JPS6165864A - スピロジエノン類の製造方法 - Google Patents
スピロジエノン類の製造方法Info
- Publication number
- JPS6165864A JPS6165864A JP18778684A JP18778684A JPS6165864A JP S6165864 A JPS6165864 A JP S6165864A JP 18778684 A JP18778684 A JP 18778684A JP 18778684 A JP18778684 A JP 18778684A JP S6165864 A JPS6165864 A JP S6165864A
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- Japan
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- methoxy
- spirodienone
- acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、スピロジエノン類の製造方法に関し、詳しく
は、Ｎ−ハロ−Ｏ−アルキルヒドロキサム酸類の分子内
閉環反応によるスピロジエノン類の製造方法に関する。
は、Ｎ−ハロ−Ｏ−アルキルヒドロキサム酸類の分子内
閉環反応によるスピロジエノン類の製造方法に関する。
本発明者は、部分構造式
（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｙは電子放出基、Ｒはアル
キル基、ｎは１〜４の整数を示す。）を有するＮ−ハロ
−Ｏ−アルキルヒドロキサム酸類（以下、化合物Ｉとい
う。）を出発原料とし、簡単な操作、短時間で収率よく
、部分構造式 （式中、Ｒ及びｎは前記と同意義である。）を有するス
ピロジエノン類（以下、化合物ＩＩという。）が得られ
る全く新規な分子内閉環反応を発見し、本発明を完成し
た。
キル基、ｎは１〜４の整数を示す。）を有するＮ−ハロ
−Ｏ−アルキルヒドロキサム酸類（以下、化合物Ｉとい
う。）を出発原料とし、簡単な操作、短時間で収率よく
、部分構造式 （式中、Ｒ及びｎは前記と同意義である。）を有するス
ピロジエノン類（以下、化合物ＩＩという。）が得られ
る全く新規な分子内閉環反応を発見し、本発明を完成し
た。
すなわち、本発明は化合物Ｉを酸性溶媒中、金属イオン
の存在下で分子内閉環反応させることを特徴とする化合
物ＩＩの製造方法である。
の存在下で分子内閉環反応させることを特徴とする化合
物ＩＩの製造方法である。
前記、式Ｉ、ＩＩにおいて、Ｘで示されるハロゲン原子
は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩであるが、一般に合成の容易
さからＣｌが好ましい。Ｒで示されるアルキル基は、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等のみ
を言うのではなく、例えばベンジルの如く、アリール基
で置換されたアルキル基も含む。また、Ｙで示される電
子放出基としては、ＯＲ′、ＳＲ′（Ｒ′はアルキル基
を示す。）が挙げられる。
は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩであるが、一般に合成の容易
さからＣｌが好ましい。Ｒで示されるアルキル基は、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等のみ
を言うのではなく、例えばベンジルの如く、アリール基
で置換されたアルキル基も含む。また、Ｙで示される電
子放出基としては、ＯＲ′、ＳＲ′（Ｒ′はアルキル基
を示す。）が挙げられる。
酸性溶媒の例としては、酢酸、トリフルオル酢酸等が挙
げられ、また、これらを適宜メチレンクロリドなどの非
プロトン性溶媒で希釈したものでもよい。
げられ、また、これらを適宜メチレンクロリドなどの非
プロトン性溶媒で希釈したものでもよい。
金属イオンは、Ａｇ＋、Ｚｎ２＋、Ｃｕ＋、Ｐｄ２＋、
Ｆｅ２＋などの遷移金属のイオンをいう。通常、これら
の金属の塩が用いられる。この金属塩は、溶媒に全く難
溶でなければ、若干の溶解性を示す程度でも支障ない。
Ｆｅ２＋などの遷移金属のイオンをいう。通常、これら
の金属の塩が用いられる。この金属塩は、溶媒に全く難
溶でなければ、若干の溶解性を示す程度でも支障ない。
銀塩を例にとると、Ａｇ＋の対陰イオンとして、ＳＯ４
２−、ＣＯ３２−、ＯＣＯＣＦ３−、ＢＦ４−、ＯＳＯ
２ＣＦ３−などが有効である。
２−、ＣＯ３２−、ＯＣＯＣＦ３−、ＢＦ４−、ＯＳＯ
２ＣＦ３−などが有効である。
反応は、化合物Ｉと金属塩とを酸性溶媒中、冷時〜室温
で１０〜６０分撹拌するなどして行なわれる。金属塩は
、原料に対して２当量程度使用する。
で１０〜６０分撹拌するなどして行なわれる。金属塩は
、原料に対して２当量程度使用する。
反応終了後は、目的生成物を常法により精製すればよい
。
。
なお、化合物Ｉは、例えば対応するＯ−アルキルヒドロ
キサム酸類とｔｅｎｔ−ブチルヒポハライトとを少量の
炭酸カリの存在下非水溶媒（四塩化炭素、メチレンクロ
リドなど）中反応させることにより得ることができる。
キサム酸類とｔｅｎｔ−ブチルヒポハライトとを少量の
炭酸カリの存在下非水溶媒（四塩化炭素、メチレンクロ
リドなど）中反応させることにより得ることができる。
なお、化合物Ｉは、芳香環に電子放出基がついたもので
、不安定なものもある。この場合には、化合物Ｉを合成
後、これをシリカゲルクロマト等で精製することなく、
そのまま、出発原料として使用するよい。
、不安定なものもある。この場合には、化合物Ｉを合成
後、これをシリカゲルクロマト等で精製することなく、
