JPS62195780A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPS62195780A JPS62195780A JP61037398A JP3739886A JPS62195780A JP S62195780 A JPS62195780 A JP S62195780A JP 61037398 A JP61037398 A JP 61037398A JP 3739886 A JP3739886 A JP 3739886A JP S62195780 A JPS62195780 A JP S62195780A
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- amplifier circuit
- memory cell
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- ram
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Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
この発明は、半導体記憶装置に関するもので、例えば、
マイクロコンピュータ機能を持つ半導体集積回路装置に
内蔵される記憶装置に利用して有効な技術に関するもの
である。
マイクロコンピュータ機能を持つ半導体集積回路装置に
内蔵される記憶装置に利用して有効な技術に関するもの
である。
プログラムが格納されるROM (リード・オンリー・
メモリ)やデータが格納されるRAM (ランダム・ア
クセス・メモリ)等を内蔵した1チップのマイクロコン
ピュータが公知である。このような1チップのマイクロ
コンピュータに関しては、例えば■日立製作所昭和58
年9月発行r日立マイクロコンピュータデータブック
8ビツトシングルチップ1がある。
メモリ)やデータが格納されるRAM (ランダム・ア
クセス・メモリ)等を内蔵した1チップのマイクロコン
ピュータが公知である。このような1チップのマイクロ
コンピュータに関しては、例えば■日立製作所昭和58
年9月発行r日立マイクロコンピュータデータブック
8ビツトシングルチップ1がある。
上記RAMにおける特定のアドレスのデータを別のアド
レスに移し替える場合、上記特定のアドレスのデータを
読み出してマイクロプロセッサのアキュムレータにロー
ドし、それを次の命令によって別のアドレスを指定して
書き込みようにするものである。このように、同じRA
M内のデータの転送においても複数の命令実行を伴うた
めにその転送時間が長くされてしまう。
レスに移し替える場合、上記特定のアドレスのデータを
読み出してマイクロプロセッサのアキュムレータにロー
ドし、それを次の命令によって別のアドレスを指定して
書き込みようにするものである。このように、同じRA
M内のデータの転送においても複数の命令実行を伴うた
めにその転送時間が長くされてしまう。
この発明の目的は、記憶情報の転送を内部で行う機能を
持たせた半導体記憶装置を提供することにある。
持たせた半導体記憶装置を提供することにある。
この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
C問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
すなわち、メモリセルが結合されたデータ線の信号を増
幅する増幅回路を設けるとともに、その増幅回路を動作
状態にしておいてワード線の切り換えを行うようにする
ものである。
幅する増幅回路を設けるとともに、その増幅回路を動作
状態にしておいてワード線の切り換えを行うようにする
ものである。
上記した手段によれば、特定のワード線の選択によって
読み出されたメモリセルの記憶情報が、増幅回路によっ
て増幅されているため、ワード線の切り換えによって別
のメモリセルにそのまま書き込むことができる。
読み出されたメモリセルの記憶情報が、増幅回路によっ
て増幅されているため、ワード線の切り換えによって別
のメモリセルにそのまま書き込むことができる。
第1図には、この発明が適用されたスタティック型RA
Mの一実施例の回路図が示されている。
Mの一実施例の回路図が示されている。
特に制限されないが、同図のRAMは、公知の0MO3
(相補型−命属一絶縁物一半導体)集積回路(IC)技
術によって単結晶シリコンからなるような1個の半導体
基板上に形成される。各MO3FETは、ポリシリコン
からなるようなゲート電極を一種の不純物導入マスクと
するいわゆるセルファライン技術によって製造される。
(相補型−命属一絶縁物一半導体)集積回路(IC)技
術によって単結晶シリコンからなるような1個の半導体
基板上に形成される。各MO3FETは、ポリシリコン
からなるようなゲート電極を一種の不純物導入マスクと
