JPS62277405A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JPS62277405A
JPS62277405A JP12011686A JP12011686A JPS62277405A JP S62277405 A JPS62277405 A JP S62277405A JP 12011686 A JP12011686 A JP 12011686A JP 12011686 A JP12011686 A JP 12011686A JP S62277405 A JPS62277405 A JP S62277405A
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JP
Japan
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photo
group
alkyl
benzylaminopurine
photopolymerizable composition
Prior art date
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Pending
Application number
JP12011686A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiro Endo
敏郎 遠藤
Fumio Takenaka
竹中 史夫
Takeshi Funahiki
舟引 武司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Daicel Chemical Industries Ltd
Priority to JP12011686A priority Critical patent/JPS62277405A/ja
Publication of JPS62277405A publication Critical patent/JPS62277405A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/085Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は新規な光重合性組成物に関するものであり、更
に詳しくは、金属との密着性(付着性または接着性)が
改善された光重合性組成物に関する。
(従来の技術) 光重合性組成物から形成された被膜と基材との間の密着
性を改善するために、従来から多くの提案がなされてい
る。即ちプリント配線板の製造において用いられるドラ
イフィルムフ,オドレジストは、溶液型のフォトレジス
トに比軸して金属表面への密着性が弱く、二ノチングあ
るいはメッキの際に種々の好ましくない現象が発生する
。たとえば、エツチング液のスプレ一時におけるアンダ
ー力,トおよびメッキ液の浸漬時によるレジスト界面へ
のメッキ液の浸み込み等の現象が生じ、その結果、期待
する配線が得られないことがしばしば経験される。
これらの問題を解決するために、感光性樹脂層中に種々
の化合物を添加することにより、密着性の改善を目的と
して従来種々の提案がなされている。(例えば特公昭5
0−9177号、特公昭57−49894号、特公昭5
.7−26285号、特公昭54−5292号、特公昭
55−22481号、特開昭51−64919号、特開
昭51−64920号、特公昭57−46053号、特
公昭57−46054号、特公昭57−21697号、
特公昭57−40500号等参昭) (発明が解決しようとする問題点) しかし、これら従来提案された化合物は、特にフォトレ
ジストとして使用された場合には次のような欠点を示す
のである。例えば密着促進剤として公知であるベンズイ
ミダゾール、ベンゾトリアゾールなどの化合物を含む光
重合性組成物を用いた場合、現像後の基板の銅露出面の
赤変などが見られ、メッキ、エゥチング等の後加工に好
ましくない影響を与える。あるいは、密着促進剤の添加
量増加に伴い、感度低下を起こすなどの悪影響を与え5
−)3る。
また、近年プリント配線の高密度化が望まれ、そのため
に、原版の再現性が良く、高解像力であシ、かつテシテ
ィングの信頼性の高いドライフィルムフォトレジストが
必要となってきておシ、柔軟で密着力が良く、感光した
場合のラチチュードが広く、解像力が良く、現像工程の
変動に対しても安定なものであることが望まれている。
本発明の目的は、光重合性組成物の被覆材に対する上記
のよ゛うな問題点がなく、しかも金属面への密着性が改
善された光重合性組成物を提供することである。さらに
、本発明の目的は原版に対する忠実な画線像を再現し、
高解像力を発現しうる光重合性組成物を提供することに
ある。
(問題点を解決する為の手段) 本発明者等は、次のような光重合性組成物・を用いるこ
とでこれらの目的が達成されるととを見出し、本発明を
完成するに到った。
即ち、本発明は、熱可塑性有機重合体バインダー、分子
中に少なくとも2個のエチレン性不飽和二重結合を有す
る付加重合性不飽和化合物および光重合開始剤を主成分
とし、かつ下記一般式(1)で表わされる6−ベンジル
アミノプリン又はその誘導体を添加してなる光重合性組
