JPS62212393A - パ−オキシド類の製造法 - Google Patents
パ−オキシド類の製造法Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、パーオキシド類の製造法薯ζ関する。
０−Ｒｇ
（式中、Ｒ１はアルキノジ基、シクロアＪレキル基、ア
ルケニル基または置換されていてもよいフェニルＴ５、
Ｒ２はアルキルｊｆｓ、Ｒａ 、 Ｒ４゜およびＲ５は
アルキル基またはフェニル基を示す。） で示されるパーオキシド類の製造法に関するう一般式（
Ｔ）で示される過酸化物は、医薬、農薬等の中間体、添
加剤をはじめとして種々の用ＲユＯＯＨ（ｍ） （式中、Ｒ２はアルキル基を示す。） で示されるヒドロペルオキシドと一般式（ＩＩ）（式中
、Ｒ１，Ｒ３，Ｒ４およびＲ５は前記と同じ意味を有す
る。） で示される０−シリルシアノヒドリンを反応させると極
めて容８・Ｃ１一般式（Ｉ）で示されるパーオキシド類
が得られることを見い出し本発明を完成した。
ルケニル基または置換されていてもよいフェニルＴ５、
Ｒ２はアルキルｊｆｓ、Ｒａ 、 Ｒ４゜およびＲ５は
アルキル基またはフェニル基を示す。） で示されるパーオキシド類の製造法に関するう一般式（
Ｔ）で示される過酸化物は、医薬、農薬等の中間体、添
加剤をはじめとして種々の用ＲユＯＯＨ（ｍ） （式中、Ｒ２はアルキル基を示す。） で示されるヒドロペルオキシドと一般式（ＩＩ）（式中
、Ｒ１，Ｒ３，Ｒ４およびＲ５は前記と同じ意味を有す
る。） で示される０−シリルシアノヒドリンを反応させると極
めて容８・Ｃ１一般式（Ｉ）で示されるパーオキシド類
が得られることを見い出し本発明を完成した。
本発明において、原料となる０−シリルシアノヒドリン
は対応するシアノヒドリンのシリル化により容易に合成
することができるが、必要ならば、以下に示すルートに
よって合成することもできる。
は対応するシアノヒドリンのシリル化により容易に合成
することができるが、必要ならば、以下に示すルートに
よって合成することもできる。
Ｚ ｎ １１燕
（式中、Ｒ１、Ｒ１１、Ｒ４、Ｒ５は前記の意味を有し
、Ｘはハロゲン原子を示す。） かかるＯ−シリルシアノヒドリンとしては、具体的には
、Ｒ１が０１〜Ｃ８のアルキル基、０６〜Ｃ７のシクロ
アルキル基、Ｃ８〜Ｃ８のアルケニル基、またはハロゲ
ン原子、Ｃ１−％−０６のアルキル基、フルコキシ基等
により置換されていてもよいフェニル基であり、Ｒ８＊
Ｒ４およびＲＩＳはＣ１〜Ｃ６のアルキル基またはフ
ェニル基である化合物があげられる。
、Ｘはハロゲン原子を示す。） かかるＯ−シリルシアノヒドリンとしては、具体的には
、Ｒ１が０１〜Ｃ８のアルキル基、０６〜Ｃ７のシクロ
アルキル基、Ｃ８〜Ｃ８のアルケニル基、またはハロゲ
ン原子、Ｃ１−％−０６のアルキル基、フルコキシ基等
により置換されていてもよいフェニル基であり、Ｒ８＊
Ｒ４およびＲＩＳはＣ１〜Ｃ６のアルキル基またはフ
ェニル基である化合物があげられる。
もう一方の原料であるヒドロペルオキシド（組は、たと
えば、一般に容易に入手できるｔ−ブチルヒドロペルオ
キシドが好んで用いられる。
えば、一般に容易に入手できるｔ−ブチルヒドロペルオ
キシドが好んで用いられる。
一般式（０１）で示されるヒドロペルオキシドと一般式
（Ｕ）で示されるＯ−シリルシアノヒドリ有機溶媒を使
用する場合、有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
クロルベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、エチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、酢酸エ
チル、アセトン、メチルエチルケトン、ヘキサン、石油
エーテル等の反応に不活性な溶媒の単独もしくはα合物
が例示される。
（Ｕ）で示されるＯ−シリルシアノヒドリ有機溶媒を使
用する場合、有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
クロルベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、エチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、酢酸エ
チル、アセトン、メチルエチルケトン、ヘキサン、石油
エーテル等の反応に不活性な溶媒の単独もしくはα合物
が例示される。
一般式鴎）で示されるヒドロペルオキシドの使用モル比
は、もう一方の原料である０−シリルシアノヒドリンに
対して通常２当鑓以上、好クロリド、ルテニウムプロミ
ドの如きルテニウムのハロゲン化物、酢酸ルテニウムの
如きルテニウムのカルボン酸塩、ルテニウムの酸化物、
ルテニウムのハロゲン化物である。ルテニウムのハロゲ
ン化物はこのままでも使用可能であるが、好ましくは、
下記式で示されるホスフィンとの化合物として利用され
る。
は、もう一方の原料である０−シリルシアノヒドリンに
対して通常２当鑓以上、好クロリド、ルテニウムプロミ
ドの如きルテニウムのハロゲン化物、酢酸ルテニウムの
如きルテニウムのカルボン酸塩、ルテニウムの酸化物、
ルテニウムのハロゲン化物である。ルテニウムのハロゲ
ン化物はこのままでも使用可能であるが、好ましくは、
下記式で示されるホスフィンとの化合物として利用され
る。
ＲｕＸ２（ＰＲ’ａ）ａ
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ′はアルキル基、シクロ
アルキル基またはフェニル、トリル、クロルフェニルの
如き未置換もしくは置換フェニル基を示す、、） もちろんこの範囲外でも使用できるが、特に人情用いる
必要はない。
アルキル基またはフェニル、トリル、クロルフェニルの
如き未置換もしくは置換フェニル基を示す、、） もちろんこの範囲外でも使用できるが、特に人情用いる
必要はない。
゛ 反応温度は一２０〜ｉｏｏ’ｃ、好ましくは一１０
〜８０゛Ｃの範囲であり、反応時間については特に制限
はない。
〜８０゛Ｃの範囲であり、反応時間については特に制限
はない。
このような反応（こより、目的の一般式（１）で示され
るパーオキシド類が極めて容易に、好収率で得られる。
