JPS62180354A - 光重合性組成物 - Google Patents
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- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な光重合性組成物に関するものであり、更
に詳しくは、金属との密着性(付着性または接着性)が
改善された光重合性組成物に関する。
に詳しくは、金属との密着性(付着性または接着性)が
改善された光重合性組成物に関する。
光重合性組成物から形成された被膜と基材との間の密着
性を改善するために、従来から多くの提案がなされてい
る。即ちプリント配線板の製造において用いられるドラ
イフィルムフォトレジストは、溶液型の7オトレジスト
に比1咬して金属表面への密着性が弱く、エツチングあ
るいはメッキの際に種々の好ましくない現象が発生する
。たとえば、エツチング液のスプレ一時におけるアンダ
ーカットおよびメッキ液の浸漬時によるレジスト界面へ
のメッキ液の浸み込み等の現象が生じ、その結果、期待
する配線が得られないことがしばしば経験される。
性を改善するために、従来から多くの提案がなされてい
る。即ちプリント配線板の製造において用いられるドラ
イフィルムフォトレジストは、溶液型の7オトレジスト
に比1咬して金属表面への密着性が弱く、エツチングあ
るいはメッキの際に種々の好ましくない現象が発生する
。たとえば、エツチング液のスプレ一時におけるアンダ
ーカットおよびメッキ液の浸漬時によるレジスト界面へ
のメッキ液の浸み込み等の現象が生じ、その結果、期待
する配線が得られないことがしばしば経験される。
これらの問題を解決するために、感光性樹脂層中に種々
の化合物を添加することにより、密着性の改善を目的と
して従来種々の提案がなされている。(例えば特公昭5
0−9177号、特公昭57 49894″?i、特公
昭57−26285号、特公昭54−5292号、特公
昭55−22481号、特開1!4351 64919
号、特開昭51−64920号、特公昭57 4605
3号、特公昭57−46054号、特公昭57−216
97号、1′、〒公昭57−40500号等参照)〔発
明が解決しようとする問題点〕 しかし、これら従来提案された化合物は、特にフォ)・
レジストとして使用された場合には次のような欠点を示
すのである。例えば密着促進剤として公知であるベンズ
イミダゾール、ベンゾトリアゾールなどの複未環窒素含
有化合物を含む光重合性組成物を用いた場合、現像後の
基板の銅露出面の赤変などが見られ、メッキ、工、チン
グ等の後加工に好ましくない9響を与える。あるいは、
密χ21.’iJ im剤の添加量増加に伴い、感度低
下を起こすなとの悪9響を与える。
の化合物を添加することにより、密着性の改善を目的と
して従来種々の提案がなされている。(例えば特公昭5
0−9177号、特公昭57 49894″?i、特公
昭57−26285号、特公昭54−5292号、特公
昭55−22481号、特開1!4351 64919
号、特開昭51−64920号、特公昭57 4605
3号、特公昭57−46054号、特公昭57−216
97号、1′、〒公昭57−40500号等参照)〔発
明が解決しようとする問題点〕 しかし、これら従来提案された化合物は、特にフォ)・
レジストとして使用された場合には次のような欠点を示
すのである。例えば密着促進剤として公知であるベンズ
イミダゾール、ベンゾトリアゾールなどの複未環窒素含
有化合物を含む光重合性組成物を用いた場合、現像後の
基板の銅露出面の赤変などが見られ、メッキ、工、チン
グ等の後加工に好ましくない9響を与える。あるいは、
密χ21.’iJ im剤の添加量増加に伴い、感度低
下を起こすなとの悪9響を与える。
また、近年プリント配線の高密度化が望まれ、そのため
に、原版の再現性が良く、高解像力であり、かつテンテ
ィングの信頼性の高いドライフィルムフォトレジストが
必要となってきており\柔軟で密着力が良く1、感光し
た場合のラチチュードが広く、解像力が良く、現像工[
呈の変動に対しても安定なものであることが望まれてい
る。
に、原版の再現性が良く、高解像力であり、かつテンテ
ィングの信頼性の高いドライフィルムフォトレジストが
必要となってきており\柔軟で密着力が良く1、感光し
た場合のラチチュードが広く、解像力が良く、現像工[
呈の変動に対しても安定なものであることが望まれてい
る。
本発明の目的は、光重合性組成物の被覆(オに対する上
記のような問題点がなく、しかも金属面への密着性が改
善され、ざらに、原版に対する忠実な画線像を再現し、
高解像力を発現しうる光重合性組成物を提供することに
ある。
記のような問題点がなく、しかも金属面への密着性が改
善され、ざらに、原版に対する忠実な画線像を再現し、
高解像力を発現しうる光重合性組成物を提供することに
ある。