成物。
CH,−O H Fl、    R。
(ここで、Plは水素原子、ハロゲン、水酸基、アルキ
/L/基、アルコキシ基、アミノ基又はアリール基であ
る。また、R1は、水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基又はアリール基基である。またへは水素原
子又はアルキル基である。) 本発明の上記一般式(1)で表わされる密着性に改善を
与える化合物の具体例としては、6−ベンジルアミノプ
リン、6−ベンジルアミノ−9−メチルプリル ンジルアミノプリン、6−ベンジルアミノ−2−メトキ
クプリン、6−ベンジルアミノ−8−メチルプリンが挙
げられる。
勿論上記の化合物に限定されるものではない。
また、上記化合物の含有量は、光重合性組成物の全重量
(乾燥残分)基準で、好ましくはα006〜6.0重量
%であり、さらに好ましくはα03〜25重量%である
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる熱可塑性有
機重合体バインダーとしては、例えばポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコ−
μ、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸等のビニル
モノマーの重合物及び共重合体が・例示される。その使
用量としては、光重合性組成物の全重量(乾燥残分)基
準で、好ましくはα1〜80重量%であり、さらに好ま
しくは35〜70重量%である。
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる付加重合性
不飽和化合物は分子中に少なくとも2個のエチレン性不
飽和二重結合を有するものであり、付加重合しうるもの
であれば良く、これらは1種又は2種以上の化合物を使
用することができる。例えば、アクリル酸エステル、メ
タクリル酸エステル、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アリル化合物、ビニルエーテル 的には、アクリル酸エヌテル、メタクリル酸エステルト
しては、多伍アルコールのポリアクリレート及びポリメ
タクリレート(ここで言うポリアクリレート等とはジア
クリレート以上の化合物である。)であり、多価アルコ
−μとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ネオペンチルグリコ−71z,、)リメ
チロールプロパン、ペンタエリ ス リ  ト ー ル
 、  フ゛ タ ン ジ オ ー ル 、  ト  
リ メ チ ロー7レエタンなどである。アクリルアミ
ド、メタクリルアミドとしては、メチレンビスアクリル
アミド、同メタクリルアミドの他に、エチレンジアミン
、ヘキサメチレンジアミンなどのポリアクリルアミド、
ポリメタクリルアミドが挙げられる。アリル化合物とし
ては、フタ/L/W、アジピン酸、マロン酸等のジアリ
ルエステル、ジアリルアミド、あるいはアントラキノン
ジスルホン酸、ベンゼンジスルホン酸、ナツタレンジヌ
ルホン酸のジアリルエステル、ジアリルアミド等がある
。ビニルエーテル ポリビニルエーテル、例えばエチレングリコ− ル ジ
 ビ ニ l/ エ ー テ ル 、  グ リ セ 
ロ ー ル ト リ ビ= /L/ x − ? /l
/ fx トカ6る。ビニル、エステル化合物としては
、ジビニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビニ
ルフタレートfZトカ挙げられる。
これらの中で、テトラエチレングリコ−pジアクリレー
ト、同メタクリレート等のグリコ ー ル エ ス テ
 ル 、  ペ ン タ エ リ ス リ  ト ー 
μノド  リアクリレート、同メタクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、同メタクリレート
等のアクリル系多官能性七ツマ−が好ましい。
付加重合性不飽和化合物の含有量は、光重合性組成物の
全重量(乾燥残分)基準で、好ましくは約10〜90重
量%であり、さらに好ましくは約20〜SS@@%であ
る。
本発明の組成物に好適に用いられる光重合開始剤として
は、エチレン性不飽和化合物の重合に適する開始剤が良
く、アクリル系多官能性モノマーに対しては、アントラ
キノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアント
ラキノン等のアントラキノン誘導体、ベンゾイン、ベン
ゾインエーテル、ベンゾインイソプロヒルエーテル等の
ベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノン、アセト
フェノン、、フェナントレンキノン、オキンムエステル
アミノフェニルケトン、チオキサントン等が単独あるい
は組み合わせて使用される。
光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は好ましくは
光重合性組成物の総重量(乾燥残分)基準でα006〜
6.0重量%でちゃ、さらに好ましくは0.06〜3.
