JPS6219418A - 成形装置 - Google Patents

成形装置

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JPS6219418A
JPS6219418A JP60158166A JP15816685A JPS6219418A JP S6219418 A JPS6219418 A JP S6219418A JP 60158166 A JP60158166 A JP 60158166A JP 15816685 A JP15816685 A JP 15816685A JP S6219418 A JPS6219418 A JP S6219418A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
cavity
mold
heaters
cavities
Prior art date
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Pending
Application number
JP60158166A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomoo Sakamoto
友男 坂本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS6219418A publication Critical patent/JPS6219418A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、成形技術、特に、トランスファ成形技術に関
し、例えば、半導体装置の製造において、非気密封止パ
ッケージを成形するのに利用して有効な技術に関する。
〔背景技術〕
半導体装置の製造において、トランスファ成形装置によ
り非気密封止パッケージを成形する場合、成形材料とし
ての熔融樹脂の移送、およびその後における樹脂の硬化
を確保するため、金型の温度をヒータおよび温度感知器
と温度調節器によって一定に制御するように構成するこ
とがある。
しかし、このようなトランスファ成形装置においては、
チェイスブロックおよび型板を貫通しているエジェクタ
ビンを避けるためにヒータが型板の内部にチェイスブロ
ックと平行に配設されており、しかも、温度感知器が型
板に1器だけしか配設されていないため、チェイスブロ
ック同志の温度分布はある程度均一に制御することがで
きるが、チェイスブロック内の温度分布が不均一になる
という問題点があることが、本発明者によって明らかに
された。
なお、トランスファ成形技術を述べである例としては、
株式会社工業調査会発行「電子材料1983年11月号
別冊」昭和58年11月15日発行 P151〜P15
7、がある。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、成形型の温度を局所毎に精密に制御す
ることができる成形技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔発明の概要〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、複数のヒータを成形型の内部に少数のキャビ
ティーに近接するように配設するとともに、複数の温度
感知器を複数のヒータに近接するように配設することに
より、成形型の温度を局所毎に制御するようにしたもの
である。
〔実施例〕
第1.図は本発明の一実施例であるトランスファ成形装
置を示す正面図、第2FI!Jは第1図のn−yn線に
沿う部分平面図である。
本実施例において、この成形装置は半導体装置の非気密
封止パッケージを成形するものとして構成されており、
上型1と下型2とを備えている。
上型1および下型2は上型取付ユニット3および下型取
付ユニット4にそれぞれ取り付けられており、型開閉シ
リンダ装置(図示せず)により互いに型締めされるよう
に構成されている。取付ユニット3.4は型板3a%4
aと、外枠3b、4bと、スペーサブロック3c、4c
とにより構成されている。
上型1および下型2は中央部のセンタブロック1aおよ
び2aと、複数のチェイスブロック1bおよび2bとか
らそれぞれ構成されており、上型1のセンタブロック1
aには、成形材料としての樹脂を圧送するためのプラン
ジャ5を挿入されるポット6が形成されており、下型2
のセンタブロック2bのボット6に対応する位置にはカ
ル7が形成されている。下型2のセンタブロック2bに
はカル7に連通するメインランナ8と、メインランナ8
と後記するキャビティーとを連絡するサブランナ9とが
形成されている。チェイスブロック1bと2bとの合わ
せ面には複数のキャビティー10が形成されており、各
キャビティー10はサブランナ11およびゲート12を
介してカル9にそれぞれ連通されている。
また、上・下型取付ユニット3.4にはエジェクタ機構
が取り付けられており、エジェクタ機構は樹脂成形後に
各キャビティー10から成形品をエジェクタピン13.