するいわゆるセルファライン技術によって製造される。
同図において、PチャンネルMO3FETは、そのチャ
ンネル部分に矢印が付加される°ことによって、Nチャ
ンネルMO3FETと区別される。
ンネル部分に矢印が付加される°ことによって、Nチャ
ンネルMO3FETと区別される。
メモリセルを構成するMOSFETは、Nチャンネル型
とされ、N型半導体基板上に形成されたP型つェル領域
上に形成される。PチャンネルMO3FETは、N型半
導体基板上に形成される。
とされ、N型半導体基板上に形成されたP型つェル領域
上に形成される。PチャンネルMO3FETは、N型半
導体基板上に形成される。
Nチャンネル型MOS F ETの基体ゲートとしての
P型ウェル領域は、回路の接地端子に結合され、Pチャ
ンネル型MOS F ETの共通の基体ゲートとしての
N型半導体基板は、回路の電源端子に結合される。なお
、メモリセルを構成するMOSFETをウェル領域に形
成する構成は、α線等によつて引き起こされるメモリセ
ルの蓄積情報の誤った反転を防止する上で効果的である
。
P型ウェル領域は、回路の接地端子に結合され、Pチャ
ンネル型MOS F ETの共通の基体ゲートとしての
N型半導体基板は、回路の電源端子に結合される。なお
、メモリセルを構成するMOSFETをウェル領域に形
成する構成は、α線等によつて引き起こされるメモリセ
ルの蓄積情報の誤った反転を防止する上で効果的である
。
メモリアレイM−ARYは、代表として例示的に示され
ているマトリックス配置された複数のメモリセルMC,
ポリシリコン層からなるワード線WOないしWn及び相
補データ線(ビット線又はディジット線)DO,noな
いしDI、DIから構成されている。
ているマトリックス配置された複数のメモリセルMC,
ポリシリコン層からなるワード線WOないしWn及び相
補データ線(ビット線又はディジット線)DO,noな
いしDI、DIから構成されている。
メモリセルMCのそれぞれは、互いに同じ構成にされ、
その1つの具体的回路が代表として示されているように
、ゲートとドレインが互いに交差結線されかつソースが
回路の接地点GNDに結合された記憶MO3FETQI
、Q2と、上記MO3FETQI、Q2のドレインと電
源端子Vccとの間に設けられたポリ(多結晶)シリコ
ン層からなる高抵抗R1,R2とを含んでいる。そして
、上記MO3FETQ1.Q2の共通接続点と相補デー
タ線DO,Doとの間に伝送ゲートMO3FETQ3.
Q4が設けられている。同じ行に配置されたメモリセル
の伝送ゲートMO3FETQ3゜Q4等のゲートは、そ
れぞれ例示的に示された対応するワード線WO及びWn
等に共通に接続され、同じ列に配置されたメモリセルの
入出力端子は、それぞれ例示的に示された対応する一対
の相補データ(又はビット)線Do、Do及びDI、百
1等に接続されている。
その1つの具体的回路が代表として示されているように
、ゲートとドレインが互いに交差結線されかつソースが
回路の接地点GNDに結合された記憶MO3FETQI
、Q2と、上記MO3FETQI、Q2のドレインと電
源端子Vccとの間に設けられたポリ(多結晶)シリコ
ン層からなる高抵抗R1,R2とを含んでいる。そして
、上記MO3FETQ1.Q2の共通接続点と相補デー
タ線DO,Doとの間に伝送ゲートMO3FETQ3.
Q4が設けられている。同じ行に配置されたメモリセル
の伝送ゲートMO3FETQ3゜Q4等のゲートは、そ
れぞれ例示的に示された対応するワード線WO及びWn
等に共通に接続され、同じ列に配置されたメモリセルの
入出力端子は、それぞれ例示的に示された対応する一対
の相補データ(又はビット)線Do、Do及びDI、百
1等に接続されている。
/−T−リセルニおイテ、MO3FETQ1.Q2及び
抵抗R1,R2は、一種のフリップフロップ回路を構成
しているが、情報保持状態における動作点は、普通の意
味でのフリップフロップ回路のそれと随分異なる。すな
わち、上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力
にさせるため、その抵抗R1は、MO3FETQIがオ
フ状態にされているときのMO3FETQ2のゲート電
圧をそのしきい値電圧よりも若干高い電圧に維持させる
ことができる程度の著しく高い抵抗値にされる。
抵抗R1,R2は、一種のフリップフロップ回路を構成
しているが、情報保持状態における動作点は、普通の意
味でのフリップフロップ回路のそれと随分異なる。すな
わち、上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力
にさせるため、その抵抗R1は、MO3FETQIがオ
フ状態にされているときのMO3FETQ2のゲート電
圧をそのしきい値電圧よりも若干高い電圧に維持させる
ことができる程度の著しく高い抵抗値にされる。