 0重量%である。
本発明の光重合性組成物は、上述の如く熱可塑性有機重
合体バインダー、エチレン性不飽和化合物、光重合開始
剤および密着性を改善する化合物を必須成分とするが、
必要に応じて熱重合禁止剤やレジストを確認しやすくす
るために染料、顔料、可塑剤などを使用してもよい。
本発明の光重合性組成物は、フォトレジストの形成に有
用な組成物であるが、必ずしもこの用途に限定されるも
のではなく、UVインキ、ソルダーレジスト、印刷版、
紫外線硬化塗料、紫外線硬化接着剤などにも応用できる
(実施例) 以下、実施例および比較例を示して、本発ぽ壷5明する
実施例 1 下記に示す化合物を、溶媒としてメチルエチルケトンを
用い配合した。この配合液ヲ、ポリエステルフィルム上
にアプリケーターを用い塗工し、乾燥(75°C115
m1n )  することにより厚さ50μmの光重合性
組成物を得た。
トリメチロールプロパントリアクリレート312重量部 テトラエチレングリコールジアクリレート25.0重量
部 p−メチルアセトフェノンオキシム−〇−アセテート 3、0重量部 2−クロロチオキサントン  0.2 重41 m6−
ベンジルアミノプリン  0.4〃実施例 2 下記に示す化合物を、溶媒としてメチルエチルケトンを
用い配合した。この配合液をポリエステルフィルム上に
アプリケーターを用い塗工し乾燥(75℃、1 s m
1n)することにより厚さ50μmの光重合性組成物を
得た。
メ タ り リ ル酸 20wt% 、  ア り リ
 ル 酸 エ チ ル20wt%、メタクリル酸プロピ
z+/60wt%の共重合体        100重
量部トリメチロールプロパントリアクリレート60重量
部 2−クロロチオキサントン  LO/J6−ベンジルア
ミノプリン  α4 〃比較例 配合物に、密着促進剤を添加しない池は、実施例1と同
様な手順で光重合性組成物を得た。
(実施態様) 実施例および比較例において、以下の手法。
で解1蒙力硬化後の密着性評価を行った。
(解像力) 実施例の項で得た光重合性組成物を銅板に加圧、加P、
@層した。得られた積層体に細線パターンマスクを使用
し、超高圧水銀ランプにより、数水準の露光量で露光し
た。次にクロロセン(実施例1、比較例)おるいは1%
炭酸水素ナトリウム水溶e!、(実施例2)で現像を行
い、レジストの細線が形成されたそのレジスト・福を読
むことで解像力を求めた。
(硬化後の密着性評価) 実施例の項で得た光重合性組成物を銅張り@層板に加圧
、加熱積層した。
この積層体に細、@パターンマスクを使用し、超高圧水
銀ランプにより2水準の露光量(60゜100m江/d
)で露光した。
次にクロロセン(実施例1、比較例)あるいは1%炭酸
水素す) IJウム水溶液(実施例2)で現像を行った
。得られたレジヌトパターン基板を水酸化カリウム水溶
液(pH10,60℃)に1時間浸漬し、風乾させた。
その後レジストパターン基板の状態変化(レジスト表面
での色変化、形成された細線部における水酸化カリウム
水溶液の浸み込み、銅界面におけるレジストのハガレ、
ブツ状など)を観察することで密着性の評価を行った。
実施例1,2、比較例で得た光重合性組成物の評価結果
を表1に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 熱可塑性有機重合体バインダー、分子中に少なくとも2
    個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性不飽
    和化合物および光重合開始剤を主成分とし、かつ下記一
    般式( I )で表わされる6−ベンジルアミノプリン又
    はその誘導体を添加してなる光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ここで、R_1は水素原子、ハロゲン、水酸基、アル
    キル基、アルコキシ基、アミノ基又はアリール基である
    。また、R_2は水素原子、アルキル基、アルコキシ基
    、アミノ基又はアリール基である。またR_3は水素原
    子又はアルキル基である。)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102375336A (zh) * 2010-08-05 2012-03-14 旭化成电子材料株式会社 感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法及半导体装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102375336A (zh) * 2010-08-05 2012-03-14 旭化成电子材料株式会社 感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法及半导体装置

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