14で突き出すように構成されている。エジェクタピン
13.14はその後端頭部を上・下取付ユニット3.4
内に配設されるエジェクタピンプレー)15.16およ
びリテーナプレート17.18によって挟持されている
エジェクタピン13.14は型板3a、4aおよびセン
タブロックla、2aおよびチェイスブロックIb、2
bを貫通してその先端をキャビティー10およびメイン
ランナ8ならびにサブランナ9.11の底に臨ませてい
る。上型のエジェクタピン13は図示しないばねによっ
て型締め時はキャビティーlOの底面に位置しているが
、型開き後はばねの復元力によってキャビティー等の底
面からキャビティー10内に突入して成形品を押し出す
ように作用する。下型のエジェクタピン14は図示しな
いばねによって型締め時はキャビティー等の底面に位置
しているが、型開き後はリテーナプレート18の他の機
構による押し上げてキャビティー等内に上端を突入させ
て成形品の押し出しを行う。
上下のセンタブロックla、2aの内部には長い棒状の
センタブロック用ヒータ19が複数本、メインランナ8
の両脇において略平行に並設されており、下型2のセン
タブロック2aにはメインランナ8の真下に温度感知器
としての熱電対20が挿入されている。センタブロック
用熱電対20はカル7およびメインランナ8の温度に対
応した熱起動を発生し、温度調節器はそれを検出してヒ
ータ19を制御することにより、センタブロックla、
2aの温度を調節するように構成されている。
上下の各チェイスブロック1b、2bの内部には細い棒
伏のヒータ21が複数本、隣合うキャビティー10.1
0の間において略平行にそれぞれ並設されており、これ
らチェイスブロック用ヒータ21におけるキャビティー
10寄りの位置には温度感知器としての熱電対22がそ
れぞれ挿入されている。これらチェイスブロック用熱電
対22は各キャビティー10付近の温度に対応した熱起
動を発生し、温度調節器はそれらをそれぞれ検出してそ
れに対応するヒータ21のそれぞれを制御することによ
り、各キャビティー10の温度を精密に#11節するよ
うに構成されている。
次に作用を説明する。
半導体装置のリードフレームが下型2の合わせ面上に、
封止対象物であるペレットおよびボンディングワイヤが
キャビティー10内に収容されるように位置決めされる
と、型開閉シリンダ装置により上型1と下型2とが合わ
せられてキャビティー10が形成される。
所定の型締め力をもって上下型1と2とが合わせられる
と、成形材料としての樹脂を予備形成されてポット6内
に投入されたタブレットが移送シリンダ装置(図示せず
)により下降されるプランジャ5によってランナ8.9
に押し出される。タブレットはヒータ19によって加熱
溶融され、樹脂は熔融した状態でランナ8.9.11を
移送され、ゲート12からキャビティー10のそれぞれ
に注入充填される。キャビティー10に充填された樹脂
はさらに加熱されると、硬化してパッケージを形成する
ところで、−移送初期の樹脂の温度は型温度(例えば、
180℃)に比較して低温(80〜90℃)であるため
、型は移送される樹脂により冷却されることになる。そ
のため、型の温度分布は樹脂の移送過程に沿って局部的
に異なって行く、そこで、この温度分布を全体にわたっ
て均一になるようにヒータを#御することが要望される
ここで、複数本のヒータがメインランチに沿ってこれと
直角方向と平行に配されて並設されている場合、メイン
ランナにおける樹脂の流れ方向についての温度分布!1
1Jflは可能であるが、チェイスブロック内における
各キャビティー相互の温度分布制御は不可能になる。ま
た、ヒータとキャビティーとが離れている場合には、熱
電対がキャビティーの近傍に配置されていたとしても、
熱電対が働いてヒータが加熱作動してからキャビティー
に熱伝達するまでに時間がかかるため、キャビティーが
制御温度に達するまでに遅れが生じ、温度分布制御が不
十分になる。
本実施例においては、ヒータがメインランナおよび各キ
ャビティーに近接して並設されているとともに、熱電対
が各ヒータに略対応して配設されているため、精密な温
度制御が実現される。
すなわち、カル7からの樹脂がメインランナ8およびサ
ブランナ9に流れ込むと、センタブロック1a、2aは
相対的に低温の樹脂により冷却される。センタブロック
la、2aの温度が低下すると、熱電対20がこれを検
出して温度調節器がONするため、ヒータ19がセンタ
ブロック1as2aを加熱する。このとき、ヒータ19
はメインランチ8に沿って配設されているため、加熱は
迅速かつ有効に行われる。
続いて、樹脂がセンタブロックのサブランナ9からチェ
イスブロック2bのサブランナ11に流れ、このサブラ
ンナ11に沿ワて配置されている各キャビティー10に
ゲート12から順次注入されて行くと、チェイスブロッ
ク1b、2bの温度は各キャビティー10毎に冷却され
る。キャビティーlO付近の温度が低下すると、これに
