JPS62190176A - スピロジエノン類の製造方法 - Google Patents
スピロジエノン類の製造方法Info
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- JPS62190176A JPS62190176A JP61031290A JP3129086A JPS62190176A JP S62190176 A JPS62190176 A JP S62190176A JP 61031290 A JP61031290 A JP 61031290A JP 3129086 A JP3129086 A JP 3129086A JP S62190176 A JPS62190176 A JP S62190176A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、スピロジェノン類の製造方法に関し、詳しく
は、Ｎ−ハローＯ−アラアルキルヒドロキサム酸類の分
子内閉環反応によるスピロジェノン類の製造方法に関す
る。
は、Ｎ−ハローＯ−アラアルキルヒドロキサム酸類の分
子内閉環反応によるスピロジェノン類の製造方法に関す
る。
本発明者は、
構造式
〔式中、Ｒ１は水素、アルキル基またはアリール基、Ｒ
２は水素またはアルキル基、Ｘは）・ロゲン原子、ｎは
１〜３の整数を示す。〕にて表わされるＮ−ハロー０−
アラアルキルヒドロキサム酸類（以下、化合物Ｉという
。）を出発原料とし、簡単な操作、短時間で収率よく、 ０Ｒ１ （式中、Ｒ１およびｎは前記と同意義である。）にて表
わされるスピロジェノン類（以下、化合物■という。）
が得られる全く新規な分子内閉環反応を発見し、本発明
を完成した。
２は水素またはアルキル基、Ｘは）・ロゲン原子、ｎは
１〜３の整数を示す。〕にて表わされるＮ−ハロー０−
アラアルキルヒドロキサム酸類（以下、化合物Ｉという
。）を出発原料とし、簡単な操作、短時間で収率よく、 ０Ｒ１ （式中、Ｒ１およびｎは前記と同意義である。）にて表
わされるスピロジェノン類（以下、化合物■という。）
が得られる全く新規な分子内閉環反応を発見し、本発明
を完成した。
すなわち、本発明は化合物１を酸性溶媒中、金属イオン
の存在下で分子内閉環反応させることを特徴とする化合
物■の製造方法である。
の存在下で分子内閉環反応させることを特徴とする化合
物■の製造方法である。
前記、式１．Ｉｔにおいて、Ｘで示されるハロゲン原子
は、Ｆ、 ＣＬ、 Ｂｒ及び工であるが、一般に合
成の容易さからａｔ が好ましい。Ｒ１で示されるアル
キル基は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル等のみを言うのではなく、例えば、ベンジルの如
く、アリール基で置換されたアルキル基も含む。
は、Ｆ、 ＣＬ、 Ｂｒ及び工であるが、一般に合
成の容易さからａｔ が好ましい。Ｒ１で示されるアル
キル基は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル等のみを言うのではなく、例えば、ベンジルの如
く、アリール基で置換されたアルキル基も含む。
酸性溶媒の例としては、酢酸、トリフルオル酢酸等が挙
げられ、また、これらを適宜メチレンクロリドなどの非
プロトン性溶媒で希釈したものでもよい。
げられ、また、これらを適宜メチレンクロリドなどの非
プロトン性溶媒で希釈したものでもよい。
金属イオンは、Ａ ｙ ” ｒ Ｚ ｎ” ＋ Ｏｕ”
） Ｐａ ” ｒ Ｆ ｅ ”などの遷移金属のイオ
ンをいう。通常、これらの金属の塩が用いられる。この
金属塩は、溶媒に全く難溶でなければ、若干の溶解性を
示す程度でも支障ない。銀塩を例にとると、Ａｆ＋の対
陰イオンとして、ＳＯ２” 、００３” 、０ＯＯＣ！
Ｆ３”−、ＢＦ４ＬＯ８Ｏ□Ｃ！Ｆ３”−すどが有効で
ある。
） Ｐａ ” ｒ Ｆ ｅ ”などの遷移金属のイオ
ンをいう。通常、これらの金属の塩が用いられる。この
金属塩は、溶媒に全く難溶でなければ、若干の溶解性を
示す程度でも支障ない。銀塩を例にとると、Ａｆ＋の対
陰イオンとして、ＳＯ２” 、００３” 、０ＯＯＣ！
Ｆ３”−、ＢＦ４ＬＯ８Ｏ□Ｃ！Ｆ３”−すどが有効で
ある。
反応は、化合物！と金属塩とを酸性溶媒中、冷時〜室温
で１０〜６０分攪拌するなどして行なわれる。金属塩は
、原料に対して２当量程度使用する。反応終了後は、目
的生成物を常法により精製すればよい。
で１０〜６０分攪拌するなどして行なわれる。金属塩は
、原料に対して２当量程度使用する。反応終了後は、目
的生成物を常法により精製すればよい。
なお、化合物Ｉは、例えば対応するＯ−アラアルキルヒ
ドロキサム酸類とｔａｒｔ−プチルヒポノ・ライドとを
少量の炭酸カリの存在下非水溶媒（四塩化炭素、メチレ
ンクロリドなど）中反応させることにより得ることがで
きる。また、化合物Ｉは、芳香環に電子放出基がついた