同様に抵抗R2も高抵抗値にされる。言い換えると、上
記抵抗R1、R2は、MO3FETQI。
記抵抗R1、R2は、MO3FETQI。
Q2のドレインリーク電流を補償できる程度の高抵抗に
される。抵抗R1、R2は、MOS F ETQ2のゲ
ート容量(図示しない)に蓄積されている情報電荷が放
電させられてしまうのを防ぐ程度の電流供給能力を持つ
。
される。抵抗R1、R2は、MOS F ETQ2のゲ
ート容量(図示しない)に蓄積されている情報電荷が放
電させられてしまうのを防ぐ程度の電流供給能力を持つ
。
この実施例に従うと、RAMが0MO3−IC技術によ
って製造されるにもかかわらず、上記のようにメモリセ
ルMCはNチャンネルMO3FETとポリシリコン抵抗
素子とから構成される。
って製造されるにもかかわらず、上記のようにメモリセ
ルMCはNチャンネルMO3FETとポリシリコン抵抗
素子とから構成される。
この実施例のメモリセル及びメモリアレイは、上記ポリ
シリコン抵抗素子に代えてPチャンネルMO3FETを
用いる場合に比べ、その大きさを小さくできる。すなわ
ち、ポリシリコン抵抗を用いた場合、駆動MO3FET
QI又はQ2のゲート電極と一体的に形成できるととも
に、それ自体のサイズを小型化できる。そして、Pチャ
ンネルMOS F ETを用いたときのように、駆動M
O3FETQ1.Q2から比較的大きな距離を持って離
さなければならないことがないので無駄な空白部分が生
じない。
シリコン抵抗素子に代えてPチャンネルMO3FETを
用いる場合に比べ、その大きさを小さくできる。すなわ
ち、ポリシリコン抵抗を用いた場合、駆動MO3FET
QI又はQ2のゲート電極と一体的に形成できるととも
に、それ自体のサイズを小型化できる。そして、Pチャ
ンネルMOS F ETを用いたときのように、駆動M
O3FETQ1.Q2から比較的大きな距離を持って離
さなければならないことがないので無駄な空白部分が生
じない。
ワード線WO+ Wnは、XアドレスデコーダXDCH
により選択状態にされる。XアドレスデコーダXDCR
は、図示しないXアドレス信号を解読して1つのワード
線の選択信号を形成する。
により選択状態にされる。XアドレスデコーダXDCR
は、図示しないXアドレス信号を解読して1つのワード
線の選択信号を形成する。
上記メモリアレイにおける一対の相補データ線Do、D
o及びDi、DIは、それぞれデータ線選択のための伝
送ゲートMO3FETQ5.Q6及びQ7.QBから構
成されたカラムスイッチ回路を介してコモン相補データ
線CD、CDに接続される。このコモン相補データ線C
D、CDには、図示しない読み出し回路の入力端子と、
書込み回路の出力端子に接続される。
o及びDi、DIは、それぞれデータ線選択のための伝
送ゲートMO3FETQ5.Q6及びQ7.QBから構
成されたカラムスイッチ回路を介してコモン相補データ
線CD、CDに接続される。このコモン相補データ線C
D、CDには、図示しない読み出し回路の入力端子と、
書込み回路の出力端子に接続される。
カラムスイッチ回路を構成するMO3FETQ5、Q6
及びQ7.QBのゲートには、それぞれYアドレスデコ
ーダYDCRによって形成される選択信号YO,Ylが
供給される。このYアドレスデコーダYDCRは、図示
しないYアドレス信号を解読して上記選択信号を形成す
る。
及びQ7.QBのゲートには、それぞれYアドレスデコ
ーダYDCRによって形成される選択信号YO,Ylが
供給される。このYアドレスデコーダYDCRは、図示
しないYアドレス信号を解読して上記選択信号を形成す
る。
上記読み出し回路は、RAMが後述するような1チップ
のマイクロコンピュータに内蔵される場合、その出力信
号をデータバスに送出させる。書込み回路は、上記デー
タバスの書き込み信号を受ける。このようなRAMにあ
っては、上記読み出し興路と書き込み回路は、バスイン
ターフェイスとしての動作を行うものである。
のマイクロコンピュータに内蔵される場合、その出力信
号をデータバスに送出させる。書込み回路は、上記デー
タバスの書き込み信号を受ける。このようなRAMにあ
っては、上記読み出し興路と書き込み回路は、バスイン
ターフェイスとしての動作を行うものである。
この実施例においては、RAM内でのデータ転送を高速
に行うため、それぞれ対とされた相補データ線DO,D
O及びDi、Diには、次のようなプリチャージ回路を
兼ねた増幅回路が設けられる。
に行うため、それぞれ対とされた相補データ線DO,D
O及びDi、Diには、次のようなプリチャージ回路を
兼ねた増幅回路が設けられる。
PチャンネルMO3FETQ10.Ql 2とNチャン
ネルMO3FETQI 1.Ql 3とによりそれぞれ
構成された一対のCMOSインバータ回路は、その入力
と出力とが交差結線されてラッチ形態にされる。このラ
ッチ回路の一対の入出力端子は上記相補データ線DO,