そのまま、出発原料として使用するよい。
以下に実施例を拳げて本発明を具体的に説明する。
実施例１
Ｎ−メトキシ−４−（４−メトキシフエニル）ブチルア
ミド（２２０．９ｍｇ、０．９９ｍｍｏｌ）を氷冷下エ
ーテル（８ｍｌ）にとかし、ｔｅｎｔ−ブチルヒポクロ
ライド（０．１４ｍｌ、アミドに対し１．２倍モル）を
加え１５分撹拌する。反応後ヘキサン（１０ｍｌ）を加
えて３５℃で溶液を減圧留去する。残渣を氷冷下トリフ
ルオル酢酸（５ｍｌ）にとかし、炭酸銀（５４６ｍｇ、
２倍モル）を加え、そのまま２０分撹拌する。反応後溶
媒を２０〜２５℃で減圧留去し、残渣に１０％Ｎａ２Ｃ
Ｏ３水（２０ｍｌ）を加え、不溶物を濾去し、濾液をメ
チレンクロリド（２５ｍｌ×２）で抽出する。抽出液を
飽和食塩水で洗い芒硝乾燥する。溶媒留去後残渣をシリ
カゲルフロマト［展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（５：
１）］で精製し１−メトキシ−２−オキソピペリジン−
６−スピロ−１′−サイクロヘキサ−２′、５′−ジエ
ン−４′−オン（１７０．８ｍｇ、収率８３．４％）を
得る。
ミド（２２０．９ｍｇ、０．９９ｍｍｏｌ）を氷冷下エ
ーテル（８ｍｌ）にとかし、ｔｅｎｔ−ブチルヒポクロ
ライド（０．１４ｍｌ、アミドに対し１．２倍モル）を
加え１５分撹拌する。反応後ヘキサン（１０ｍｌ）を加
えて３５℃で溶液を減圧留去する。残渣を氷冷下トリフ
ルオル酢酸（５ｍｌ）にとかし、炭酸銀（５４６ｍｇ、
２倍モル）を加え、そのまま２０分撹拌する。反応後溶
媒を２０〜２５℃で減圧留去し、残渣に１０％Ｎａ２Ｃ
Ｏ３水（２０ｍｌ）を加え、不溶物を濾去し、濾液をメ
チレンクロリド（２５ｍｌ×２）で抽出する。抽出液を
飽和食塩水で洗い芒硝乾燥する。溶媒留去後残渣をシリ
カゲルフロマト［展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（５：
１）］で精製し１−メトキシ−２−オキソピペリジン−
６−スピロ−１′−サイクロヘキサ−２′、５′−ジエ
ン−４′−オン（１７０．８ｍｇ、収率８３．４％）を
得る。
融点１１０〜１１１．５℃（クロロホルムーイソプロピ
ルエーテルより再結）。
ルエーテルより再結）。
実施例２
実施例１と同様の操作により以下の化合物を得た。（１
）は原料、（２）は生成物、（３）は収率、（４）は物
理恒数を示す。
）は原料、（２）は生成物、（３）は収率、（４）は物
理恒数を示す。
１．（１）Ｎ−メトキシ−３−（４−メトキシフエニル
）プロピオンアミド（２）１−メトキシ−２−オキソピ
ロリジン−５−スピロ−１′−サイクロヘキサ−２′、
５′−ジエン−４′−オン（３）８３％（４）融点１２
７〜１２８℃ ２．（１）Ｎ−メトキシ−Ｎ−クロル−２−（４−メト
キシフエニル）アセタミド（２）１−メトキシ−２−オ
キソアゼチジン−４−スピロ−１′−サイクロヘキサ−
２′、５′−ジエン−４′−オン（３）７１％（４）融
点１０５〜１０６℃
）プロピオンアミド（２）１−メトキシ−２−オキソピ
ロリジン−５−スピロ−１′−サイクロヘキサ−２′、
５′−ジエン−４′−オン（３）８３％（４）融点１２
７〜１２８℃ ２．（１）Ｎ−メトキシ−Ｎ−クロル−２−（４−メト
キシフエニル）アセタミド（２）１−メトキシ−２−オ
キソアゼチジン−４−スピロ−１′−サイクロヘキサ−
２′、５′−ジエン−４′−オン（３）７１％（４）融
点１０５〜１０６℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 部分構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｙは電子放出基、Ｒはアル
キル基、ｎは１〜４の整数を示す。）を有する化合物を
酸性溶媒中、金属イオンの存在下で分子内閉環反応させ
ることを特徴とする構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ及びｎは前記と同意義である。）を有するス
ピロジエノン類の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18778684A JPS6165864A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | スピロジエノン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18778684A JPS6165864A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | スピロジエノン類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6165864A true JPS6165864A (ja) | 1986-04-04 |
Family
ID=16212197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18778684A Pending JPS6165864A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | スピロジエノン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6165864A (ja) |
-
1984
- 1984-09-07 JP JP18778684A patent/JPS6165864A/ja active Pending
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