本発明者等は、次のような光重合性組成物を用いること
でこれらの目的が達成されることを見出し、本発明を完
成するに到った。
でこれらの目的が達成されることを見出し、本発明を完
成するに到った。
即ち、本発明は、熱可塑性有機重合体バインダー、分子
中に少なくとも2個のエチレン性不飽和二重結合を有す
る付加重合性不飽和化合物および光重合開始剤を主成分
とし、かつ下記一般式(1)で表わされるプリン又はそ
の誘導体を添加してなる光重合性組成物。
中に少なくとも2個のエチレン性不飽和二重結合を有す
る付加重合性不飽和化合物および光重合開始剤を主成分
とし、かつ下記一般式(1)で表わされるプリン又はそ
の誘導体を添加してなる光重合性組成物。
(ここで1’(,1、几2は水素原子、ハロゲン、アル
キル基、アルコキシ基、アシル基、アミノ基、アリール
基又はアルキルエステル基である。またR3(ま水素原
子、アルキル基、アルコキシ栽、アシル基、アミ7基、
アリール基、アルキルエステル基又はカルボン酸基であ
る。) 本発明の上記一般式(1)で表わされる密着性及びIf
/:、キ性に改善を与えるf化合物の具体例として(
ま、プリン、ヒボキサンチン、キサンチン、尿酸2−メ
トキシプリン、6−メトキシプリン、アデニン、8−メ
チルプリン、8−オキシメチルプリン、8−プリンカル
ボン酸などが挙げられる。
キル基、アルコキシ基、アシル基、アミノ基、アリール
基又はアルキルエステル基である。またR3(ま水素原
子、アルキル基、アルコキシ栽、アシル基、アミ7基、
アリール基、アルキルエステル基又はカルボン酸基であ
る。) 本発明の上記一般式(1)で表わされる密着性及びIf
/:、キ性に改善を与えるf化合物の具体例として(
ま、プリン、ヒボキサンチン、キサンチン、尿酸2−メ
トキシプリン、6−メトキシプリン、アデニン、8−メ
チルプリン、8−オキシメチルプリン、8−プリンカル
ボン酸などが挙げられる。
また、上記化合物の含有用は、光重合性組成物の今市:
r’c (乾燥残分)基嘔で、好ましくは0006〜6
.0重11%であり、ざらに好ましくは0.03〜2、
5 、l’j量%である。
r’c (乾燥残分)基嘔で、好ましくは0006〜6
.0重11%であり、ざらに好ましくは0.03〜2、
5 、l’j量%である。
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる熱可塑性有
機重合体バインダーとしては、例えばポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸等のビニル
モノマーの重合物及び共重合体が例示される。その使用
量としては、光重合性組成物の全重量(乾燥残分)基準
で、好ましくは0.1〜80重量%であり、ざらに好ま
しくは35〜70重量%である。
機重合体バインダーとしては、例えばポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸等のビニル
モノマーの重合物及び共重合体が例示される。その使用
量としては、光重合性組成物の全重量(乾燥残分)基準
で、好ましくは0.1〜80重量%であり、ざらに好ま
しくは35〜70重量%である。
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる付加重合性
不飽和化合物は分子中に少なくとも2個のエチレン性不
飽和二重結合を有するものであり、付加重合しうるちの
で゛あれば良く、これらは1種又は2種以上の化合物を
使用することができる。
不飽和化合物は分子中に少なくとも2個のエチレン性不
飽和二重結合を有するものであり、付加重合しうるちの
で゛あれば良く、これらは1種又は2種以上の化合物を
使用することができる。
例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
アクリルアミド、メタクリルアミド、アリル化合物、ビ
ニルエーテル化合物等が挙げられる。
アクリルアミド、メタクリルアミド、アリル化合物、ビ
ニルエーテル化合物等が挙げられる。
具体的には、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ルとしては、多価アルコールのポリアクリレート及びポ
リメタクリレート (ここで言うポリアクリレート等と
はジアクリレート以上の化合物である。)であり、多価
アルコールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、ブタンジオ
ール。
ルとしては、多価アルコールのポリアクリレート及びポ
リメタクリレート (ここで言うポリアクリレート等と
はジアクリレート以上の化合物である。)であり、多価
アルコールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、ブタンジオ
ール。
トリメチロールエタンなどである。アクリルアミド、メ