Doに結合される。
ネルMO3FETQI 1.Ql 3とによりそれぞれ
構成された一対のCMOSインバータ回路は、その入力
と出力とが交差結線されてラッチ形態にされる。このラ
ッチ回路の一対の入出力端子は上記相補データ線DO,
Doに結合される。
このラッチ回路は、第1の相補プリチャージ信号(ラッ
チ回路の活性化パルス)7p、φpを受けるPチャンネ
ルMO3FETQI 4とNチャンネルMO3FETQ
I 5を通して電源電圧Vccと回路の接地電位が供給
される。他の相補データ線D1、Dl等にも上記類似の
MO3FETQ16〜Q21により構成された増幅回路
が設けられる。
チ回路の活性化パルス)7p、φpを受けるPチャンネ
ルMO3FETQI 4とNチャンネルMO3FETQ
I 5を通して電源電圧Vccと回路の接地電位が供給
される。他の相補データ線D1、Dl等にも上記類似の
MO3FETQ16〜Q21により構成された増幅回路
が設けられる。
また、上記相補データ線DO,DO間には、第2のプリ
チャージ信号φSを受けるNチャンネルMO3FETQ
22が設けられる。他の相補データ線DI、DI等にも
上記類似のMO3FETQ23が設けられる。
チャージ信号φSを受けるNチャンネルMO3FETQ
22が設けられる。他の相補データ線DI、DI等にも
上記類似のMO3FETQ23が設けられる。
上記第1.第2のプリチャージ信号jp、φp及びφS
は、特に制限されないが、次のタイミング発生回路TG
により形成される。タイミング発生回路TGは、例えば
、RAMのセレクト信号SELを受けて、上記タイミン
グ信号ip、φp及びφSを形成する。第1のプリチャ
ージ信号ip(φp)は、上記セレクト信号SELが選
択レベルに変化したタイミングで一定期間ハイレベル(
ロウレベル)にされる。この一定期間、上記ラッチ回路
は非動作状態にされる。これにより、相補データ線Do
、Do等は、前の読み出し又は書き込みサイクルでの情
報に従ってハイインピーダンス状態のハイレベルとロウ
レベルを維持スる。
は、特に制限されないが、次のタイミング発生回路TG
により形成される。タイミング発生回路TGは、例えば
、RAMのセレクト信号SELを受けて、上記タイミン
グ信号ip、φp及びφSを形成する。第1のプリチャ
ージ信号ip(φp)は、上記セレクト信号SELが選
択レベルに変化したタイミングで一定期間ハイレベル(
ロウレベル)にされる。この一定期間、上記ラッチ回路
は非動作状態にされる。これにより、相補データ線Do
、Do等は、前の読み出し又は書き込みサイクルでの情
報に従ってハイインピーダンス状態のハイレベルとロウ
レベルを維持スる。
これとはり同期して、第2のプリチャージ信号φSが一
定期間ハイレベルにされる。これにより、相補データ線
Do、DO等が短絡され、約Vcc/2にプリチャージ
される。この後に、1つのワード線が選択され、上記ラ
ッチ回路は再び活性化され、上記選択されたワード線に
結合されたメモリセルの記憶情報の増幅を行う。
定期間ハイレベルにされる。これにより、相補データ線
Do、DO等が短絡され、約Vcc/2にプリチャージ
される。この後に、1つのワード線が選択され、上記ラ
ッチ回路は再び活性化され、上記選択されたワード線に
結合されたメモリセルの記憶情報の増幅を行う。
第2図には、上記RAMが内蔵される1チップマイクロ
コンピユータの一実施例のブロック図が示されている。
コンピユータの一実施例のブロック図が示されている。
同図において、破線で示した半導体集積回路装置は、全
体として1チップマイクロコンピュータMCUを構成し
ている。
体として1チップマイクロコンピュータMCUを構成し
ている。
記号CPUで示されているのは、マイクロプロセッサで
あり、その主要構成ブロックが代表として例示的に示さ
れている。
あり、その主要構成ブロックが代表として例示的に示さ
れている。
Aはアキュムレータ、Xはインデックスレジスタ、CC
はコンディションコードレジスタ、sPはスタックポイ
ンタ、PCI、PCLはプログラムカウンタ、CPU−
C0NTはCPUコントローラ、ALUは算術論理ユニ
ットである。
はコンディションコードレジスタ、sPはスタックポイ
ンタ、PCI、PCLはプログラムカウンタ、CPU−
C0NTはCPUコントローラ、ALUは算術論理ユニ
ットである。
これらのマイクロプロセッサCPUの構成は、公知であ
るので、その詳細な説明を省略する。
るので、その詳細な説明を省略する。
記号I10で示されているのは、入出力ボートであり、
その内部にデータ伝送双方向レジスタを含んでいる。ま
た、記号Iで示されているのは、入力専用ボートである
。
その内部にデータ伝送双方向レジスタを含んでいる。ま
た、記号Iで示されているのは、入力専用ボートである
。
記号O8Cで示されているのは、発振回路であり、特に
