JPH0334954A - アルコキシカルボニル化合物の製法 - Google Patents

アルコキシカルボニル化合物の製法

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JPH0334954A
JPH0334954A JP1168562A JP16856289A JPH0334954A JP H0334954 A JPH0334954 A JP H0334954A JP 1168562 A JP1168562 A JP 1168562A JP 16856289 A JP16856289 A JP 16856289A JP H0334954 A JPH0334954 A JP H0334954A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アルコキシカルボニル化合物の新規な製法に
関する。
〔従来の技術及びその課題〕
アセタール化合物に対するシリル求核剤の反応は炭素−
炭素結合生成反応の一つとして有機合成上重要である。
この反応の例としては、下記式() (式中、R″、R4及びR5は、ぞれぞれ同一でも異な
ってもよく、アルキル基またはアリール基を示し、R6
、R7及びR8はそれぞれ同一でも異なってもよく、水
素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくは
アリール基を示すかまたはR7とR8が一緒になって置
換基を有していてもよい環をJim Iliしてもよい
) で表わされるエノールシリルエーテル化合物によるβ−
アルコキシカルボニル化合物(アルドール化合物)の合
成法等が挙げられ、種々の天然物、医薬品等の合成に有
用である〔例えばT+Cj! 4を用いる方法: T、
 Mukaiyama an+] M、 tlayas
hi。
Chem  Lett、、1974. 15 ; Cド
。5O3−3t (CHa) 3を用いる方法: S、
 Murata、 M、 5uzuki and R,
Noyori。
J、 Am、 Chem、 Soc、、 102 、3
248 (1980); Ph5C・Cjl! O,を
用いる方法 T、 Mukaiyama、 5Koba
yashi and M、  Murakami、  
Chem、Lett、、19841759:]。しかし
、これらシリル求核剤を用いる反応は、一般に四塩化チ
タン、四塩化スズ、ヨウ化亜鉛のようなルイス酸あるい
はトリメチルシリルトリフロロメタンスルホナートや過
塩素酸トリチルのような強酸性アニオンを伴う塩類の存
在下で実施するものであり、酸性的な反応条件が必要で
ある。このため酸に対して不安定な化合物や酸を中和し
てしまう塩基性の強い化合物の合成には適用が困難であ
る。さらにテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
等のルイス塩基となり得るエーテル、アミド系等の反応
溶媒の使用が困禦りであるという問題も有している。
〔課題を解決するための手段〕
かかる実情において本発11J]者らは、有機合成で汎
用される優れた溶媒であるテトうしドロフラン等の反応
溶媒が自由に使用でき、なおかつ酸に対して不安定な化
合物の合成にも適用可能な中性条件下で進行するアセタ
ール化合物に対するシリル求核剤の反応を開発せんと鋭
意研究を11った糺果、触奴どして特定のロジウム錯体
とシリルシアニド化合物を組み合わせて用いればかかる
目的が達成されることを見出し、本発明を完)あした。
すなわち本発明は、次式(I) (式中、R1は置換基を有していてもよいアルキル基、
アルケニル基またはアリール基、R2は置換基を有して
いてもよいアルキル基を示す)で表わされるアセタール
化合物と、前記式(II)で表わされるエノールシリル
エーテル化合物とを、触媒量の次式(III) [RhAX]2(III ) (式中、八は分子内に2つ以上の二重結合を有する化合
物、Xはハロゲン原子を示す) で表わされるロジウム錯体と前記式(IV)で表わされ
るシリルシアニド化合物の共存下で反応せしめることを
特徴とする次式(V) (式中、R1、R2、R6、尺7及びR6は前記と同じ
意味を有する) で表わされるアルコキシカルボニル化合物の製法を提供
するものである。
本発明方法で原料として用いられる化合物(1,)にお
いて、R’のアルキル基としては炭素数1〜20、アル
ケニル基としては炭素数2〜20のものが好ましく、中
でもアリール基で置換されたビニル基、1−プロペニル
基等の1−アルケニル基が好ましい。R1のアリール基
としてはフェニル基、ナフチル基等が好ましく、その置
換基としてはフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、炭
素数1〜8のアルキルムk、炭素数l〜8のアルココ1
−シル基、アリールオキシ基、アルコ;1−シカルボニ
ルム(、了リールオニ1−ジカルボニル基等、特にメト
キシル基、エトキシル基等が好ましい。また、1N2の
アルキル基どしては、炭素数1〜8のもの、勃にメチル
基、エチル基、ブチル基等が奸ましく、その置換基とし
てはフェニル基等の了リール基、フッ素、塩素、臭素等
のハロゲン原子などpく好ましい。
かかる化合物(I)は、刻応するカルボニル化合物から
常法により容易に合成することができる。