タクリルアミドとしては、メチレンビスアクリルアミド
、同メタクリルアミドの他に、エチレンジアミン、ヘキ
サメチレンジアミンなどのポリアクリルアミド、ポリメ
タクリルアミドが挙げられる。アリル化合物としては、
フタル酸、アジピン酸、マロン酸等のジアリルエステル
、ジアリルアミド、あるいはアントラキノンジスルホン
酸。
タクリルアミドとしては、メチレンビスアクリルアミド
、同メタクリルアミドの他に、エチレンジアミン、ヘキ
サメチレンジアミンなどのポリアクリルアミド、ポリメ
タクリルアミドが挙げられる。アリル化合物としては、
フタル酸、アジピン酸、マロン酸等のジアリルエステル
、ジアリルアミド、あるいはアントラキノンジスルホン
酸。
ベンゼンジスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸のジア
リルエステル、ジアリルアミド等がある。
リルエステル、ジアリルアミド等がある。
ビニルエーテル化合物としては前記多価アルコールのポ
リビニルエーテル、例えばエチレングリコールジビニル
エーテル、グリセロールトリビニルエーテルなどがある
。ビニルエステル化合物としては、ジビニルサクシネー
ト、ジビニルアジペート、ジビニルフタレートなどが挙
げられる。
リビニルエーテル、例えばエチレングリコールジビニル
エーテル、グリセロールトリビニルエーテルなどがある
。ビニルエステル化合物としては、ジビニルサクシネー
ト、ジビニルアジペート、ジビニルフタレートなどが挙
げられる。
これらの中で、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、同メタクリレート等のグリコールエステル、ペンタ
エリスリト−ルトリアクリレート。
ト、同メタクリレート等のグリコールエステル、ペンタ
エリスリト−ルトリアクリレート。
同メタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、同メタクリレート等のアクリル系多官能性モノ
マーが好ましい。
レート、同メタクリレート等のアクリル系多官能性モノ
マーが好ましい。
付加重合性不飽和化合物の含有量は、光重合性組成物の
全重量(乾燥残分)基準で、好ましくは約10〜90重
量%であり、ざらに好ましくは約20〜55重量%であ
る。
全重量(乾燥残分)基準で、好ましくは約10〜90重
量%であり、ざらに好ましくは約20〜55重量%であ
る。
本発明の組成物に好適に用いられる光重合開始剤として
は、エチレン性不飽和化合物の重合に適する開始剤が良
く、アクリル系多官能性モノマーに対しては、アントラ
キノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアント
ラキノン等のアントラキノン誘導体、ベンゾイン、ベン
ゾインエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等の
ベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノン、アセト
フェノン、フェナントレンキノン、オキシムエステル、
アミノフェニルケトン、チオキサントン等が単独あるい
は組み合わせて使用される。
は、エチレン性不飽和化合物の重合に適する開始剤が良
く、アクリル系多官能性モノマーに対しては、アントラ
キノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアント
ラキノン等のアントラキノン誘導体、ベンゾイン、ベン
ゾインエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等の
ベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノン、アセト
フェノン、フェナントレンキノン、オキシムエステル、
アミノフェニルケトン、チオキサントン等が単独あるい
は組み合わせて使用される。
光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は好ましくは
光重合性組成物の総重量(乾燥残分)基準でO,OO6
〜6.0重量%であり、ざらに好ましくは0.06〜3
.0重量%である。
光重合性組成物の総重量(乾燥残分)基準でO,OO6
〜6.0重量%であり、ざらに好ましくは0.06〜3
.0重量%である。
本発明の光重合性組成物は、上述の如く熱可塑性有機重
合体バインダー、エチレン性不飽和化合物、光重合開始
剤および密着性を改善する化合物を必須成分とするが、
必要に応じて熱重合禁止剤やレジストを確認しやすくす
るために染料、顔料、可塑剤などを使用してもよい。
合体バインダー、エチレン性不飽和化合物、光重合開始
剤および密着性を改善する化合物を必須成分とするが、
必要に応じて熱重合禁止剤やレジストを確認しやすくす
