JPS62188011A - 垂直磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、垂直記録方式を用いた高密度磁気メモリ装置
としてのフロッピーディスク又はハードディスク装置あ
るいは磁気テープ装置等に用いる垂直磁気ヘッドの製造
方法に関する。

従来の技術 近年、記録密度の高度化を図るためのヘッドとして垂直
磁気ヘッドが開発されている。このような垂直磁気ヘッ
ドの主磁極の接着には、主磁極膜自体に熱的に不安定な
Ｃｏ系アモルファス合金を用いることが多いために、ガ
ラス接着方式を採用できず、エポキシ等の有機接着剤を
用いている。

そして、このようなエポキシ接着剤が膜面全面を接着す
るように用いているため、ヘッド・媒体摺動部間にエポ
キシ接着層が露出する状態となっている。

この点を例えば特開昭５８−６４６１３号公報に示され
る垂直磁気ヘッドで考える。これは、第３゛図に示すよ
うに、表面を鏡面研磨した非磁性ブロック１上にＣｏ系
アモルファス合金等からなる高透磁率層２をスパッタリ
ング法等により形成した後、非磁性ブロック１に対向す
る非磁性ブロック３と有機接着を行なうものである。４
は第２の磁性合金薄膜、５はバルクの磁性体ブロックで
あり、６は励磁コイルである。

発明が解決しようとする問題点 このように、主磁極（高透磁率層）２の接着の際に主磁
極全体を有機接着剤７で接着する方式をとっているため
、接着に際して有機接着剤７が高透磁率Ｍ２と非磁性ブ
ロック３との間に含浸し、有機接着剤７の層が厚くなる
。このようにヘッド・媒体摺動部（媒体摺動面８）に有
機接着剤７が現れ、ヘッド先端の仕上げ時に有機接着剤
７が凹みやすくなる。この結果、有機接着剤７の厚みが
厚くなった場合（例えば、約０．３μｍ以上）には、媒
体を傷つける原因ともなり、かつ、ヘッド特性も低下す
るものとなっている。

しかして、本発明は、このような点に鑑みなされたもの
で、有機接着剤による接着方式においてこの有機接着剤
が媒体摺動面に現れることがなく、媒体及びヘッドを保
護し得る垂直磁気ヘッドの製造方法を提供することを目
的とする。

問題点を解決するための手段 本発明は、まず、表面に溝を形成した非磁性体又は磁性
体による第１ブロックと、この第１ブロックの溝に対応
する突条部を形成した非磁性体又は磁性体による第２ブ
ロックとを対として設け、最初に第１ブロックの溝側表
面の全面に高透磁率層を形成した後、溝に隣接する位置
に位置させてこの高透磁率層上に非磁性体層を形成し、
この後、溝に対して突条部を位置合わせするとともに突
条部に隣接する腹面が非磁性体層面に接するように第２
ブロックを第１ブロック上に密接させ、この状態で突条
部の外側からこの第２ブロックと高透磁率層との間に有
機接着剤を含浸させてヘッドブロックを作成し、このヘ
ッドブロックを所定厚さで溝及び突条部を横切る方向に
切断してヘッドチップを形成し、このヘッドチップの媒
体摺動面における非磁性体部分の端部からヘッドチップ
端部に向けて溝及び突条部付近を斜めに切断するもので
ある。

作用 有機接着剤による接着は第１ブロック上に第２ブロック
を位置合わせセットした状態で、突条部の外側から接着
剤を含浸させることにより行なわれる。この際、第２ブ
ロックに形成されている突条部が有機接着剤の第２ブロ
ック・非磁性体間への含浸が防止される。つまり、非磁
性体部分においては有機接着剤が存在しないこととなる
。そして、このように形成されたヘッドブロックを切断
してヘッドチップとした状態で非磁性体の端部がらヘッ
ドチップ端部を切断除去するので、有機接着剤が媒体摺
動面から除去され、この有機接着剤が介在していない非
磁性体部分のみが露出することとなる。

実施例 本発明の第一の実施例を第１図（ａ）〜（ｆ）に基づい
て説明する。まず、第１図（ａ）に示すように表面に例
えば２つの溝１０ａを形成した非磁性体による第１ブロ
ック１０を用意する。具体的には、非磁性体１ｏの表面
を鏡面研磨した後、ドライエツチング法等により深さ数
μｍに溝１０ａを形成する。又、同図（Ｃ）に示すよう
にこれらの溝１０ａに対応する２つの突条部１１ａが形
成された非磁性体による第２ブロック１１も用意してお
く。