制限されないが、外付される水晶振動子Xtalを利用
して高精度の基準周波数信号を形成する。この基準周波
数信号により、マイクロプロセッサCPUにおいて必要
とされるクロックパルスが形成される。また、上記基準
周波数信号は、タイマーの基準時間パルスとしても用い
られる。
制限されないが、外付される水晶振動子Xtalを利用
して高精度の基準周波数信号を形成する。この基準周波
数信号により、マイクロプロセッサCPUにおいて必要
とされるクロックパルスが形成される。また、上記基準
周波数信号は、タイマーの基準時間パルスとしても用い
られる。
このタイマー回路は、カウンタC0UNT、プリスケー
ラPR及びコントローラC0NTとによって構成される
。
ラPR及びコントローラC0NTとによって構成される
。
記号RAMで示されているのは、上記第1図に示したス
タティック型RAMであり、主として一時データの記憶
回路として用いられる。
タティック型RAMであり、主として一時データの記憶
回路として用いられる。
記号ROMで示されているのは、リード・オンリー・メ
モリであり、各種情報処理のためのプログラム又はデー
タが書込まれている。特に制限されな・いが、この実施
例のROMは、マスクROMが用いられる。
モリであり、各種情報処理のためのプログラム又はデー
タが書込まれている。特に制限されな・いが、この実施
例のROMは、マスクROMが用いられる。
以上の各回路ブロックは、マイクロプロセッサCPUを
中心としバスBUSによって相互に接続されている。こ
のバスBUSには、データバスとアドレスバスとが含ま
れるものである。また、制御信号線やタイミング信号線
は省略されている。
中心としバスBUSによって相互に接続されている。こ
のバスBUSには、データバスとアドレスバスとが含ま
れるものである。また、制御信号線やタイミング信号線
は省略されている。
次に、第3図に示した概略タイミング図を参照して、上
記RAM内でのデータ転送動作を説明する。
記RAM内でのデータ転送動作を説明する。
マイクロプロセッサからRAMに対するアクスセが行わ
れると、セレクト信号SELがロウレベルからハイレベ
ルにされる。タイミング制御回路TGは、上記セレクト
信号SELのハイレベルへの立ち上がりに同期して、一
定期間第1のプリチヤーシ信号φpをハイレベルに、φ
pをロウレベルにさせる。これにより、パワースイッチ
MO3FETQI 5 (Q21)、Ql 4 (
Q20)がオフ状態にされて増幅回路を非動作状態にさ
せる。
れると、セレクト信号SELがロウレベルからハイレベ
ルにされる。タイミング制御回路TGは、上記セレクト
信号SELのハイレベルへの立ち上がりに同期して、一
定期間第1のプリチヤーシ信号φpをハイレベルに、φ
pをロウレベルにさせる。これにより、パワースイッチ
MO3FETQI 5 (Q21)、Ql 4 (
Q20)がオフ状態にされて増幅回路を非動作状態にさ
せる。
増幅回路(ラッチ回路)は、セレクト信SELがハイレ
ベルにされる前まで動作状態にされており、相補データ
線Do、DO等を前の動作サイクルでの相補データ線D
O1下0を電源電圧Vccのようなハイレベルと回路の
接地電位のようなロウレベルにしている。したがって、
上記増幅回路の非動作状態とともに、相補データ線DO
,DO等は、ハイインピーダンス状態で、上記ハイレベ
ルとロウレベルを保持する。このような増幅回路の非動
作状態にはり同期して、第2のプリチャージ信号φSが
ハイレベルにされ、上記MO3FETQ22等がオン状
態にされる。これに応じて、相補データ線Do、Doは
、約Vcc/2のような中間レベルにプリチャージされ
るものである。
ベルにされる前まで動作状態にされており、相補データ
線Do、DO等を前の動作サイクルでの相補データ線D
O1下0を電源電圧Vccのようなハイレベルと回路の
接地電位のようなロウレベルにしている。したがって、
上記増幅回路の非動作状態とともに、相補データ線DO
,DO等は、ハイインピーダンス状態で、上記ハイレベ
ルとロウレベルを保持する。このような増幅回路の非動
作状態にはり同期して、第2のプリチャージ信号φSが
ハイレベルにされ、上記MO3FETQ22等がオン状
態にされる。これに応じて、相補データ線Do、Doは
、約Vcc/2のような中間レベルにプリチャージされ
るものである。
この後、1つのワード線(例えばWl)が選択状態にさ
れて1つのメモリセルが相補データ線D0、Doに結合
されるので、相補データ線DO1Doの電位はメモリセ
ルに記憶された記憶情報に従ったレベル差を持つように
される。この後、上記タイミング信号φpがロウレベル
に、φpがハイレベルにされるので、相補データ線Do
、DOは、上記選択されたメモリセルの記憶情報に従っ
たハイレベル/ロウレベルにされる。この実施例では、
上記状態のままで、Xアドレス信号を変化させて、転送