るために染料、顔料、可塑剤などを使用してもよい。
本発明の光重合性組成物は、フォトレジストの形成に有
用な組成物であるが、必ずしもこの用途に限定されるも
のではなく、Uvインキ、ソルダーレジスト、印刷版、
紫外線硬化塗料、紫外線硬化接着剤などにも応用できる
。
用な組成物であるが、必ずしもこの用途に限定されるも
のではなく、Uvインキ、ソルダーレジスト、印刷版、
紫外線硬化塗料、紫外線硬化接着剤などにも応用できる
。
以下、実施例および比較例を示して、本発明を更に説明
する。
する。
実施例および比較例においては、以下の手法で解像力、
硬化後の密着性評価を行った。
硬化後の密着性評価を行った。
(光重合性層の作成)
溶媒に溶解した光重合性組成物をポリエステルフィルム
上に塗布し、75°Cで15分間乾燥して50μmの厚
ぎの光重合性層を得た。
上に塗布し、75°Cで15分間乾燥して50μmの厚
ぎの光重合性層を得た。
(解像力)
この光重合性層を銅板に加圧、加熱積層した。
得られた積層体に細線パターンマスクを使用し、超高圧
水銀ランプにより、数水準の露光量で露光した。次に、
クロロセンで現像を行い、レジストの細線が形成された
そのレジスト幅を読むことで解像力分水めた。
水銀ランプにより、数水準の露光量で露光した。次に、
クロロセンで現像を行い、レジストの細線が形成された
そのレジスト幅を読むことで解像力分水めた。
(硬化後の密着性評価)
上記で得たポリエステルフィルムに塗布された厚250
μmの光重合性層を銅張り積層板に加圧。
μmの光重合性層を銅張り積層板に加圧。
加熱積層した。この積層体に、細線パターンマスクを使
用し、超高圧水銀ランプにより2水阜の露光量(60、
11) OmJ / 7)で露光シタ。次にクロロセン
で現f栄企行った。得られたレジストパターン基板を水
酸化カリウム水溶液(pr−r 10 。
用し、超高圧水銀ランプにより2水阜の露光量(60、
11) OmJ / 7)で露光シタ。次にクロロセン
で現f栄企行った。得られたレジストパターン基板を水
酸化カリウム水溶液(pr−r 10 。
60パC)に1時1+i]浸湿tし、風1:(ぎせた。
その後、レジストパターン基板の状郭変化(レジスl−
表面での色変化、形成されたelll線部におけるアル
カリイ(溶イタのt]み込み、銅糸面におけるレジスト
のハガレ、ブツ状など)を観察することで密着性の評価
を行った。
表面での色変化、形成されたelll線部におけるアル
カリイ(溶イタのt]み込み、銅糸面におけるレジスト
のハガレ、ブツ状など)を観察することで密着性の評価
を行った。
実施例1
光重合性組成、物として、下記に示す化合物を主成分に
用い、配合した光重合性組成物を、メチルエチルケトン
に溶解ぎせ、ポリエステルフィルム上に厚ぎ50μmに
塗布し、前記解像力、硬化後の密着評1i山の手順に従
い評価を行った。
用い、配合した光重合性組成物を、メチルエチルケトン
に溶解ぎせ、ポリエステルフィルム上に厚ぎ50μmに
塗布し、前記解像力、硬化後の密着評1i山の手順に従
い評価を行った。
トリアクリレート
テトラエチレングリコール 25.O#ジアクリレー
ト p−メチルアセトフェノンオキシム 3,0〃−
〇−アセテート クロロチオキサントン 0.2〃プリン
0.4〃実施例2 プリンの代わりにヒボキサンチン(0,4重皿部)を用
いる他は、実施例1と同様な手順で評価を行った。
ト p−メチルアセトフェノンオキシム 3,0〃−
〇−アセテート クロロチオキサントン 0.2〃プリン
0.4〃実施例2 プリンの代わりにヒボキサンチン(0,4重皿部)を用
いる他は、実施例1と同様な手順で評価を行った。
実施例3
プリンの代わりにキサンチン(0,4重量部)を用いる
他は、実施例1と同様な手順で評価を行った。
他は、実施例1と同様な手順で評価を行った。
実施例4
プリンの代わりに尿酸(0,4重里部)を用いる他は、
実施例1と同様な手順で、汗両分行った。
実施例1と同様な手順で、汗両分行った。
実施例5
プリンの代わりに2−メトキシプリン(o、4重世部)
を用いる他は、実施例1と同様な手順で1汗価を行った
。
を用いる他は、実施例1と同様な手順で1汗価を行った
。
実施例6
プリンの代わりに6−メトキシプリン(0,4重■部)
を用いる他は、実施例1と同様な手順で評価を行った。
を用いる他は、実施例1と同様な手順で評価を行った。
実施例7
プリンの代わりにアデニン(0,4重量部)を用いる他
は、実施例1と同様な手順で評価を行った。
は、実施例1と同様な手順で評価を行った。
実施例8
プリンの代わりに8−メチルプリン(0,4重量部)を
用いる他は、実施例1と同様な手順で評価分行った。
用いる他は、実施例1と同様な手順で評価分行った。
実施例9
プリンの代わりに8−オキシメチルプリン(0,4屯H
1部)を用いる他は、実施例1と同様な手順で評価を行
った。
1部)を用いる他は、実施例1と同様な手順で評価を行
った。
実施例10