そして、最初に同図（ｂ）に示すように前記第１ブロッ
ク１ｏの溝１０ａを有する表面側の全面に高透磁率層１
２を形成する。この高透磁率層１２はＣＯ系アモルファ
ス合金等によるものであり、スパッタリング法等により
厚さＯ，１〜０．３μｍ程度に形成する。次に、同図（
Ｃ）に示すようにこの高透磁率層１２上に非磁性体層１
３を形成する。この非磁性体層１３の形成位置は溝１０
ａに隣接する位置であり、その幅は第１ブロック１０上
において溝１０ａ間の幅に相当する幅とする。

この非磁性体層１３は前記高透磁率層１２を保護するた
めのものであり、Ｓｉｎ、等の材料をスパッタリング法
等により厚さ数μｍに形成したものである。つづいて、
第１ブロック１０と対で設けた第２ブロック１１を同図
（ｄ）に示すように第１ブロック１０上に密接させる。

より具体的には、突条部１１ａが溝１０ａ部分に対応す
るように位置合わせし、かつ、突条部１１ａ間の腹面１
１ｂが非磁性体層１３面上に接するようなセット状態と
する。この状態では、非磁性体層１３部分が高いため、
この非磁性体層１３面に腹面１１ｂが接している第２ブ
ロック１１の突条部１１ａ側は第１ブロック１０上の高
透磁率Ｍ１２から少し浮いた状態となり、両者間に隙間
が形成される。このような第１，２ブロック１０．１１
のセット状態で突条部１１ａの外側から第２ブロック１
１と高透磁率［１２との隙間にエポキシ等の有機接着剤
１４を含浸・充填させて接着を行なう。この際、第２ブ
ロック１１に形成された突条部１１ａは両サイドから充
填される有機接着剤１４が非磁性体層１３と第２ブロッ
ク１１との間に含浸するのを防止する働きをする。又、
非磁性体層１３の表面は第２ブロック１１側との接着に
際しての基準面として機能し、接着時のブロックの位置
ずれも防止される。これにより、同図（ｄ）に示すよう
にへラドブロック１５が形成される。

このようにヘッドブロック１５を形成したら、同図（ｄ
）に一点鎖線で示すようなスライス面１６によりヘッド
ブロック１５の切断を厚さ１ｍｍ程度で行なう。ここに
、このスライス面１６は第１ブロック１０の溝１０ａ及
び第２ブロック１１の突条部１１ａを横切る方向とされ
る。このようにスライシングすることにより、同図（ｅ
）に示すようなヘッドチップ１７が形成される。このよ
うなヘッドチップ１７状態ではスライス面１６に平行な
面が媒体摺動面１８となる。つまり、同図（ｄ）におけ
る前面部分が全て媒体摺動面１８に露出することになる
が、本実施例では同図（ｅ）に示すようにこの媒体摺動
面１８において非磁性体１３部分はそのまま残すが、こ
の非磁性体１３部分の両側からヘッドチップ１７の両端
に向けて第１，２ブロック１０．１１をテーパー状の切
断面１９により斜めに切断するものである。つまり、こ
の切断面１９により溝１０ａ及び突条部１１ａが切断さ
れ、この部分の有機接着剤１４も除去されることになる
。これにより、媒体摺動面１８には非磁性体層１３の幅
部分のみで第１ブロック１０、高透磁率層１２、非磁性
体層１３及び第２ブロック１１が露出することとなり、
有機接着剤１４は媒体摺動面１８には現れないものとな
る。

このようなヘッドチップ１７を同図（ｆ）に示すように
フェライトブロック２０上に接着固定し、このフェライ
トブロック２０に励磁巻線２１を巻回することにより、
いわゆるφ型垂直磁気ヘッドが完成する。

このように、本実施例によれば、有機接着剤１４により
接着を行なう主；のであるが、この有機接着剤１４が媒
体摺動面１８には出現しないヘッドを実現することがで
き、ヘッド摺動時に媒体を傷つけることがなく、又、ヘ
ッド特性が低下することもない。

つづいて、本発明の第二の実施例を第２図により説明す
る。本実施例は、いわゆるメタリルイン狭ギャップのリ
ング型垂直磁気ヘッドに適用したものであり、基本的な
製造方法は前記第一の実施例と同様である。異なる点に
ついて説明すると、まず、非磁性体による第１，２ブロ
ック１０，１１に代えて、本実施例では磁性体、具体的
にはフェライトによる第１，２ブロック２２．２３が用
いられている。又、フェライトブロック２ｏに代えてＣ
字型のフェライトバックコア２４が用いられている。