例えば、対応するアルデヒドをメタノール中、pトルエ
ンスルホン酸等の酸触媒の存在下、オルトギ酸メチルと
反応させることにより、対応するジメチルアセクールを
合成できる。
本発明方法で求核剤として用いられろエノールシリルエ
ーテル(II)における+13、R4及び[)5は、ア
ルキル基としては炭素数1〜8のもの、特にメチル基、
エチル基、t−ブチル基等が好ましく、アリール基とし
てはフェニル基等が好ましい。まtこ1(6、R7及び
It”は、アルキル基としては炭素数1〜8のもの、特
にメチル基、エチル基、プロピル基等が好ましく、アリ
ール基としてはフェニル基等が好ましい。また、R7と
R8とが形成する環としては、5員環または6員環が好
ましい。このようなエノールシリルエーテル化合物(n
)の具体例としては、アセトフェノンのトリメチルシリ
ルエノールエーテル、アセトンのトリメチルシリルエノ
ールエーテル、シクロヘキサノンのトリメチルシリルエ
ノールエーテル等が挙げられる。
かかる化合物(TI)は対応するカルボニル化合物から
常法により合成することができ、例えばリチウムジイソ
プロピルアミド等の塩基を作用させた後、塩化トリメチ
ルシリルを作用させることにより合成できる。
本発明方法で触媒として用いられるロジウム錯体(In
)において、分子内に2つ以上の二重結合を有する化合
物としてはジエン化合物、特に炭素数1〜20のジエン
化合物、さらに1.5−シフ0オクタジエン、ノルボル
ナジェン、15−へ牛ヅジエン等が好ましく、Xのハロ
ゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素等が好ましい。こ
のようなロジウム錯体(III )の具体例とし−Cは
ジーμ10ロービス(1,5−シクロオクタジエン)ジ
ロジウム(以下[R11(Coil) [: I! ]
 2と記す)、シーμクロロービス(ノルボルナジェン
)ジロジウム等が挙げられる。この触媒は従来使用され
ているルイス酸類とは異なり中性化合物であるので、中
性条件下で反応を実施することができ、酸性的反応条件
を回避することができる。
本発明方法で触媒として用いられるシリルシアニド化合
物(IV)としては、トリメチルシリルシアニド(以下
TMS−CNと称す)、第三ブチルジメチルシリルシア
ニド、ジメチルフェニルシリルシアニド等が挙げられる
更に、本発明方法において用いられる反応溶媒としては
、例えば塩化メチレン、トルエン、アセトニトリル、テ
トラヒドロフラン(以下’rlll’と称す〉等が挙げ
られる。
次に一般的な反応操作について説明する。まず、溶媒中
に、原料(I)に対して0.5〜5モル%程度のロジウ
ム触媒(III)を溶解させておき、5〜30℃程度の
温度においてシリルシアニド触媒(TV>を0.05〜
0.5倍モル程度(原料(I)及び求核剤(n)の種類
によって適量は異なり、当量以上用いてもさしつかえな
い場合もある〉加えて、10分〜3時間程度攪拌した後
、1.1〜1.8倍モル程度のエノールシリルエーテル
(II)と原料(1)を溶かした溶液を室温にて加え(
反応液を一旦冷却して、各々を別々に順次加えてもよい
)、5〜30℃程度の温度において(〜60時間(原I
t (1)及び求核剤(■)の種類により、この範囲外
の場合もある)攪拌する。反応終了後、リン8緩衝液(
pH=7程度)、炭酸水素ナトリウム水溶液などを加え
て、適当な有機溶媒で抽出する。
溶媒留去後、シリカゲル薄層クロマトグラフィーシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー等で精製することにより
、目的物であるアルコキシカルボニル化合物が得られる
本発明方法において、ロジウム触姪(III)及びシリ
ルシアニド触媒(IV)は組み合わせて用いなければな
らず、触媒としてそれぞれを単独で使用しても目的のア
ルコキシカルボニル化合物(V)は得られない。また、
原料(Nとシリルシアニド化合物(TV)とがロジウム
触媒(ITI )の存在下で反応した場合に得られる下
記化合物(Vl)が本発明方法において生成することは
ほとんどない。
〔実施例〕
以下実施例を挙げて更に詳細に説1す1するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
実施例1 11 アルゴン気流下、0.006  mmo Eの[Rh 
(COD) CR] 2を1.0mF、の屹燥したアセ
トニ)・リルに溶解させておき、0.06 mmonの
TMS−CNの1〇−アセトニトリル溶液を室温にて加
え、同温度で30分間攪拌した。次いで0.30 mm
oflの(B)−シンナムアルデヒドジメチルアセター
ルと0.36mmo Rのアセトフェノンのトリメチル
シリルエノールエーテルの3.0−アセトニトリル溶液
を加え、同温度で3時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水
素す) IJウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで有機
物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後
、ろ過し、ろ液を減圧留去した。残分を薄層クロマトグ
ラフィー(展Ill溶媒、ヘキサン:酢酸エチル−5゛
1)にて精製し、標記化合物0.274 mmojl!
