JPS62230045A - 薄膜トランジスタアレイ - Google Patents

薄膜トランジスタアレイ

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Publication number
JPS62230045A
JPS62230045A JP61073576A JP7357686A JPS62230045A JP S62230045 A JPS62230045 A JP S62230045A JP 61073576 A JP61073576 A JP 61073576A JP 7357686 A JP7357686 A JP 7357686A JP S62230045 A JPS62230045 A JP S62230045A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gate
thin film
film transistor
matrix
transistor array
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61073576A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuhiko Tamura
達彦 田村
Ichiro Yamashita
一郎 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP61073576A priority Critical patent/JPS62230045A/ja
Publication of JPS62230045A publication Critical patent/JPS62230045A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は液晶表示装置に応用される薄膜トランジスタア
レイに関するものである。
従来の技術 近年、液晶表示装置の表示容量増大に伴って、走査線数
が増え、そのため従来の電極マトリックス方式では液晶
表示装置の表示コントラストや応答速度が低下すること
から、表示特性向上のためにマトリックス型液晶表示装
置にTFTアレイが利用されつつある。
以下、図面を参照しながら、従来のTPTアレイについ
て説明する。
第3図の従来のTFTアレイの一部平面図で、第4図は
そのA−A ’線での断面図を示したものである。ガラ
ス基板等の絶縁基板1の表面に、ゲート線2及び絵素透
明電極3を設け、前記ゲート線のみを覆い、尚且つゲー
ト線と直交するソース線4を設ける部分に絶縁層5を設
け、その上に半導体N6、保護用絶縁層7、ソース線及
び絵素透明電極とトランジスタのドレイン部とを接続す
るためのドレイン電極8を順次設けた構造となっている
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記の様な構造のTPTアレイでは、マ
トリックス状に配列された各々のTPTの電気的特性を
半導体装置の検査に用いられているウエハプローバ等で
測定する場合、ゲート線はアレイ内では絶縁膜によって
完全に被覆されており、またソース線はTPT上部を配
線しているために、触針と前記画線との接続はアレイ周
辺に設けられた引き出し電極パッドで行なわれなければ
ならない。そのため、TPTの3端子の触針と接続され
る電極パットは全てのTPTで異なることから、触針の
配置が固定されているプローブカードを使用することが
できず、プローブカードを用いてのウエハプローバ等に
よる自動計測が困難であると云う問題点を有していた。
本発明はこのような従来例の問題点を解消したものであ
り、その目的とするところはマトリックス状に配列され
た各々のTPTに独立にゲート及びソース端子の電極パ
ッドを設けることにより、ウエハプローバ等の検査装置
を利用して自動計測が容易に行なうことができ、測定効
率を大幅に改善する構造のTFTアレイを提供するもの
である。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために、本発明のTPTアレイは
マトリックス状に配列された各々のTPTに独立にゲー
ト及びソース端子の電極パッドを設けたと云うものであ
る。
作用 本発明の上記の様な構造にすることによって、マトリッ
クス状に配列された全てのTPTの3端子の触針と接続
に用いられる電極パ、7ドが同一配置になり、触針配置
が固定されるプローブカードが使用可能となり、ウェハ
プローバ等を利用して自動計測が可能となるものである
実施例 以下本発明の薄膜トランジスタアレイの一実施例につい
て図面を参照しながら説明する。
第1図は本発明の第1の実施例のTFTアレイの一部の
平面図である。第3図と同一部分もしくは相当部分には
同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。第1図
において、9はゲート線に設けたTFT毎のゲート電極
パッド、1oはソース線に設けたTFT毎のソース電極
パッドである。
以上の様な構造であれば、マトリックス状に配列された
全てのTPTの3端子の電極パッドが同一形状の配置と
なることがら、触針の配置が固定されるプローブカード
を利用して、ウェハプローバ等を用いて自動計測を行な
うことが可能となる。
以下、本発明の第2の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。
第2図は本発明の第2の実施例を示すTFTアレイの一
部平面図である。第3図と同一部分もしくは相当部分に
は同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
第2図において、11は隣接するTFT間のゲート線に
平行に設けられたゲート電極パッドである。
以上の様な構造であれば、第1の実施例と同様な効果が
得られるばかりではなく、TPTが形成される以外の部
分のゲート線が一2層構造となることから、低抵抗率の
金属材料を用いて、前記ゲート電極パッドを形成すると
ゲート線の抵抗が低下することから、液晶表示装置を構
成した場合、走査電圧であるゲート電圧の応答特性も改
善されると云う効果もでてくる。
発明の効果 以上のように本発明はマトリックス状に配列されたTP
Tのゲート及びソース端子に独立に各々の電極パッドを
設けることにより、全てのTPTの3端子の触針と接続
される電極パッドが同一配置となり、触針配置が固定さ
れるプローブカードが使用可能となり、ウエハプローバ
等による自動計測が可能となることから、アレイ内にお
ける各々のTPTの電気的特性を極めて効率良く測定し
得るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例におけるTFTアレイの
一部平面図、第2図は本発明の第2の実施例におけるT
PTアレイの一部平面図、第3図は従来のTFTアレイ
の一部平面図、第4図は第3図のA−A’線での断面構
造図である。 l・・・・・・ゲート線、2・・・・・・絶縁基板、3
・旧・・絵素透明電極、4・・・・・・ソース線、5・
・・・・・絶縁層、6・・・・・・半導体層、7・・・
・・・保護用絶縁層、8・・・・・・ドレイン電極、9
.11・・・・・・ゲート電極パッド、1o・・・・・
・ソース電極パッド。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名第1図 第2図 第3図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数本のゲート線及び前記ゲート線と直交する複数本の
    ソース線を備え、その各交点に薄膜トランジスタを設け
    た薄膜トランジスタアレイであって、前記薄膜トランジ
    スタに独立にゲート及びソースの電極パッドを設けたこ
    とを特徴とする薄膜トランジスタアレイ。
JP61073576A 1986-03-31 1986-03-31 薄膜トランジスタアレイ Pending JPS62230045A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61073576A JPS62230045A (ja) 1986-03-31 1986-03-31 薄膜トランジスタアレイ

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JP61073576A JPS62230045A (ja) 1986-03-31 1986-03-31 薄膜トランジスタアレイ

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JPS62230045A true JPS62230045A (ja) 1987-10-08

Family

ID=13522252

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61073576A Pending JPS62230045A (ja) 1986-03-31 1986-03-31 薄膜トランジスタアレイ

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