JPS61188734A - 磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスクInfo
- Publication number
- JPS61188734A JPS61188734A JP2974685A JP2974685A JPS61188734A JP S61188734 A JPS61188734 A JP S61188734A JP 2974685 A JP2974685 A JP 2974685A JP 2974685 A JP2974685 A JP 2974685A JP S61188734 A JPS61188734 A JP S61188734A
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- JP
- Japan
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- film
- substrate
- magnetic
- magnetic disk
- magnetized
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は磁気ディスク装置に使用される磁気ディスク
に関するものである。
に関するものである。
近年、コンピューターシステムにおける磁気ディスク等
の外部記憶装置の重要性が増大し、高記録密度化に対す
る要求はますます高まっている。
の外部記憶装置の重要性が増大し、高記録密度化に対す
る要求はますます高まっている。
磁気記録装置は記録再生ヘッドおよび磁気ディスクの主
構成部から構成され、磁気ディスクは高速で回転し記録
再生ヘッドは磁気ディスクより微小間隔浮上している。
構成部から構成され、磁気ディスクは高速で回転し記録
再生ヘッドは磁気ディスクより微小間隔浮上している。
磁気記録装置の高性能化に伴い、この浮上間隔を小さく
するために記録再生ヘッドの荷重を小さくするとともに
接触始動・停止（コンタクト・スタート・ストップ：ｃ
Ｓｓ＞ｍヘッド浮揚システムが採用されている。磁気デ
ィスクの高記録密度化、高性能化を図るためには。
するために記録再生ヘッドの荷重を小さくするとともに
接触始動・停止（コンタクト・スタート・ストップ：ｃ
Ｓｓ＞ｍヘッド浮揚システムが採用されている。磁気デ
ィスクの高記録密度化、高性能化を図るためには。
記録媒体の薄層化、均−一様化、磁気特性の改良（保磁
力、角形比の向上）、および低浮上量における安定した
ヘッド浮揚状態を確保しヘッドとディスクの衝突（ヘッ
ド・クラッシュ）を防止するためのディスク表面精度の
向上、耐ヘッドクラツシユ性等の向上が必要である。
力、角形比の向上）、および低浮上量における安定した
ヘッド浮揚状態を確保しヘッドとディスクの衝突（ヘッ
ド・クラッシュ）を防止するためのディスク表面精度の
向上、耐ヘッドクラツシユ性等の向上が必要である。
それに伴い磁性媒体層を支持する基板の品質の向上が重
要となっている。
要となっている。
高密度記録に適する基板の条件としては機械的平担性お
よび表面粗さが良好であり、欠陥が小さくその数も少な
いことが挙げられる。さらに、記録媒体の薄層化に伴い
基板の十分な硬度も必要とされてきた。すなわち、基板
が軟かいと磁気ヘツドが磁気ディスクに接触した際に陥
没などの変形を起こし、磁気ヘッドの安定した浮揚状態
が得られないばかりか、磁気記録媒体の信頼性を表すコ
ンタクトスタートストップ（ａＳＳ）回数が小さくなる
という問題がある。
よび表面粗さが良好であり、欠陥が小さくその数も少な
いことが挙げられる。さらに、記録媒体の薄層化に伴い
基板の十分な硬度も必要とされてきた。すなわち、基板
が軟かいと磁気ヘツドが磁気ディスクに接触した際に陥
没などの変形を起こし、磁気ヘッドの安定した浮揚状態
が得られないばかりか、磁気記録媒体の信頼性を表すコ
ンタクトスタートストップ（ａＳＳ）回数が小さくなる
という問題がある。
γ−７６１２０５ 薄膜を磁気記録媒体とする磁気デ
ィスクは、膜厚２〜３μｍのアルマイト被覆したアルミ
合金を基板とし、Ｆｅ、α−Ｆｅ２０３等のターゲット
を用いて中性法（Ａｒ 中）、還元法（Ａｒ＋Ｈ２）酸
化法（Ａｒ ＋ ０２）等のスパッタ雰囲気でスパッタ
リングを行い基板上にＦｅ３Ｏ４膜を形成するか、Ｆｅ
のターゲット’を用いて酸化法（Ａｒ ＋ ０２）のス
パッタリングを行い基板上にα−Ｆｅ２０３膜を形成し
た後水素還元によりＦｅ３Ｏ４膜を形成した後、これら
Ｆｅ３Ｏ４膜を大気中酸化工程を経て°ｒ Ｆｅ２Ｏ
３膜にすることにより作製している。アルマイト被覆ア
ルミ合金基板ではアルマイト層表面の研磨が行えるため
に表面粗さをＲｍａｘ Ｏ，０２〜０．ｒ３μｍ程度
にすることができるが２表面欠陥数が多いなどの問題が