を得た(収率91%)。
NMR(口CA4.TMS標準)  δ ppm  :
7.8(211,m)、 7.2(811,m)、 6
.50(ill、 dJ=16Hz)、 5.95(I
II、 dd、 J=711z、 16Hz)、 4.
29(IH,m)、 3.21(3t1. s)、 2
.76(ill、 dd、 J=5tlz1611z) 2 実施例2 実施例1と同じ反応を、溶媒をT 実施した。収率は84%であった。
実施例3 [? に変更して P h ’□’−P h 0.25 mmoAのベンズアルデヒドジメチルアセタ
ルと0.31 mmoj2のアセトフェノンのトリメチ
ルシリルエノールエーテルを、0.004 mmojl
!の[Rh (COD) Cffl ] 2と0.04
2 mmo iのTMS−CNの共存下で実施例1ど同
様に反応させ、標記化合物o241mmoj?を得た(
収率96%)。
NMR(CDCjl!  、、   TM34票準) 
 δ ppm7.8(211,m)、 7.2(81−
l、 m)、、 4.77(ill  dd  J5t
+z、 811z)、 3.52(Ill、 dd、 
J=811z、 1611z)3.15(311,s)
、 2.96(ltl、 dd、 J=5Hz、 16
11z)実施例4 0.29 mmoIlのp−メトキシベンズアルデヒド
ジメチルアセクールとOJ7 mmoIlのアセトフェ
ノンのトリメチルシリルエノールエーテルとを、0.0
06 mmoAの[Rh (COD) CA ]2と0
.065 mmoIlのTMS−CNの共存下で実施例
1と同様に反応させ、標記化合物0.277 mmoI
l、を得た(収率96%)。
NMR(CCA 41 TMS標準)δppm7.7(
2H,m)、 7.1(511,m)、 6.63(2
H,d、 J−91−1z)、、4.62(III、 
dd、 J=511z、 8flz)、 3.65(3
11゜s)、 3.40(iff  dd、 J=81
1z、 1611z)、 3.05(3)1s)、 2
.78(LH,dd、 J=5Hz、 1611z)実
施例5 OMe  O 0,32mmoj2のクロトンアルデヒドジメチルアセ
クールと0.46 mmoAのアセトフェノンの) I
Jメチルシリルエノールエーテルとを、0.006 m
moj?の[Rh (COD) Cj! ] 2と0.
06 mmoj2 (7)TMS−[:N)共存下で実
施例1と同様に反応させ、標記化合物0.273mmo
j!を得た(収率85%)。
NMR(CD[[、、TMSPA準)δppm7.7(
2H,m)、 7J(311,m)、 5.4(211
,m)4.10(LH,m)、 3.18(3tl、 
s)、 2.83(III  ddJ=511z、 1
611z) 、 1.66 (311,d、 J=5H
z)実施例6 0.32 mmoAの3 フェニルプロパナ ルジメチ ルアセタールと0.47 mmoj?のアセトフェノン
のトリメチルシリルエノールエーテルとを、0.006
mmo*の[Rh (Con) CIl ] 2と0.