るパーオキシド類が極めて容易に、好収率で得られる。
反応混合物から目的のパーオキシド類の単離は、通常反
応混合物をそのまま濃縮するか、あるいは必要により濃
縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精
製処理することにより行うことができる。
応混合物をそのまま濃縮するか、あるいは必要により濃
縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精
製処理することにより行うことができる。
かくして、本発明の方法をこより一般式（１）で示され
るパーオキシド類が工業的容易に、しかも収率よく製造
することができる。
るパーオキシド類が工業的容易に、しかも収率よく製造
することができる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例１
攪拌装置、温度計、滴下ロートを装着した４７０フラス
コに０−（）リメチルシリル）オキシ−ベンジルシアニ
ド２ミリモル、ＲｕＣｌ２（Ｐｐｈａ）ａ Ｏ，０６Ｅ
リモルおよび無水ベンゼン３−を仕込む。室温にて、ｔ
−ブチルヒドロペルオキシド４ミリモルのベンゼン４−
溶液を８時間かかって滴下する。同温度にて１５時間保
温ののち１反応液を減圧ａ輪する、濃縮残置をエチルエ
ーテル・−ヘキサンの混合溶液を用い、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製するっ ｔ−ブチルヒド
ロペルオキシ−〇−トリメチルシリルオキシーベンジ
゛ルシアニド１．１２ミリモル（収率５６０′／ａ）を
得た。
コに０−（）リメチルシリル）オキシ−ベンジルシアニ
ド２ミリモル、ＲｕＣｌ２（Ｐｐｈａ）ａ Ｏ，０６Ｅ
リモルおよび無水ベンゼン３−を仕込む。室温にて、ｔ
−ブチルヒドロペルオキシド４ミリモルのベンゼン４−
溶液を８時間かかって滴下する。同温度にて１５時間保
温ののち１反応液を減圧ａ輪する、濃縮残置をエチルエ
ーテル・−ヘキサンの混合溶液を用い、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製するっ ｔ−ブチルヒド
ロペルオキシ−〇−トリメチルシリルオキシーベンジ
゛ルシアニド１．１２ミリモル（収率５６０′／ａ）を
得た。
Ｏ３ｉＭｅ ３
実施例２
実施例１と同様の装置に〇−トリメチルシリルオキシー
ｐ−クロロベンジルシアニド２ミリモル、Ｒｕｇｉ１２
（Ｐｐｈａ）ｇ ｏ、ｏ ６ミリモルおよび無水ベンゼ
ン８ ＋ｎｌを仕込む。室温にて、ｔ−ブチルヒドロペ
ルオキシド４ミリモルのベンゼン８−溶液を２時間かか
って滴下する。
ｐ−クロロベンジルシアニド２ミリモル、Ｒｕｇｉ１２
（Ｐｐｈａ）ｇ ｏ、ｏ ６ミリモルおよび無水ベンゼ
ン８ ＋ｎｌを仕込む。室温にて、ｔ−ブチルヒドロペ
ルオキシド４ミリモルのベンゼン８−溶液を２時間かか
って滴下する。
同温度にて１５時間保温ののち、反応液を減圧濃縮する
。以下、実施例１に準じて精製する。ｔ−ブチルヒドロ
ペルオキシ−〇−トリメチルシリルオキシーｐ−ベンジ
ルシアニド１．１６ｔリモル（収率５８％）を得た。
。以下、実施例１に準じて精製する。ｔ−ブチルヒドロ
ペルオキシ−〇−トリメチルシリルオキシーｐ−ベンジ
ルシアニド１．１６ｔリモル（収率５８％）を得た。
ＳｉＭｅｇ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿１はアルキル基、シクロアルキル基、アル
ケニル基または置換されていてもよいフェニル基、Ｒ＿
３、Ｒ＿４およびＲ＿５はアルキル基またはフェニル基
を示す。） で示されるＯ−シリルシアノヒドリンをルテニウムまた
はロジウム触媒の存在下、一般式（III）Ｒ＿２ＯＯＨ
（III） （式中、Ｒ＿２はアルキル基を示す。） で示されるヒドロペルオキシドと反応させることを特徴
とする一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１はアルキル基、シクロアルキル基、アル
ケニル基または置換されていてもよいフェニル基、Ｒ＿
２はアルキル基、Ｒ＿３、Ｒ＿４およびＲ＿５はアルキ
ル基またはフェニル基を示す。） で示されるパーオキシド類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61053081A JPH0733391B2 (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | パ−オキシド類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61053081A JPH0733391B2 (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | パ−オキシド類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62212393A true JPS62212393A (ja) | 1987-09-18 |
| JPH0733391B2 JPH0733391B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=12932845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61053081A Expired - Lifetime JPH0733391B2 (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | パ−オキシド類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733391B2 (ja) |
-
1986
- 1986-03-11 JP JP61053081A patent/JPH0733391B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0733391B2 (ja) | 1995-04-12 |
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