あった。この問題解決のために、アルミ・合金基板上の
非磁性硬化層としてＮｉ−Ｐめつき膜が考えられた。Ｎ
ｉ−Ｐめつき膜は研磨性が良好で膜厚を厚くでき、アル
マイト膜に比べ表面精度。
ィスクは、膜厚２〜３μｍのアルマイト被覆したアルミ
合金を基板とし、Ｆｅ、α−Ｆｅ２０３等のターゲット
を用いて中性法（Ａｒ 中）、還元法（Ａｒ＋Ｈ２）酸
化法（Ａｒ ＋ ０２）等のスパッタ雰囲気でスパッタ
リングを行い基板上にＦｅ３Ｏ４膜を形成するか、Ｆｅ
のターゲット’を用いて酸化法（Ａｒ ＋ ０２）のス
パッタリングを行い基板上にα−Ｆｅ２０３膜を形成し
た後水素還元によりＦｅ３Ｏ４膜を形成した後、これら
Ｆｅ３Ｏ４膜を大気中酸化工程を経て°ｒ Ｆｅ２Ｏ
３膜にすることにより作製している。アルマイト被覆ア
ルミ合金基板ではアルマイト層表面の研磨が行えるため
に表面粗さをＲｍａｘ Ｏ，０２〜０．ｒ３μｍ程度
にすることができるが２表面欠陥数が多いなどの問題が
あった。この問題解決のために、アルミ・合金基板上の
非磁性硬化層としてＮｉ−Ｐめつき膜が考えられた。Ｎ
ｉ−Ｐめつき膜は研磨性が良好で膜厚を厚くでき、アル
マイト膜に比べ表面精度。
表面欠陥数ともに著しく改善された。
しかし、γ−７８２０３膜磁気ディスクの前記工程のう
ち、スパッタリングの際の基板温度は通常２４０°Ｃ前
後であり、γ−Ｆ８２０５化のための大気中酸化工程で
は３００℃・以上で数時間の加熱を必要とする。
ち、スパッタリングの際の基板温度は通常２４０°Ｃ前
後であり、γ−Ｆ８２０５化のための大気中酸化工程で
は３００℃・以上で数時間の加熱を必要とする。
Ｎ４−Ｐめつき膜の磁性発生温度が通常２００℃前後で
あるため、前記工程処理後にはＮｉ−Ｐめつき膜は磁性
化している。
あるため、前記工程処理後にはＮｉ−Ｐめつき膜は磁性
化している。
硬化層が磁性化してしまった場合、磁気記録の際磁性媒
体層およびこの下の硬化層にも記録され磁化遷移幅が増
大し、再生の際は磁性媒体層の磁化がこの下の硬化層に
よって閉じるために磁気記録媒体外部に生じる磁束が減
少しヘッド出力が低下する問題があった。
体層およびこの下の硬化層にも記録され磁化遷移幅が増
大し、再生の際は磁性媒体層の磁化がこの下の硬化層に
よって閉じるために磁気記録媒体外部に生じる磁束が減
少しヘッド出力が低下する問題があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、再生出力の低下のないａＳＳ回数の増大する
信頼性の高い磁気ディスクを得ることを目的とする。
たもので、再生出力の低下のないａＳＳ回数の増大する
信頼性の高い磁気ディスクを得ることを目的とする。
この発明の磁気ディスクは、非磁性硬化層として銅含有
量が１〜９５重量％のＮｉ −Ｃｕ −Ｐ合金被膜を形
成したものである。
量が１〜９５重量％のＮｉ −Ｃｕ −Ｐ合金被膜を形
成したものである。
この発明に係る銅含有量が１〜９５重量％のＮｉ− Ｏ
ｕ−Ｐ合金被膜は、加熱処理をしても磁性化せず、再生
出力が低下することがなく、、ａＳＳ回数も増大する。
ｕ−Ｐ合金被膜は、加熱処理をしても磁性化せず、再生
出力が低下することがなく、、ａＳＳ回数も増大する。
以下、この発明の一実施例を図を用いて説明する。
図面において、（１）は非磁性基板であるアルミニウム
合金基板、（２）は非磁性硬化層であるＮｉ−０ｕ−Ｐ
めつき膜、（３）は磁性媒体層であるγ−Ｆｅ２０３ス
パッタ膜、（４）は潤滑膜である。
合金基板、（２）は非磁性硬化層であるＮｉ−０ｕ−Ｐ
めつき膜、（３）は磁性媒体層であるγ−Ｆｅ２０３ス
パッタ膜、（４）は潤滑膜である。
実施例
アルミ合金基板上に無電解めっきによってＮｉ −ｃｕ
−Ｐめつき膜を２０μｍつけた。Ｍｌ −ｃｕ −Ｐめ
つき膜は上材工業（株）製鋸電解Ｎｌ ＝ ｃｕ −Ｐ
めつき液を用いて形成した。この時の膜の組成は重量％
でＮｉ６０％、Ｃｕ３５％、Ｐ５％であった。研磨によ
り鏡面仕上げして、スノくツタリングによりγ−１’ｅ
２ｏ３薄膜を形成した。
−Ｐめつき膜を２０μｍつけた。Ｍｌ −ｃｕ −Ｐめ
つき膜は上材工業（株）製鋸電解Ｎｌ ＝ ｃｕ −Ｐ
めつき液を用いて形成した。この時の膜の組成は重量％
でＮｉ６０％、Ｃｕ３５％、Ｐ５％であった。研磨によ
り鏡面仕上げして、スノくツタリングによりγ−１’ｅ
２ｏ３薄膜を形成した。
比較例１
アルミ合金基板上に無電解めっきによってＮｉ −Ｐめ
つき膜を２０μｍつけた。Ｎｉ− Ｐめつき膜は日本カ
ニゼン社製ブルーシューマーを用いて形成した。研磨に
より鏡面仕上げして、スノくツタリングによりγ−Ｆθ
２０３薄膜を形成した。
つき膜を２０μｍつけた。Ｎｉ− Ｐめつき膜は日本カ
ニゼン社製ブルーシューマーを用いて形成した。研磨に
より鏡面仕上げして、スノくツタリングによりγ−Ｆθ
２０３薄膜を形成した。
比較例２