06 mmoj+のTMS−CNの共存下で実施例1と
同様に反応させ、標記化合物0J15 mmoflを得
た(収率98%)。
NMR(CDCj! 3+ 7MS41’i) δpp
m :7.7(28,m)、 7J 〜7.0(8ft
、 m)、 3.78(IHm)、3.25(3H,s
>、 3.3〜2.5(4t(、m)、 1.9(21
1,m) 実施例7 3−メトキシ−1−フェニル−1−ドデカノンの製造: OMe  O 0,31mmol!のデカナールジメチルアセクールと
0.46 mmoj!のアセトフェノンのトリメデルシ
リルエノールエーテルとを、0.006 mmof!の
[Rh (COD) Cffl ]2と0.15 mm
ojl!のTMS−[:Nの共存下で実施例1と同様に
反応させ、標記化合物0.250mmoj?を得た(収
率81%)。
NMII(CCj24+  1’MS+5i準)  6
111m7.7(2N、  m)、  7.3(3H,
m)、  3.7(IH,m>、  3.18(31t
、  s) 、  3.3〜2.5(21t、  m)
、  1.4〜0.8(19Hm) 実施例8 の魁造: 0.30 mmofflのp−メトキシベンズアルデヒ
ドジメチルアセクールと0.45 mmoIlのプロピ
オフェノンのトリメチルシリルエノールエーテルとを、
0.006 mmoAの[Rh (COD) Cj! 
] 2と0.06 mmoAのTMS−CNの共存下で
実施例1と同様に反応させ、標記化合物0.262 m
moAをジアステレオ異性体の混合物として得た(収率
87%)。
NMR(C[[4+ TMS標準)δppm  :7.
9〜6.4(98,m)、  4.2(1)1.  m
)、  3.68と356(3H1各々S、約3:7)
、 3.06と2.93 (3H。
各々S、約7:3)、 1.27と0.75  (31
L各々d、 J=711z、約7=3) 実施例9 0.32 mmoj2のp−メトキシベンズアルデヒド
ジメチルアセクールとOJ6 mmoj!のシクロヘキ
サノンのトリメチルシリルエノールエーテルとを、0.
006 mmo’j!の[flh (COD) CIl
] 2とQ、Q3 mmoj!のTMS−CNの共存下
で実施例1と同様に反応させ、標記化合物のsyn異性
体0.205 mmoj? (収率64%)とanti
異性体0.088 mmon (収率28%〉を得た。
syn異性体のNM[l([:D[:A 3. TMS
標2#) δppm7.10(211,d、  J=9
Hz)、  6.73(2N、  d、  J=9Hz
)。
4.60(III、  d、  J=511zL  3
.73(311,s)、  3.16(311s)、 
 2.4 〜]、、6(9H,m)anti異性体のN
MR(CDCn 3+ TMS標準〉δppm :7.
10(211,d、  J=9Hz>、  6.74(
2H,d、  J=9tlz)。
4.41(Ill  d、  J=8tlz)、  3
.73(311,s)、  3.10(311s) 、
  2.4〜1.4 (9tl、  m)〔発明の効果
〕 以上のごとく、本発明のアルコキシカルボニル化合物の
製造法は、酸性的反応条件を必要とする従来の方法と異
なり、THP、エーテル、DMI’等のルイス塩基とな
る反応溶媒が使用可能である。また、はぼ中性条件で反
応が進行するため、酸や塩基に不安定な有機化合物、ま
たは酸を中和してしまう強塩基性化合物の台底への適用
が可能である。
以  上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は置換基を有していてもよいアルキル基
    、アルケニル基またはアリール基、R^2は置換基を有
    していてもよいアルキル基を示す)で表わされるアセタ
    ール化合物と、次式(II)▲数式、化学式、表等があり
    ます▼(II) (式中、R^3、R^4及びR^5は、それぞれ同一で
    も異なってもよく、アルキル基またはアリール基を示し
    、R^6、R^7及びR^8はそれぞれ同一でも異なっ
    てもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキ
    ル基もしくはアリール基を示すかまたはR^7とR^8
    が一緒になって置換基を有していてもよい環を形成して
    もよい) で表わされるエノールシリルエーテル化合物とを、触媒
    量の次式(III) [RhAX]_2(III) (式中、Aは分子内に2つ以上の二重結合を有する化合
    物、Xはハロゲン原子を示す) で表わされるロジウム錯体と次式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^3、R^4及びR^5は前記と同じ意味を
    示す) で表わされるシリルシアニド化合物の共存下で反応せし
    めることを特徴とする次式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中、R^1、R^2、R^6、R^7及びR^8は
    前記と同じ意味を有する) で表わされるアルコキシカルボニル化合物の製法。
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JP2009215202A (ja) * 2008-03-10 2009-09-24 Japan Science & Technology Agency β−アルキルオキシカルボニル化合物の製造方法

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