先のメモリセルが結合されたワード線(例えばW2)を
選択状態にさせる。これによって、上記ワード線W1に
結合されたメモリセルの記憶情報が、ワード線W2に結
合されたメモリセルにそのまま書き込まれるものとなる
。これによって、高速にRAM内でのデータ転送を行う
ことができる。
れて1つのメモリセルが相補データ線D0、Doに結合
されるので、相補データ線DO1Doの電位はメモリセ
ルに記憶された記憶情報に従ったレベル差を持つように
される。この後、上記タイミング信号φpがロウレベル
に、φpがハイレベルにされるので、相補データ線Do
、DOは、上記選択されたメモリセルの記憶情報に従っ
たハイレベル/ロウレベルにされる。この実施例では、
上記状態のままで、Xアドレス信号を変化させて、転送
先のメモリセルが結合されたワード線(例えばW2)を
選択状態にさせる。これによって、上記ワード線W1に
結合されたメモリセルの記憶情報が、ワード線W2に結
合されたメモリセルにそのまま書き込まれるものとなる
。これによって、高速にRAM内でのデータ転送を行う
ことができる。
なお、通常の読み出し動作又は書き込み動作のときには
、上記ワード線の切り換えを行なわないよにされる。言
い換えるならば、上記Xアドレス信号を変化させなけれ
ばよい。また、書き込み動作のときには、その書き込み
制御信号に従って上1C% 記ラッチ回路が非動作状態のままに置かれる。
、上記ワード線の切り換えを行なわないよにされる。言
い換えるならば、上記Xアドレス信号を変化させなけれ
ばよい。また、書き込み動作のときには、その書き込み
制御信号に従って上1C% 記ラッチ回路が非動作状態のままに置かれる。
この実施例では、ハーフプリチャージ方式を採用してい
るので、相補データ線に選択されたメモリセルの記憶情
報が高速に得られること、及び各データ線に増幅回路が
設けられているので、相補データ線に大きなレベルの読
み出し信号が得られることによって読み出し動作の高速
化も図ることができる。
るので、相補データ線に選択されたメモリセルの記憶情
報が高速に得られること、及び各データ線に増幅回路が
設けられているので、相補データ線に大きなレベルの読
み出し信号が得られることによって読み出し動作の高速
化も図ることができる。
上記した実施例から得られる作用効果は、下記の通りで
ある。すなわち、 (11メモリアレイのデータ線(ビット線又はディジッ
トvA)にタイミング信号に従って動作制御される増幅
回路を設けておいて、選択されたワード線に結合された
メモリセルの記憶情報を増幅し、ワード線の切り換えに
よって選択されたメモリセルに上記増幅された信号をそ
のまま書き込むことができる。これによって、RAM内
でのデータ転送を高速に行えることができるという効果
が得られる。
ある。すなわち、 (11メモリアレイのデータ線(ビット線又はディジッ
トvA)にタイミング信号に従って動作制御される増幅
回路を設けておいて、選択されたワード線に結合された
メモリセルの記憶情報を増幅し、ワード線の切り換えに
よって選択されたメモリセルに上記増幅された信号をそ
のまま書き込むことができる。これによって、RAM内
でのデータ転送を高速に行えることができるという効果
が得られる。
(2)上記増幅回路として、その入出力ノードが上記相
補データ線に結合されたランチ回路を用い、それを前の
動作サイクルの相補データ線の信号に従って一方を電源
電圧Vccのようなハイレベルに、他方の回路の接地電
位のようなロウレベルにさせるとともに、メモリアクセ
ス時にこの相補データ線を短絡して中間レベルにされた
プリチャージレベルを得ることにより相補データ線が同
じ中間レベルにされているから、選択されたメモリセル
の記憶情報に従ったレベル差が高速に現れること及び上
記ラッチ回路の増幅動作によって、読み出し動作の高速
化を図ることができるという効果が得られる。
補データ線に結合されたランチ回路を用い、それを前の
動作サイクルの相補データ線の信号に従って一方を電源
電圧Vccのようなハイレベルに、他方の回路の接地電
位のようなロウレベルにさせるとともに、メモリアクセ
ス時にこの相補データ線を短絡して中間レベルにされた
プリチャージレベルを得ることにより相補データ線が同
じ中間レベルにされているから、選択されたメモリセル
の記憶情報に従ったレベル差が高速に現れること及び上
記ラッチ回路の増幅動作によって、読み出し動作の高速
化を図ることができるという効果が得られる。
(3)上記(2)により、プリチャージ電流の低減及び
そのピーク電流の低減を図ることができるという効果が
得られる。
そのピーク電流の低減を図ることができるという効果が
得られる。
(4)データ線をタイミング信号によってプリチャージ
するものであるので、相補データ線に負荷抵抗手段が設
けられた場合のようにワード線のみが選択状態にされた
多数のメモリセルを通して直流電流が消費されないから