もので、不安定なものもある。この場合には、化合物Ｉ
を合成後、これをシリカゲルクロマト等で精製すること
なく、そのまま、出発原料として使用するとよい。
ドロキサム酸類とｔａｒｔ−プチルヒポノ・ライドとを
少量の炭酸カリの存在下非水溶媒（四塩化炭素、メチレ
ンクロリドなど）中反応させることにより得ることがで
きる。また、化合物Ｉは、芳香環に電子放出基がついた
もので、不安定なものもある。この場合には、化合物Ｉ
を合成後、これをシリカゲルクロマト等で精製すること
なく、そのまま、出発原料として使用するとよい。
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
実施例 １
Ｎ−（４−メトキシフェネチルオキシ）アセタミド（３
１３，８１１１？、 １．５０ ｍｍｏｔ）を水冷下
エーテル°（１（ｌｒｎｔ）およびメチレンクロライド
（５−）にとかし、ｔｅｒｔ−ブチルヒポクロライド（
０，２２−、アミドに対し１．３倍モル）を加えて１０
分間攪拌する。反応後、溶媒を減圧留去し、残渣にヘキ
サン（５ｄ）を加えて３５℃で溶液を減圧留去する。残
渣を水冷下トリフルオル酢酸（６−）にとかし、炭酸銀
（８２７Ｗ、２倍モル）を加え、そのま筐２０分攪拌す
る。反応後、溶媒を２０〜２５℃で減圧留去し、残渣に
冷時１０％Ｎａ２ＣＯ３水（２０ｍ／）を加え、不溶物
を流去し、Ｆ液をメチレンクロリド（２５ｄＸ２）で抽
出する。抽出液を飽和食塩水（２５ｄ）で洗い芒硝乾燥
する。溶媒留去後、残渣をシリカゲルクロマト〔展開溶
媒ベンゼン−酢酸エチル（１：２））で精製シ、２−ア
セチル−１，２−オキサラオリジン−３−スピロ−１７
−サイクロヘキサ−２７，５／−ジエ／−４′−オン（
２３６，ｓｍ９．収率 ８２％）を得る。
１３，８１１１？、 １．５０ ｍｍｏｔ）を水冷下
エーテル°（１（ｌｒｎｔ）およびメチレンクロライド
（５−）にとかし、ｔｅｒｔ−ブチルヒポクロライド（
０，２２−、アミドに対し１．３倍モル）を加えて１０
分間攪拌する。反応後、溶媒を減圧留去し、残渣にヘキ
サン（５ｄ）を加えて３５℃で溶液を減圧留去する。残
渣を水冷下トリフルオル酢酸（６−）にとかし、炭酸銀
（８２７Ｗ、２倍モル）を加え、そのま筐２０分攪拌す
る。反応後、溶媒を２０〜２５℃で減圧留去し、残渣に
冷時１０％Ｎａ２ＣＯ３水（２０ｍ／）を加え、不溶物
を流去し、Ｆ液をメチレンクロリド（２５ｄＸ２）で抽
出する。抽出液を飽和食塩水（２５ｄ）で洗い芒硝乾燥
する。溶媒留去後、残渣をシリカゲルクロマト〔展開溶
媒ベンゼン−酢酸エチル（１：２））で精製シ、２−ア
セチル−１，２−オキサラオリジン−３−スピロ−１７
−サイクロヘキサ−２７，５／−ジエ／−４′−オン（
２３６，ｓｍ９．収率 ８２％）を得る。
融点 ８６−８７℃（ベンゼン−ｎ−ヘキサンより再結
）。
）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１は水素、アルキル基またはアリール基、
Ｒ＿２は水素またはアルキル基、Ｘはハロゲン原子、ｎ
は１〜３の整数を示す。〕にて表わされる化合物を酸性
溶媒中、金属イオンの存在下で分子内閉環反応させるこ
とを特徴とする。 構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１およびｎは前記と同意義である。）にて
表わされるスピロジエノン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61031290A JPS62190176A (ja) | 1986-02-15 | 1986-02-15 | スピロジエノン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61031290A JPS62190176A (ja) | 1986-02-15 | 1986-02-15 | スピロジエノン類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62190176A true JPS62190176A (ja) | 1987-08-20 |
Family
ID=12327175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61031290A Pending JPS62190176A (ja) | 1986-02-15 | 1986-02-15 | スピロジエノン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62190176A (ja) |
-
1986
- 1986-02-15 JP JP61031290A patent/JPS62190176A/ja active Pending
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