アルミ合金基板上にアルマイト処理によってアルマイト
膜を２μｍつけた。研磨により鏡面仕上げして、スパッ
タリングによりγ−Ｆ８２０３薄膜を形成した。
膜を２μｍつけた。研磨により鏡面仕上げして、スパッ
タリングによりγ−Ｆ８２０３薄膜を形成した。
上述の実施例のようにして得られた磁気ディスクは、比
較例２に比較してＯ８８回数は約３倍。
較例２に比較してＯ８８回数は約３倍。
再生出力は１０％向上し、比較例１に比較してａＳＳ回
数は約１．５倍；再生出力は３０％向上した。
数は約１．５倍；再生出力は３０％向上した。
なお、上記実施例では膜の組成重量％でＮｉ６０％、Ｃ
ｕ３５％、Ｐ５％の場合を示したが。
ｕ３５％、Ｐ５％の場合を示したが。
３５０℃の熱処理をしても磁性化しないＮｉ− Ｃｕ−
Ｐめつき膜はＯｕの含有量が１〜９５％である。
Ｐめつき膜はＯｕの含有量が１〜９５％である。
ＣＵ の含有量が極端に多い場合や少ない場合には。
一様の組成で膜厚を厚くするのがむすかしく、Ｃｕの含
有量が１５〜８０重量％が望ましい。
有量が１５〜８０重量％が望ましい。
以上のように、この発明によれば、基板上の硬化層に３
５０℃以上の熱処理をして磁性化しないＮｉ−０ｕ−Ｐ
合金層を採用したので、加熱に形成されるγ−Ｆｅ２０
Ｓ薄膜を用いても硬化層が磁性化せず再生出力が低下す
ることなく、十分に硬度があるので、ａＳＳ回数が増大
し、信頼性の高い磁気ディスクが得られる効果がある。
５０℃以上の熱処理をして磁性化しないＮｉ−０ｕ−Ｐ
合金層を採用したので、加熱に形成されるγ−Ｆｅ２０
Ｓ薄膜を用いても硬化層が磁性化せず再生出力が低下す
ることなく、十分に硬度があるので、ａＳＳ回数が増大
し、信頼性の高い磁気ディスクが得られる効果がある。
図面はこの発明の一実施例により得られた磁気ディスク
を示す断面図である。 ゛］パゞ図におい
て、（１）は非磁性基板、（２）はＮｉ−名Ｕ−−゛Ｐ
合金非磁性硬化層、（３）はγ−１’ｅ２０Ｓ磁性媒゛
体＝′−，、：’、：、、）＞（４１は潤滑膜である。
を示す断面図である。 ゛］パゞ図におい
て、（１）は非磁性基板、（２）はＮｉ−名Ｕ−−゛Ｐ
合金非磁性硬化層、（３）はγ−１’ｅ２０Ｓ磁性媒゛
体＝′−，、：’、：、、）＞（４１は潤滑膜である。
Claims (1)
- 非磁性基板と、この非磁性基板に被覆される非磁性硬化
層と、この非磁性硬化層に被覆されるγ−Ｆｅ＿２Ｏ＿
３磁性媒体層を有する磁気ディスクにおいて、前記非磁
性硬化層は銅含有量が１〜９５重量％のＮｉ−Ｃｕ−Ｐ
合金被膜であることを特徴とする磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2974685A JPS61188734A (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | 磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2974685A JPS61188734A (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | 磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61188734A true JPS61188734A (ja) | 1986-08-22 |
Family
ID=12284660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2974685A Pending JPS61188734A (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | 磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61188734A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4981741A (en) * | 1986-03-19 | 1991-01-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Coating alloy |
-
1985
- 1985-02-18 JP JP2974685A patent/JPS61188734A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4981741A (en) * | 1986-03-19 | 1991-01-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Coating alloy |
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