、上記(3)のプリチャージ電流の低減と相俟ってより
いっそうの低消費電力化を図ることができるという効果
が得られる。
するものであるので、相補データ線に負荷抵抗手段が設
けられた場合のようにワード線のみが選択状態にされた
多数のメモリセルを通して直流電流が消費されないから
、上記(3)のプリチャージ電流の低減と相俟ってより
いっそうの低消費電力化を図ることができるという効果
が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない0例えば、スタティック
型RAMとしてのメモリセルは、PチャンネルMOS
F ETとNチャンネルMOS F ETとを組合せて
構成されたスタティック型フリップフロップ回路を用い
るものであってもよい。また、メモリアレイを構成する
相補データ線を分割して、その分割点に制?11信号に
従って選択的に動作状態にされる双方向に向けられたバ
ッファ回路を設けるようにするものであってもよい。こ
の場合には、分割された一方のメモリアレイから他方の
メモリアレイへのデータ転送を行うことができる。
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない0例えば、スタティック
型RAMとしてのメモリセルは、PチャンネルMOS
F ETとNチャンネルMOS F ETとを組合せて
構成されたスタティック型フリップフロップ回路を用い
るものであってもよい。また、メモリアレイを構成する
相補データ線を分割して、その分割点に制?11信号に
従って選択的に動作状態にされる双方向に向けられたバ
ッファ回路を設けるようにするものであってもよい。こ
の場合には、分割された一方のメモリアレイから他方の
メモリアレイへのデータ転送を行うことができる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である1チップマイクロコ
ンピユータに内蔵されるRAM適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、例えば、外
部記憶装置としてのRAMにも同様に適用できる。
をその背景となった利用分野である1チップマイクロコ
ンピユータに内蔵されるRAM適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、例えば、外
部記憶装置としてのRAMにも同様に適用できる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、メモリアレイのデータ線(ビット線又はデ
ィジット線)にタイミング信号に従って動作制御される
増幅回路を設けておいて、選択されたワード線に結合さ
れたメモリセルの記憶情報を増幅し、ワード線の切り換
えによって選択された別のメモリセルに上記増幅された
信号をそのまま高速に書き込むことができる。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、メモリアレイのデータ線(ビット線又はデ
ィジット線)にタイミング信号に従って動作制御される
増幅回路を設けておいて、選択されたワード線に結合さ
れたメモリセルの記憶情報を増幅し、ワード線の切り換
えによって選択された別のメモリセルに上記増幅された
信号をそのまま高速に書き込むことができる。
第1図は、この発明が適用されたスタティック型RAM
の一実施例を示す回路図、 第2図は、上記RAMが内蔵される用された1チップマ
イクロコンピユータの一実施例を示すブロック図、 第3図は、上記RAM内のデータ転送動作の一例を示す
タイミング図である。 XDCR・・Xアドレスデコーダ、YDCR・・Yアド
レスデコーダ、MC・・メモリセル、CPU・・マイク
ロプロセッサ、CPU−C0NT・・CPUコントロー
ラ、ALU・・算術論理ユニット、A・・アキュムレー
タ、X・・インデックスレジスタ、CC・・コンディシ
ランコードレジスタ、SP・・スタックポインタ、PC
l、PCL・・プログラムカウンタ、RAM・・ランダ
ム・アクセス・メモリ、ROM・・リード・オンリー・
メモリ、Ilo・・入出力ボート、■・・入力専用ボー
ト、O20・・発振回路、C0UNT・・カウンタ、C
0NT・・コントローラ、PR・・プリスケーラ、BU
S・・バス R 第1図 第 2 図 第3図 oo 、 o。
の一実施例を示す回路図、 第2図は、上記RAMが内蔵される用された1チップマ
イクロコンピユータの一実施例を示すブロック図、 第3図は、上記RAM内のデータ転送動作の一例を示す
タイミング図である。 XDCR・・Xアドレスデコーダ、YDCR・・Yアド
レスデコーダ、MC・・メモリセル、CPU・・マイク
ロプロセッサ、CPU−C0NT・・CPUコントロー
ラ、ALU・・算術論理ユニット、A・・アキュムレー
タ、X・・インデックスレジスタ、CC・・コンディシ
