−Cr膜であり、Ni−P膜2のCo−Cr膜側
表面は軟磁性化されている。
気記録媒体を示す断面図であり、図において1は
アルミ基板、2はアルミ基板1上に設けたNi−
P膜、3はNi−P膜2上に設けた垂直磁気記録
用のCo−Cr膜であり、Ni−P膜2のCo−Cr膜側
表面は軟磁性化されている。
次にその製造方法について説明する。アルミ基
板1の表面を周知の方法を用いて前処理洗浄し、
その上に非磁性Ni−Pの無電解メツキを厚く、
例えば数十ミクロン付ける。この非磁性Ni−P
膜2の表面を機械加工により表面粗さの小さい平
面平坦化仕上げする。しかる後、スパツタ装置で
5×10-7Torr以下に排気し、上記非磁性Ni−P
膜2の付いた基板1を逆スパツタする。例えば基
板電極間距離40mm、Arガス圧30mTorr、入力電
力400Wで10分程度基板側をスパツタすれば、面
内異方性の無い保磁力10Oe程度の軟磁性膜が非
磁性Ni−P膜表面に得られる。その後、再度5
×10-7Torr以下に排気し、スパツタ法によりCo
−Cr膜3を例えば基板電極間距離80mm、Ar圧ガ
ス5mTorr、入力電圧200Wで0.2μm程度作製す
る。
板1の表面を周知の方法を用いて前処理洗浄し、
その上に非磁性Ni−Pの無電解メツキを厚く、
例えば数十ミクロン付ける。この非磁性Ni−P
膜2の表面を機械加工により表面粗さの小さい平
面平坦化仕上げする。しかる後、スパツタ装置で
5×10-7Torr以下に排気し、上記非磁性Ni−P
膜2の付いた基板1を逆スパツタする。例えば基
板電極間距離40mm、Arガス圧30mTorr、入力電
力400Wで10分程度基板側をスパツタすれば、面
内異方性の無い保磁力10Oe程度の軟磁性膜が非
磁性Ni−P膜表面に得られる。その後、再度5
×10-7Torr以下に排気し、スパツタ法によりCo
−Cr膜3を例えば基板電極間距離80mm、Ar圧ガ
ス5mTorr、入力電圧200Wで0.2μm程度作製す
る。
なお、上記実施例では基板はアルミ基板とした
が、アルミ以外でも可能であり、又、基板両面に
この発明を適用しても良い。
が、アルミ以外でも可能であり、又、基板両面に
この発明を適用しても良い。
また、磁性体膜であるCo−Cr膜3に、例えば
ロジジウム、タンタルなどを少量添加しても良
い。
ロジジウム、タンタルなどを少量添加しても良
い。
この発明は以上説明したとおり、基板に非磁性
Ni−P膜を設ける工程、このNi−P膜の逆スパ
ツタを行なつてNi−P膜表面を軟磁性化する工
程、この軟磁性化したNi−P膜に垂直磁気記録
用のCo−Crを主成分とする磁性体膜を設ける工
程を施すようにしたので、平面平坦性等機械的特
性向上を得るためのNi−P膜に軟磁性を持たせ
ることが出来、Fe−Ni膜などの別組の軟磁性膜
を設ける必要がなくなり、それだけ工程を簡略化
することのできる垂直磁気記録媒体の製造方法が
得られるという効果がある。
Ni−P膜を設ける工程、このNi−P膜の逆スパ
ツタを行なつてNi−P膜表面を軟磁性化する工
程、この軟磁性化したNi−P膜に垂直磁気記録
用のCo−Crを主成分とする磁性体膜を設ける工
程を施すようにしたので、平面平坦性等機械的特
性向上を得るためのNi−P膜に軟磁性を持たせ
ることが出来、Fe−Ni膜などの別組の軟磁性膜
を設ける必要がなくなり、それだけ工程を簡略化
することのできる垂直磁気記録媒体の製造方法が
得られるという効果がある。
第1図はこの発明の一実施例により得られた垂
直磁気記録媒体の断面図、第2図は従来の製法に
よる垂直磁気記録媒体の断面図である。 1……アルミ基板、2……Ni−P膜、3……
Co−Cr膜、4……Fe−Ni膜。なお、図中同一符
号は同一又は相当部分を示す。
直磁気記録媒体の断面図、第2図は従来の製法に
よる垂直磁気記録媒体の断面図である。 1……アルミ基板、2……Ni−P膜、3……
Co−Cr膜、4……Fe−Ni膜。なお、図中同一符
号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 1 基板に非磁性Ni−P膜を設ける工程、この
Ni−P膜の逆スパツタを行なつてNi−P膜表面
を軟磁性化する工程、この軟磁性化したNi−P
膜に垂直磁気記録用のCo−Crを主成分とする磁
性体膜を設ける工程を施す垂直磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6280585A JPS61220132A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6280585A JPS61220132A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61220132A JPS61220132A (ja) | 1986-09-30 |
JPH0450649B2 true JPH0450649B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=13210915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6280585A Granted JPS61220132A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61220132A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58189823A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP6280585A patent/JPS61220132A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58189823A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61220132A (ja) | 1986-09-30 |
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