プリンの代わりに8−プリンカルボン酸(0,4重1汁
部)を用いる他は、実施例Iと同様な手順で評価を行っ
た。
部)を用いる他は、実施例Iと同様な手順で評価を行っ
た。
比較例1
光重合性組成物として、密着促進割分使用しない池は、
実施例1と同様な手順で評価を行った。
実施例1と同様な手順で評価を行った。
比1112例2
光重合性組成物として、プリンの代わりに、公知の密着
促進剤であるヘンゾトリアゾールヲ77?いた他は、実
施例1と同様な手順で評価を行った。
促進剤であるヘンゾトリアゾールヲ77?いた他は、実
施例1と同様な手順で評価を行った。
実施例1〜10.比較例1〜2の結果をまとめて表1に
示す。
示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 熱可塑性有機重合体バインダー、分子中に少なくとも2
個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性不飽
和化合物および光重合開始剤を主成分とし、かつ下記一
般式( I )で表わされるプリン又はその誘導体を添加
してなる光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ここでR_1、R_2は水素原子、ハロゲン、アルキ
ル基、アルコキシ基、アシル基、アミノ基、アリール基
又はアルキルエステル基である。またR_3は水素原子
、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アミノ基、ア
リール基、アルキルエステル基又はカルボン酸基である
。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2332386A JPS62180354A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2332386A JPS62180354A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62180354A true JPS62180354A (ja) | 1987-08-07 |
Family
ID=12107378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2332386A Pending JPS62180354A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62180354A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002008834A1 (en) * | 2000-07-20 | 2002-01-31 | Arch Specialty Chemicals, Inc. | Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives |
KR100415041B1 (ko) * | 1998-06-24 | 2004-01-13 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 칼라 필터용 감방사선성 조성물 |
JP2012194520A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-10-11 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 |
-
1986
- 1986-02-05 JP JP2332386A patent/JPS62180354A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100415041B1 (ko) * | 1998-06-24 | 2004-01-13 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 칼라 필터용 감방사선성 조성물 |
WO2002008834A1 (en) * | 2000-07-20 | 2002-01-31 | Arch Specialty Chemicals, Inc. | Radiation sensitive compositions containing image quality and profile enhancement additives |
JP2012194520A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-10-11 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 |
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