ランコードレジスタ、SP・・スタックポインタ、PC
l、PCL・・プログラムカウンタ、RAM・・ランダ
ム・アクセス・メモリ、ROM・・リード・オンリー・
メモリ、Ilo・・入出力ボート、■・・入力専用ボー
ト、O20・・発振回路、C0UNT・・カウンタ、C
0NT・・コントローラ、PR・・プリスケーラ、BU
S・・バス R 第1図 第 2 図 第3図 oo 、 o。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、メモリセルが結合されたデータ線の信号を増幅する
増幅回路と、上記増幅回路を動作状態にしてワード線の
切り換えを行うアドレス選択回路とを含むことを特徴と
する半導体記憶装置。 2、上記メモリセルは、スタティック型メモリセルであ
り、上記増幅回路は、一対の相補データ線に一対の入出
力ノードが結合され、タイミング信号に従って動作状態
にされるラッチ回路であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の半導体記憶装置。 3、上記半導体記憶装置は、1チップのマイクロコンピ
ュータ機能を持つ半導体集積回路装置に内蔵されるもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半
導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61037398A JPS62195780A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61037398A JPS62195780A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62195780A true JPS62195780A (ja) | 1987-08-28 |
Family
ID=12496421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61037398A Pending JPS62195780A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62195780A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01273290A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-11-01 | Nec Corp | 半導体メモリ装置 |
JPH01296368A (ja) * | 1988-05-25 | 1989-11-29 | Nippon Chemicon Corp | メモリカードを用いたマイコンシステム |
JPH04281293A (ja) * | 1991-01-18 | 1992-10-06 | Mitsubishi Electric Corp | 記憶装置 |
JPH05113929A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Mitsubishi Electric Corp | マイクロコンピユータ |
JPH0863956A (ja) * | 1994-08-15 | 1996-03-08 | Micron Technol Inc | Dram集積回路デバイス及びその動作方法 |
-
1986
- 1986-02-24 JP JP61037398A patent/JPS62195780A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01273290A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-11-01 | Nec Corp | 半導体メモリ装置 |
JPH01296368A (ja) * | 1988-05-25 | 1989-11-29 | Nippon Chemicon Corp | メモリカードを用いたマイコンシステム |
JPH04281293A (ja) * | 1991-01-18 | 1992-10-06 | Mitsubishi Electric Corp | 記憶装置 |
JPH05113929A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Mitsubishi Electric Corp | マイクロコンピユータ |
JPH0863956A (ja) * | 1994-08-15 | 1996-03-08 | Micron Technol Inc | Dram集積回路デバイス及びその動作方法 |
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