対応する位1置に配されている熱電対22が順次温度を
検出し、温度調節器をONI、、これに連携されている
ヒータ21を順次ONさせる。このとき、ヒータ21は
隣合うキャビティー10.10間にそれぞれ配設されて
いるため、各キャビティー10の温度低下に追従するよ
うに加熱を迅速かつ有効に開始することになる。このよ
うにして、各キャビティー10は遅れることなく、所定
の温度にそれぞれ制御される。
その後、型開閉シリンダ装置により上下型l、2が開か
れ、成形されたパッケージによってペレット等を封止さ
れている半導体装置がキャビティー10からエジェクタ
ビン13.14によって取り外される。
〔効果〕
′(1)  複数のし−タを成形型の内部に少数のキャ
ビティーに近接するように配設するとともに、複数の温
度感知器を複数のヒータに対応して近接するように配設
することにより、成形型の温度を局所毎に制御すること
ができるため、樹脂の移送に追従した温度制御を実現す
ることができる。
(2)  成形型の温度制御を樹脂の移送に追従させる
ことにより、樹脂の溶融状態をランナの移送中および各
キャビティーへの注入全体にわたって一定に維持するこ
とができるため、成形時間を短縮化することができる。
(3)  成形型の温度制御を樹脂の移送に追従させる
ことにより、移送時に一時的に低下した成形型の温度復
帰を早めることができるため、樹脂の硬化不足を防止す
ることができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではな(、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、ヒータは隣合うキャビティー間に設けるに限ら
ず、キャビティーに対して1:1に設けたり、3個以上
のキャビティーについて1本のヒータを設けたりしても
よい。
温度感知器はヒータに対して1:1に設けるに限らず、
2本以上のヒータについて1器の温度感知器を設けたり
してもよい。
温度感知器は熱電対に限らずサーシスタ素子でも良い。
〔利用分野〕
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体装置おけるパ
ッケージを成形する成形装置に通用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、他の製品を
成形する成形装置等についても適用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例であるトランスファ成形装置
を示す正面図、 第2v!Jは第1図のII−II線に沿う平面図である
。 l・・・上型、2・・・下型、la、2a・・・センタ
ブロック、Ib、2b・・・チェイスブロック、3.4
・・・取付ユニット、5・・・プランジャ、6・・・ポ
ット、7・・・カル、8・・・メインランナ、9・・・
サブランナ、10・・・キャビティー、11・・・サブ
ランナ、12・・・ゲート、13.14・・・エジェク
タビン、15.16・・・エジェクタビンプレート、1
7.18・・・リテーナプレート、19・・・センタブ
ロック用ヒータ、20・・・センタブロック用熱電対(
温度感知器)、21・・・チェイスブロック用ヒータ、
22・・・チェイスブロック用熱電対(温度感知器)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、複数のヒータが成形型の内部に少数のキャビティー
    に近接するように配設されているとともに、複数の温度
    感知器が複数のヒータに対応して近接するように配設さ
    れている成形装置。 2、ヒータおよび温度感知器が、チェイスブロックに配
    設されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の成形装置。 3、ヒータおよび温度感知器が、隣合うキャビティー間
    にこれらと平行方向にそれぞれ配設されていることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の成形装置。 4、温度感知器が、熱電対であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の成形装置。
JP60158166A 1985-07-19 1985-07-19 成形装置 Pending JPS6219418A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5871782A (en) * 1995-12-30 1999-02-16 Lg Semicon Co. Ltd. Transfer molding apparatus having laminated chase block
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