このように異なる点を踏まえ、本実施例の製造方法を簡
単に説明する。本実施例においても、まず、厚さ数胴の
第１ブロック２２の表面を鏡面研磨した後、ドライエツ
チング法等により深さ数帥の溝２２ａを２本形成する（
第１図（ａ）に相当）。

次に、この第１ブロック２２上にＣｏ系アモルファス合
金等よりなる高透磁率層１２をスパッタリング法等によ
り厚さ１μｍ程度に形成する（第１図（ｂ）に相当）。

そして、この高透磁率層１２上に５ｉ０２等よりなる非
磁性体層１３を０．１〜０．３μｍ程度の厚さで形成す
る（第１図（ｃ）に相当）。ここで、この非磁性体１３
の膜厚かリングヘッドのギャップとなる。そして、第１
図（ｄ）の場合と同様に、突条部２３ａを有する第２ブ
ロック２３を位置合わせセットした状態で、両サイドか
ら有機接着剤１４を含浸させて第１ブロック２２側との
設置後を行なう。これにより、ヘッドブロックが形成さ
れるので、これを所定の厚さ１胴程度にスライシングし
てヘッドチップを形成し、媒体摺動面１８において有機
接着剤１４が露出している両サイドを切断面１９で切り
落し、有機接着剤１４が媒体摺動面１８に出現しないよ
うにするものである。そして、最後にフェライトバック
コア２４を接着し、このフェライトバックコア２４に励
磁巻線２１を巻回することにより、第２図に示すような
いわゆるメタリルイン狭ギャップのリングヘッド型の垂
直磁気ヘッドが完成する。

なお、切断面１９の形状としては媒体摺動に都合のよい
テーパー状が好ましいが、必ずしも図示の如く斜め直線
状とする必要はない。

発明の効果 本発明は、上述したように垂直磁気ヘッドを製造するよ
うにしたので、有機接着剤の含浸に際して第２ブロック
の突条部によりこの有機接着剤の非磁性体層と第２ブロ
ックとの間への含浸を防止することができ、又、接着し
てヘッドブロックを作成しこれを切断してヘッドチップ
を作成した後媒体摺動面において非磁性体の端部外を切
断除去するので、媒体摺動面に有機接着剤が出現するこ
とがなく、よって、媒体摺動に際してこの媒体を傷つけ
ることがなく、かつ、ヘッド特性も損なわれることがな
いものである。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｆ）は本発明の第一の実施例を工程順
に示す斜視図、第２図は本発明の第二の実施例を示す斜
視図、第３図は従来例を示す斜視図である。 １ｏ・・・第１ブロック、１０ａ・・・溝、１１・・・
第２ブロック、ｌｌａ・・・突条部、ｌｌｂ・・・腹面
、１２・・・高透磁率層、１３・・・非磁性体層、１４
・・・有機接着剤、１５・・・ヘッドブロック、１７・
・・ヘッドチップ、１８・・・媒体摺動面、２２・・・
第１ブロック、２２ａ・・・溝、２３・・・第２ブロッ
ク、２３ａ・・・突条部出　願　人　　　東京電気株式
会社 ・ｌ’ｉ’ｊ７：；：　− 代理人　相　木　呵□Ｉ−！・。 ｉｃ／

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 表面に溝を形成した非磁性体又は磁性体による第１ブロ
   ックと、この第１ブロックの前記溝に対応する突条部を
   形成した非磁性体又は磁性体による第２ブロックとを設
   け、前記第１ブロックの溝側表面の全面に高透磁率層を
   形成した後、前記溝に隣接する位置に位置させてこの高
   透磁率層上に非磁性体層を形成し、前記溝に対して前記
   突条部を位置合わせするとともにこの突条部に隣接する
   腹面が前記非磁性体層面に接するように前記第２ブロッ
   クを第１ブロック上に密接させ、前記突条部の外側から
   この第２ブロックと前記高透磁率層との間に有機接着剤
   を含浸させてヘッドブロックを作成し、このヘッドブロ
   ックを所定厚さで前記溝及び突条部を横切る方向に切断
   してヘッドチップを形成し、このヘッドチップの媒体摺
   動面における非磁性体部分の端部からヘッドチップ端部
   に向けて前記溝及び突条部付近を斜めに切断することを
   特徴とする垂直磁気ヘッドの製造方法。